一种新型扩散炉，包括长筒状结构的炉体、内置于炉体内的置放架，炉体的左右两端分别连接有进气管和出气管，置放架包括左右两端的支撑座、固定在两支撑座之间的支撑杆和限位杆，支撑杆的两端固定在支撑座的下部分，支撑杆的上端面开有间隔设置的定位槽，限位杆分别固定在支撑座的左右边，所述限位杆的内侧面上开有限位槽，限位槽的位置、数量与定位槽相对应，置放架至少两个并在炉体呈纵向摆放。本实用新型专利技术结构设计合理，增加炉体内可放置硅片的数量，同时硅片的放置更加合理，对硅片表面扩散更加均匀，有利于广泛推广。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种新型扩散炉。
技术介绍
目前在对硅片扩散工艺中，是将一排硅片放在置放架上，置放架横向放入扩散炉中，这样扩散炉一次性放入的硅片较少，而且硅片的表面与扩散炉进气方向垂直，进气方向的硅片遮挡了后部分的硅片，导致对硅片表面扩散不均匀。
技术实现思路
本技术要解决上述现有技术存在的问题，提供一种新型扩散炉，结构设计合理，可容纳更多的硅片，并且对硅片表面扩散分布均匀。本技术解决其技术问题采用的技术方案:这种新型扩散炉，包括长筒状结构的炉体、内置于炉体内的置放架，炉体的左右两端分别连接有进气管和出气管，置放架包括左右两端的支撑座、固定在两支撑座之间的支撑杆和限位杆，支撑杆的两端固定在支撑座的下部分，支撑杆的上端面开有间隔设置的定位槽，限位杆分别固定在支撑座的左右边，所述限位杆的内侧面上开有限位槽，限位槽的位置、数量与定位槽相对应，置放架至少两个并在炉体呈纵向摆放。为了进一步完善，定位槽内设有向外凸起的弧形凸点。这样避免硅片与定位槽面接触，防止定位槽遮挡硅片表面。进一步完善，限位槽内设有向外凸起的弧形凸点。这样避免硅片与限位槽面接触，防止限位槽遮挡硅片表面。进一步完善，限位杆的侧边开有连通限位槽的通孔。这样可以减少限位杆对气体的遮挡。进一步完善，通孔的内径由内之外逐渐变大。进一步完善，定位槽与限位槽形成的定位方向向一侧倾斜。进一步完善，定位槽与限位槽的槽口设有导向口。便于娃片插入定位槽与限位槽中。 进一步完善，支撑座包括支撑板，支撑板的中间开有空槽，支撑板底部的左右两边设有支撑脚，支撑板的顶部固定有加强杆。这样设计合理，结构牢固。本技术有益的效果是:本技术结构设计合理，增加炉体内可放置硅片的数量，同时硅片的放置更加合理，对硅片表面扩散更加均匀，有利于广泛推广。【附图说明】图1为本技术的结构示意图；图2为本技术中置放架的侧视图；图3为本技术中置放架的立体结构图。附图标记说明:炉体1，置放架2，进气管3，出气管4，支撑座5，支撑板5_1，空槽5-2，支撑脚5-3，加强杆5-4，支撑杆6，定位槽6_1，限位杆7，限位槽7_1，导向口 8。【具体实施方式】下面结合附图对本技术作进一步说明:参照附图:本实施例中新型扩散炉，包括长筒状结构的炉体1、内置于炉体I内的置放架2，炉体I的左右两端分别连接有进气管3和出气管4，置放架2包括左右两端的支撑座5、固定在两支撑座5之间的支撑杆6和限位杆7，支撑杆6的两端固定在支撑座5的下部分，支撑杆6的上端面开有间隔设置的定位槽6-1，所述限位杆7分别固定在支撑座5的左右边，限位杆7的内侧面上开有限位槽7-1，限位槽7-1的位置、数量与定位槽6-1相对应，置放架2至少两个并在炉体I呈纵向摆放。其中定位槽6-1内设有向外凸起的弧形凸点。限位槽7-1内设有向外凸起的弧形凸点。其中限位杆7的侧边开有连通限位槽7-1的通孔7-2。通孔7_2的内径由内之外逐渐变大。其中定位槽6-1与限位槽7-1形成的定位方向向一侧倾斜。定位槽6-1与限位槽7-1的槽口设有导向口 8。其中支撑座5包括支撑板5-1，支撑板5-1的中间开有空槽5_2，支撑板5_1底部的左右两边设有支撑脚5-3，支撑板5-1的顶部固定有加强杆5-4。虽然本技术已通过参考优选的实施例进行了图示和描述，但是，本专业普通技术人员应当了解，在权利要求书的范围内，可作形式和细节上的各种各样变化。【主权项】1.一种新型扩散炉，包括长筒状结构的炉体(1)、内置于炉体(I)内的置放架(2)，炉体(I)的左右两端分别连接有进气管(3)和出气管(4)，其特征是:所述置放架(2)包括左右两端的支撑座(5)、固定在两支撑座(5)之间的支撑杆(6)和限位杆(7)，支撑杆(6)的两端固定在支撑座(5)的下部分，所述支撑杆￠)的上端面开有间隔设置的定位槽￠-1)，所述限位杆(7)分别固定在支撑座(5)的左右边，所述限位杆(7)的内侧面上开有限位槽(7-1)，限位槽(7-1)的位置、数量与定位槽(6-1)相对应，所述置放架(2)至少两个并在炉体⑴呈纵向摆放。2.根据权利要求1所述的新型扩散炉，其特征是:所述定位槽(6-1)内设有向外凸起的弧形凸点。3.根据权利要求1所述的新型扩散炉，其特征是:所述限位槽(7-1)内设有向外凸起的弧形凸点。4.根据权利要求1所述的新型扩散炉，其特征是:所述限位杆(7)的侧边开有连通限位槽(7-1)的通孔(7-2)。5.根据权利要求4所述的新型扩散炉，其特征是:所述通孔(7-2)的内径由内之外逐渐变大。6.根据权利要求1所述的新型扩散炉，其特征是:所述定位槽(6-1)与限位槽(7-1)形成的定位方向向一侧倾斜。7.根据权利要求1所述的新型扩散炉，其特征是:所述定位槽(6-1)与限位槽(7-1)的槽口设有导向口(8)。8.根据权利要求1所述的新型扩散炉，其特征是:所述支撑座(5)包括支撑板(5-1)，支撑板(5-1)的中间开有空槽(5-2)，支撑板(5-1)底部的左右两边设有支撑脚(5-3)，支撑板(5-1)的顶部固定有加强杆(5-4)。【专利摘要】一种新型扩散炉，包括长筒状结构的炉体、内置于炉体内的置放架，炉体的左右两端分别连接有进气管和出气管，置放架包括左右两端的支撑座、固定在两支撑座之间的支撑杆和限位杆，支撑杆的两端固定在支撑座的下部分，支撑杆的上端面开有间隔设置的定位槽，限位杆分别固定在支撑座的左右边，所述限位杆的内侧面上开有限位槽，限位槽的位置、数量与定位槽相对应，置放架至少两个并在炉体呈纵向摆放。本技术结构设计合理，增加炉体内可放置硅片的数量，同时硅片的放置更加合理，对硅片表面扩散更加均匀，有利于广泛推广。【IPC分类】H01L21-67【公开号】CN204441262【申请号】CN201520230488【专利技术人】朱良新 【申请人】浙江波力胜新能源科技有限公司【公开日】2015年7月1日【申请日】2015年4月16日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种新型扩散炉，包括长筒状结构的炉体(1)、内置于炉体(1)内的置放架(2)，炉体(1)的左右两端分别连接有进气管(3)和出气管(4)，其特征是：所述置放架(2)包括左右两端的支撑座(5)、固定在两支撑座(5)之间的支撑杆(6)和限位杆(7)，支撑杆(6)的两端固定在支撑座(5)的下部分，所述支撑杆(6)的上端面开有间隔设置的定位槽(6‑1)，所述限位杆(7)分别固定在支撑座(5)的左右边，所述限位杆(7)的内侧面上开有限位槽(7‑1)，限位槽(7‑1)的位置、数量与定位槽(6‑1)相对应，所述置放架(2)至少两个并在炉体(1)呈纵向摆放。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱良新，
申请(专利权)人：浙江波力胜新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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