粘合剂涂布装置与构件清洁法及显示面板制造装置与方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种粘合剂涂布装置与构件清洁法及显示面板制造装置与方法。所述粘合剂涂布装置(10)包括：作为粘合剂涂布构件的狭缝涂布机(12)，供给粘合剂(R)且从设置于前端的喷嘴(12b)对基板涂布粘合剂(R)；以及清洁构件(14)，与狭缝涂布机(12)相向配置，狭缝涂布机(12)朝向清洁构件(14)的表面而在垂直方向上移动，使附着于喷嘴(12b)的前端的液滴(D)与清洁构件(14)的表面接触，使液滴(D)流动，且以从清洁构件(14)的表面离开的方式在垂直方向上移动，而将液滴(D)从喷嘴(12b)前端去除。本发明专利技术的方案能降低因喷嘴或清洁构件的摩擦或产生灰尘而引起的消耗。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种粘合剂涂布装置、粘合剂涂布构件的清洁方法及显示面板制造装 置、显示面板的制造方法。
技术介绍
液晶显示器或有机电致发光（electroluminescence, EL)显示器等中使用的显示 面板为如下构成，即，例如在液晶面板或有机EL面板等显示用面板上，积层操作用的触摸 屏、对表面加以保护的保护面板（罩面板）等。所述基板例如通过对一基板涂布粘合剂而 将两个基板加以积层，从而进行贴合。因此，显示面板制造装置包括粘合剂的涂布部与基板 的贴合部。 涂布部包括粘合剂涂布装置。粘合剂涂布装置有各种类型，在对平板状的基板涂 布粘合剂的情况下，作为一例，使用狭缝涂布机。狭缝涂布机包括具有与基板的短边的尺寸 相应的全长的涂布头，在该涂布头的前端设置着狭缝喷嘴。一边从狭缝喷嘴喷出粘合剂，一 边使涂布头沿基板在长边方向上移动，由此可将黏合剂以均匀的厚度涂布于基板上。 即便涂布结束后，停止从狭缝喷嘴喷出粘合剂，有时也会因残余压力或粘合剂的 粘度、表面张力，而在喷嘴前端残留粘合剂的液滴。此种粘合剂的残留成为下一次涂布开始 时的喷出量的差异的因素。如果在该状态下对基板进行涂布作业，则存在产生涂布不均的 可能性。因此，需要进行喷嘴的清洁。在进行喷嘴的清洁时，有如下方法：将喷嘴强而有力 地按压到板状的清洁构件，使清洁构件在水平方向上移动而擦去液滴；或者将按照狭缝喷 嘴的形状成型的高分子树脂的清洁构件按压到喷嘴，使清洁构件沿着喷嘴在水平方向上移 动而擦去液滴。 日本专利特开平7-168015号公报
技术实现思路
在所述从喷嘴擦去液滴的方法中，不仅会在喷嘴与清洁构件之间因摩擦而消耗清 洁构件，还会因滑动而产生灰尘，且存在该尘埃或灰尘附着于喷嘴前端的可能性。如果如所 述尘埃或灰尘般的异物存在于喷嘴前端，则该喷嘴前端的有异物存在的部分的粘合剂的喷 出状态与对基板的涂布状态，会变成与没有异物存在的部分的粘合剂的喷出状态与对基板 的涂布状态不同（无法成为均一），因而容易成为条状的涂布不均。此外，通过将擦去作业 重复进行多次，而清洁构件上也会大范围地附着粘合剂，如果在该状态下按压喷嘴，则也存 在附着于清洁构件的粘合剂向喷嘴移动从而污染喷嘴前端的可能性。 本专利技术是为了解决所述问题而提出，其目的在于提供粘合剂涂布装置、粘合剂涂 布构件的清洁方法、显示面板制造装置及显示面板的制造方法，所述粘合剂涂布装置可利 用减少摩擦或产生灰尘的方法来清洁涂布头的喷嘴，可防止消耗喷嘴或清洁构件，且可确 实地去除喷嘴前端的液滴。为了达成所述目的，本专利技术的粘合剂涂布装置包括：粘合剂涂布构件，供给粘合剂 且从设置于前端的喷嘴对基板涂布粘合剂；以及清洁构件，与所述粘合剂涂布构件相向配 置，使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动，使附着于 所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使该液滴流动，以从所述清洁构 件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动，将所述液滴从所述喷嘴前端去除。 作为本专利技术的一形态，所述粘合剂涂布构件也可使所述喷嘴不与所述清洁构件接 触而仅使附着于喷嘴前端的液滴与所述清洁构件接触。 作为本专利技术的一形态，所述粘合剂涂布构件也可使所述喷嘴前端与所述清洁构件 接触。 作为本专利技术的一形态，所述粘合剂涂布构件也可使附着于所述喷嘴前端的液滴与 所述清洁构件接触多次。 作为本专利技术的一形态，所述粘合剂涂布构件与所述清洁构件也可在所述液滴每次 接触时相对地移动，更新所述清洁构件的与所述液滴的接触面。 作为本专利技术的一形态，宜使所述粘合剂涂布构件与所述清洁构件的相对地移动的 距离根据所述液滴与所述清洁构件的接触次数而可变。 作为本专利技术的一形态，所述粘合剂涂布构件宜在所述清洁构件与所述液滴接触 后，使液滴再次与所述液滴的一部分所附着的所述清洁构件的表面接触。 作为本专利技术的一形态，也可在粘合剂涂布装置设置粘合剂去除构件，所述粘合剂 去除构件从横切方向与从所述喷嘴前端下垂的液滴接触，使所述液滴的一部分流动并从所 述喷嘴前端去除。 作为本专利技术的一形态，也可在粘合剂涂布装置设置擦拭构件，所述擦拭构件在所 述清洁构件的表面滑动，将附着于所述清洁构件的粘合剂擦拭。 作为本专利技术的一形态，粘合剂涂布装置还包括：涂布单元，具备照射能量的照射单 元，所述能量使利用所述粘合剂涂布构件涂布的粘合剂临时硬化；以及清洁单元，配置着所 述清洁构件，所述粘合剂涂布构件能够在所述涂布单元与所述清洁单元之间移动，在所述 涂布单元与所述清洁单元之间设置着规定间隔，所述规定间隔为如下距离，即，所述涂布单 元的临时硬化的能量未到达已移动到所述清洁单元内的所述粘合剂涂布构件。 作为本专利技术的一形态，粘合剂涂布装置还包括：涂布单元，具备照射能量的照射单 元，所述能量使利用所述粘合剂涂布构件涂布的粘合剂临时硬化；以及清洁单元，配置着所 述清洁构件，所述粘合剂涂布构件能够在所述涂布单元与所述清洁单元之间移动，在所述 涂布单元与所述清洁单元之间也可设置着可开闭的遮光构件。 作为本专利技术的一形态，粘合剂涂布装置还包括鼓风机，所述鼓风机与所述粘合涂 布构件靠近地配置，将附着于所述喷嘴前端的液滴朝向所述清洁构件吹送。 作为本专利技术的一形态，也可对所述喷嘴前端部实施抗液（liquid-r印ellent)处 理。 作为本专利技术的一形态，粘合剂涂布装置也可包括粘度降低部件，所述粘度降低部 件使附着于所述粘合剂涂布构件的喷嘴前端的粘合剂的液滴的粘度降低。 作为本专利技术的一形态，所述粘度降低部件也可为对附着于所述喷嘴前端的粘合剂 的液滴进行加热的加热部件。 作为本专利技术的一形态，也可在使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁 构件表面接触时，所述加热部件对所述液滴进行加热。 作为本专利技术的一形态，所述加热部件也可对所述清洁构件进行加热。 本专利技术的清洁方法是粘合剂涂布构件的清洁方法，所述粘合剂涂布构件供给粘合 剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布粘合剂，将清洁构件与所述粘合剂涂布构件相向配 置，使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动，使附着于 所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触，且以从所述清洁构件表面离开的 方式在垂直方向上相对地移动，使所述液滴从所述喷嘴前端向所述清洁构件流动而从所述 喷嘴前端去除。 本专利技术的制造装置是显示面板的制造装置，所述显示面板是将包含显示用面板的 一对基板经由粘合剂贴合而成，所述制造装置包括：涂布部，对所述一对基板的至少一基 板的表面涂布所述粘合剂；贴合部，将所述一对基板利用所述涂布的粘合剂贴合；硬化部， 使所述贴合部中贴合的所述一对基板的所述粘合剂硬化；以及搬送部，将所述一对基板在 所述涂布部、所述贴合部及所述硬化部之间进行搬送，所述涂布部包括：粘合剂涂布构件， 供给所述粘合剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布所述粘合剂；以及清洁构件，与所述粘 合剂涂布构件相向配置，所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对 地移动，使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使所述液滴流 动，且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动，而将所述液滴从所述 喷嘴前端去除。 本专利技术的制造方法是经由粘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粘合剂涂布装置，其特征在于包括：粘合剂涂布构件，供给粘合剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布粘合剂；以及清洁构件，与所述粘合剂涂布构件相向配置，使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动，使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使所述液滴流动，且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动，将所述液滴从所述喷嘴前端去除。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田辺昌平，西垣寿，池下雄介，泷泽洋次，
申请(专利权)人：芝浦机械电子装置株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP