一种支撑脚装置制造方法及图纸

技术编号:11662933 阅读:85 留言:0更新日期:2015-06-29 18:04
本发明专利技术公开了一种支撑脚装置,包括支撑环及沿支撑环圆周上方滑槽安装的若干支撑脚本体,支撑脚本体与支撑环之间通过磁性接触方式形成软性连接,可沿支撑环圆周任意调节安装位置及对心距离,避免机械手在触碰时造成损坏;采用环形支撑面结构,使支撑面相对后移,可缩小支撑环直径,避免晶片从支撑环的内径处跌落,并可实现360度自动对心。本发明专利技术具有结构简单、易实现、可不受设备结构限制、节省设备空间的显著优点。

【技术实现步骤摘要】
一种支撑脚装置
本专利技术涉及半导体晶片工艺设备
,特别是涉及一种可调节位置及自动对心的支撑脚装置。
技术介绍
支撑脚装置用于摆放晶片,以方便机械手对晶片进行取片。支撑脚装置一般包括圆环形支撑环和沿支撑环圆周安装的若干支撑脚。圆盘形晶片水平摆放在各支撑脚的支撑面上,机械手可从二个支撑脚之间拾取晶片。现有的支撑脚装置通常都是半开放式的,只能调节支撑脚到圆心的前后距离。这种支撑脚装置只需在支撑环上开设相应的对心槽即可实现支撑脚的对心及位置调整,但在实际应用中尚存在一定的局限性。比如,在半导体行业,根据设备本身的结构,机械手的活动空间会受到一定的限制,取片时可能会由于支撑脚的安装位置不当,或者由于调试中对机械手的误操作,导致机械手出现撞车(即触碰到支撑脚)的情况,严重时还将造成机械手的损坏。公告号为CN102840425B的中国专利技术专利公开了一种支撑脚装置,其通过可沿支撑环圆周调节安装位置的若干支撑脚本体,来支撑放置在其上的晶片。该装置的设计形式虽然可方便地通过调整支撑脚本体在支撑环圆周的位置,来满足机械手的进手空间,以便于机械手操作,但同时也存在明显的问题:1)支撑脚本体在安装后(通过紧固件),位置即被固定不能移动,在调试中一旦发生机械手撞车的情况,极易损坏机械手;2)由于晶片支撑面位于支撑脚本体的前端,而与支撑环的装配位置位于支撑脚本体的后端,使得支撑环的内径大于晶片的外径尺寸,这会增加设备的空间。并且,在机械手故障或调试中,当发生机械手抓取晶片不牢或偏差时,还会导致晶片滑出支撑面而从支撑环的内径处落地破碎;3)此外,该装置各部件的结构也较复杂,造成加工难度大为提高,会带来设备制造成本的增加。在上述情况下,如果机械手一旦触碰到支撑脚时,支撑脚能够沿着所在的支撑环相对自由地滑动或移动,那么即使出现撞车的情况,也不会损坏机械手;同时,如果将支撑脚的支撑位置后移以及简化各部件的结构,也可以节省设备本身的空间及制造成本。因此,针对现有技术存在的支撑脚单一性安装方式的上述缺陷,有必要设计一种新型的支撑脚装置。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷,提供一种新型的支撑脚装置,可克服现有技术中支撑脚单一性安装方式的缺陷。为实现上述目的,本专利技术的技术方案如下:一种支撑脚装置,包括:支撑环,沿其圆周设有向上开口的环形滑槽,所述滑槽内固设第一磁性体,所述第一磁性体低于所述滑槽槽口;支撑脚本体,沿所述支撑环圆周设置,数量为至少三个,所述支撑脚本体为圆柱体,其上表面具有环形晶片支撑面,其下表面固接第二磁性体,所述第二磁性体下端伸入所述滑槽内,并接触所述第一磁性体形成磁性连接,所述支撑面的中心设有圆锥台;其中,所述第一、第二磁性体之间的极性相反,所述支撑脚本体可通过所述第二磁性体沿所述滑槽移动,所述第二磁性体与所述滑槽之间在槽宽方向留有间隙,以通过所述第二磁性体在所述滑槽的宽度方向内调整其与所述第一磁性体之间的接触位置,来调整所述支撑面与所述支撑环之间的中心距离。优选地,所述第一磁性体在所述滑槽内为连续的环形。优选地,所述第一磁性体在所述滑槽内为间断的环形。优选地,所述第二磁性体为圆柱形或具有与所述滑槽相配合的弧形。优选地,所述支撑脚本体的下表面设有槽孔,所述第二磁性体的上端通过镶嵌方式或螺钉连接方式固定在所述槽孔内。优选地,所述第二磁性体与所述滑槽之间在槽宽方向留有的间隙距离大于所述第二磁性体下端伸入所述滑槽内的高度距离。优选地,所述第二磁性体的下端外周具有倒角。优选地,所述磁性体为磁铁。优选地,所述支撑面为平面或斜面。从上述技术方案可以看出,本专利技术通过磁性接触方式形成支撑脚本体与支撑环之间的软性连接,既可根据需要方便地沿支撑环圆周任意调节安装位置及对心距离,又可使支撑脚本体在受到机械手触碰时沿滑槽产生滑动或脱离滑槽,从而避免了机械手的损坏;采用环形支撑面结构,使支撑面相对后移,可缩小支撑环的直径,避免晶片从支撑环的内径处跌落,并可实现360度自动对心。因此,本专利技术克服了现有技术中支撑脚单一性安装方式的缺陷,具有结构简单、易实现、可不受设备结构限制、节省设备空间的显著优点。附图说明图1是本专利技术一实施例的一种支撑脚装置的装配效果结构示意图;图2是本专利技术一实施例的一种支撑脚装置的装配效果断开剖面结构示意图;图3是本专利技术一实施例的支撑环外形结构示意图;图4是本专利技术一实施例的支撑环断开剖面结构示意图;图5是本专利技术一实施例的支撑脚本体外形结构示意图;图6是本专利技术一实施例的支撑脚本体剖面结构示意图。具体实施方式下面结合附图,对本专利技术的具体实施方式作进一步的详细说明。需要说明的是,在下述的具体实施方式中,在详述本专利技术的实施方式时,为了清楚地表示本专利技术的结构以便于说明,特对附图中的结构不依照一般比例绘图,并进行了局部放大、变形及简化处理,因此,应避免以此作为对本专利技术的限定来加以理解。在以下本专利技术的具体实施方式中,请参阅图1,图1是本专利技术一实施例的一种支撑脚装置的装配效果结构示意图。如图1所示,本专利技术的支撑脚装置包括支撑环200及沿支撑环200圆周上方安装的若干支撑脚本体100。圆形晶片300的边部放置在位于各个支撑脚本体100之间的支撑脚本体100上端的支撑面上。机械手将可从二个间距较大的支撑脚本体100之间的开档位置进行取片。为了保证承载晶片300时的平稳,作为不同的可选实施方式,所述支撑脚本体100的数量至少为三个,并沿支撑环200的圆周上方间距安装。考虑到需要为机械手保留足够的进手空间,在本实施例中,优选采用间距安装的三个支撑脚本体100。各支撑脚本体100的具体安装位置,可根据机械手的进手空间要求,在设备调试过程中来确定。请参阅图3,图3是本专利技术一实施例的支撑环外形结构示意图。如图3所示,支撑环200为圆环形,沿支撑环200的圆周方向加工有向上开口的环形滑槽2001。所述滑槽2001的一个用途是在其内部放置第一磁性体。并且,第一磁性体是沿着滑槽2001的环形圆周进行放置的。作为可选的实施方式,所述第一磁性体在所述滑槽2001内可以是连续或间断的环形。也就是说,可以采用一个与滑槽2001相配合的圆环形第一磁性体,并将其放置在滑槽2001内;也可以采用若干与滑槽2001相配合的弧形块状的第一磁性体,依次放入滑槽2001内(相互间可接触或不接触),形成间断的环形第一磁性体。所述第一磁性体可采用镶嵌、胶粘等方式固定安装在滑槽2001内。请参阅图4,图4是本专利技术一实施例的支撑环断开剖面结构示意图。如图4所示,第一磁性体201被固定在支撑环200的滑槽2001底部,且第一磁性体201的上表面低于所述滑槽2001的槽口端面。即第一磁性体201与滑槽2001的槽口具有一个垂直高度距离t,这个高度t的空间用于与支撑脚本体100之间进行配合安装(详见后续说明)。作为可选的实施方式,位于第一磁性体201上方部分滑槽2001的槽宽可以适当加宽,例如图示的滑槽2001在第一磁性体201的上方具有大于第一磁性体201宽度的较宽槽宽。这个加宽的槽宽位置,将用于调节支撑脚本体100与支撑环200之间的中心距离(详见后续说明)。请参阅图5,图5是本专利技术一实施例的支撑脚本体外形结构示意图。如图5所示,支撑脚本体100为圆柱体,其上表面加工本文档来自技高网
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一种支撑脚装置

【技术保护点】
一种支撑脚装置,其特征在于,包括:支撑环,沿其圆周设有向上开口的环形滑槽,所述滑槽内固设第一磁性体,所述第一磁性体低于所述滑槽槽口;若干支撑脚本体,沿所述支撑环圆周设置,所述支撑脚本体为圆柱体,其上表面具有环形晶片支撑面,其下表面固接第二磁性体,所述第二磁性体下端伸入所述滑槽内,并接触所述第一磁性体形成磁性连接,所述支撑面的中心设有圆锥台;其中,所述第一、第二磁性体之间的极性相反,所述支撑脚本体可通过所述第二磁性体沿所述滑槽移动,所述第二磁性体与所述滑槽之间在槽宽方向留有间隙,以通过所述第二磁性体在所述滑槽的宽度方向内调整其与所述第一磁性体之间的接触位置,来调整所述支撑面与所述支撑环之间的中心距离。

【技术特征摘要】
1.一种支撑脚装置,其特征在于,包括:支撑环,沿其圆周设有向上开口的环形滑槽,所述滑槽内固设第一磁性体,所述第一磁性体低于所述滑槽槽口;支撑脚本体,沿所述支撑环圆周设置,数量为至少三个,所述支撑脚本体为圆柱体,其上表面具有环形晶片支撑面,其下表面固接第二磁性体,所述第二磁性体下端伸入所述滑槽内,并接触所述第一磁性体形成磁性连接,所述支撑面的中心设有圆锥台;其中,所述第一、第二磁性体之间的极性相反,所述支撑脚本体可通过所述第二磁性体沿所述滑槽移动,所述第二磁性体与所述滑槽之间在槽宽方向留有间隙,以通过所述第二磁性体在所述滑槽的宽度方向内调整其与所述第一磁性体之间的接触位置,来调整所述支撑面与所述支撑环之间的中心距离。2.根据权利要求1所述的支撑脚装置,其特征在于,所述第一磁性体在所述滑槽内为连续的环形。...

【专利技术属性】
技术研发人员:李广义
申请(专利权)人:北京七星华创电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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