曝光装置、掩模及光学膜制造方法及图纸

曝光装置变得复杂。一种曝光装置，其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部，所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材；所述第一偏振光输出部朝向取向膜，输出第一偏振光方向的第一偏振光；所述第二偏振光输出部配置于输送方向上比第一偏振光输出部靠下游侧，朝向取向膜输出第二偏振光方向的第二偏振光，所述第二偏振光方向以小于90°的角度与第一偏振光方向交叉；所述第一掩模部配置于基材与第一偏振光输出部之间，形成有使对取向膜进行曝光的第一偏振光透过的第一开口部，并对第一偏振光进行遮光；所述第二掩模部配置于基材与第二偏振光输出部之间，形成有使对取向膜进行曝光的第二偏振光透过的第二开口部，并对第二偏振光进行遮光；第一开口部及第二开口部形成为对具有取向膜的某个区域进行重复曝光；第一开口部包含使第一偏振光朝向区域透过的第一开口区域；第二开口部包含使第二偏振光朝向区域透过的第二开口区域。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置、掩模及光学膜
本专利技术涉及一种曝光装置、掩模及光学膜。
技术介绍
已知通过掩模以不同偏振光对取向膜的多个区域进行曝光的曝光装置(例如，参照专利文献1、非专利文献1)。(专利文献1)美国专利申请公开第2011/0217638号说明书，(非专利文献1)HubertSeiberle及另外两人，“光取向各向异性光学薄膜(Photo-AlignedAnisotropicOpticalThinFilms)”，技术论文之SID研讨会文摘(SIDSymposiumDigestofTechnicalPapers)，美国，信息显示学会(SocietyforInformationDisplay)，2012年7月5日，第34卷,第1期,第1162-1165页。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题但是，上述的曝光装置中，在形成复杂图案的情况下，由于图案数量增加，因此存在曝光装置的结构变得复杂这样的技术问题。(二)技术方案在本专利技术的第一方面中，提供一种曝光装置，其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部，所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材；所述第一偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，输出具有第一偏振光方向的第一偏振光；所述第二偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，配置在所述输送方向上比所述第一偏振光输出部靠下游侧，输出具有第二偏振光方向的第二偏振光，所述第二偏振光方向以小于90°的角度与所述第一偏振光方向交叉；所述第一掩模部配置于所述基材与所述第一偏振光输出部之间，形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第一偏振光透过的第一开口部，并对所述第一偏振光进行遮光；所述第二掩模部配置于所述基材与所述第二偏振光输出部之间，形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第二偏振光透过的第二开口部，并对所述第二偏振光进行遮光；所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的某个区域进行重复曝光，所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域，所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域。在本专利技术的第二方面中，提供一种掩模，其配置在向形成有取向膜的基材输出的第一偏振光，以及以小于90°的角度与所述第一偏振光交叉的第二偏振光的光路上；具备第一掩模部及第二掩模部，所述第一掩模部配置在所述第一偏振光的光路上，形成有使所述第一偏振光透过的第一开口部，对所述第一偏振光进行遮光；所述第二掩模部配置在所述第二偏振光的光路上，形成有使所述第二偏振光透过的第二开口部，对所述第二偏振光进行遮光；所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的某个区域进行重复曝光，所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域，所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域。在本专利技术的第三方式中，提供一种通过利用上述的曝光装置进行曝光而制造的光学膜。另外，上述专利技术的概要并没有列举出本专利技术的全部必要特征。此外，这些特征群的子组合也能够成为专利技术。附图说明图1是通过本实施方式的曝光装置制造的光学膜100的俯视图。图2是沿图1的II-II线的光学膜100的剖视图。图3是设置有光学膜100的调光窗部件对300的分解立体图。图4是说明调光窗部件对300的功能的图。图5是说明调光窗部件对300的功能的图。图6是曝光装置10的整体结构图。图7是曝光部18的放大图。图8是掩模39的仰视图。图9是沿图8的IX-IX线的第一掩模38的纵剖视图。图10是说明在第一偏振光94及第二偏振光96的曝光量相同的情况下，取向膜120的取向方向的图。图11是说明在第一偏振光94的曝光量E1少于第二偏振光96的曝光量E2的情况下，取向膜120的取向的图。图12是说明变更的掩模139的仰视图。图13是说明变更的掩模239的仰视图。图14是对图13中的位置Pa、Pb、Pc、Pd、Pe的取向方向进行说明的图表。图15是说明变更的曝光部418的图。图16是说明掩模439的仰视图。图17是使用图16所示掩模439被取向的光学膜500的照片。图18是说明掩模1439的仰视图。图19是变更的曝光部618的结构图。另外，对与上述结构相同的结构标上相同的附图标记并省略说明。图20是变更的另一曝光部718的结构图。图21是变更的另一曝光部818的结构图。图22是说明偏振光方向与取向膜的光学轴间的关系的图。图23是发挥摄像装置等中适用的低通滤波器功能的光学膜2300的俯视图。图24是沿图23的A-A线的光学膜2300的剖视图。具体实施方式下面，通过专利技术的实施方式对本专利技术进行说明，但以下的实施方式并不限定权利要求书所涉及的专利技术。此外，在实施方式中所说明的特征的所有组合对于专利技术的解决方法不一定是必须的。图1是通过本实施方式的曝光装置制造的光学膜100的俯视图。图1中将箭头所示的长度方向及宽度方向作为光学膜100的长度方向及宽度方向。另外，光学膜100在长度方向上的长度可以短于光学膜100在宽度方向上的长度。光学膜100形成为一边为数厘米(cm)至数米(m)的四边形。如图1所示，光学膜100具有多个第一偏振光调制部102、多个第二偏振光调制部104及多个第三偏振光调制部106。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106在俯视上形成为大致相同形状。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106形成为沿长度方向延伸的长方形。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106以彼此一边相接的状态形成。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106按此顺序沿宽度方向周期性地配置。另外，配置的方向等可以适当变更。另外，在图1所示的例子中，第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106分别形成各两个，但也可以形成各三个以上。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106形成为可以透光。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106对透过的偏振光的偏振光状态进行调制。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106具有1/2波长板的相位差功能。另外，第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106也可以具有1/4波长板的相位差功能。第一偏振光调制部102例如具有如图1上端记载的箭头112所示的与长度方向平行的光轴。光轴的例子为进相轴或滞相轴。由此，第一偏振光调制部102将入射的直线偏振光的偏振光方向调制成将以自身的光轴为对称轴的线对称方向作为偏振光方向的直线偏振光，并出射。第二偏振光调制部104的光轴形成为与第一偏振光调制部102的光轴不同的方向。第二偏振光调制部104的光轴方向如图1上端记载的箭头114所示，与从第一偏振光调制部102的光轴，即长度方向起旋转22.5°的方向平行。第三偏振光调制部106的光轴形成为与第一偏振光调制部102及第二偏振光调制部104的光轴不同的方向。第三偏振光调制部106的光轴方向如图1上端记载的箭头116所示，与从第一偏振光调制部102的光轴起向与第二偏振光调制部104的光轴相同的方向旋转45本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部；所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材；所述第一偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，输出具有第一偏振光方向的第一偏振光；所述第二偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，配置于所述输送方向上比所述第一偏振光输出部靠下游侧，输出具有第二偏振光方向的第二偏振光，所述第二偏振光方向以小于90°的角度与所述第一偏振光方向交叉；所述第一掩模部配置于所述基材与所述第一偏振光输出部之间，形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第一偏振光透过的第一开口部，并对所述第一偏振光进行遮光；所述第二掩模部配置于所述基材与所述第二偏振光输出部之间，形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第二偏振光透过的第二开口部，并对所述第二偏振光进行遮光；所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的区域进行重复曝光；所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域；所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种曝光装置，其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部；所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材；所述第一偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，输出具有第一偏振光方向的第一偏振光；所述第二偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，配置于所述输送方向上比所述第一偏振光输出部靠下游侧，输出具有第二偏振光方向的第二偏振光，所述第二偏振光方向以小于90°的角度与所述第一偏振光方向交叉；所述第一掩模部配置于所述基材与所述第一偏振光输出部之间，形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第一偏振光透过的第一开口部，并对所述第一偏振光进行遮光；所述第二掩模部配置于所述基材与所述第二偏振光输出部之间，形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第二偏振光透过的第二开口部，并对所述第二偏振光进行遮光；所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的区域进行重复曝光；所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域；所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域；在与所述输送方向垂直的方向的相同位置的至少一部分上，所述输送方向上的所述第一开口区域的长度与所述输送方向上的所述第二开口区域的长度不同。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，在所述至少一部分上，所述输送方向上的所述第一开口区域的长度小于所述输送方向上的所述第二开口区域的长度。3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述第一开口部为彼此分开的多个；所述第二开口部为彼此分开的多个；所述输送方向上的每个第一开口部的所述第一开口区域的长度不同；所述输送方向上的每个第二开口部的所述第二开口区域的长度不同。4.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述第一开口部包含形成如下的一个区域，即，所述输送方向上的所述第一开口区域的长度沿所述垂直的方向的一个方向阶段性地变短；所述第二开口部包含形成如下的区域，即，对所述输送方向上与所述一个区域相同的区域进行曝光的所述第二开口区域的长度沿所述垂直的方向的所述一个方向阶段性地变长；所述一个区域为所述第一开口部的右半部分的区域。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述第一开口部还包含形成如下的另一区域，即，所述输送方向上的所述第一开口区域的长度沿所述垂直的方向的与所述一个方向相反的方向阶段性地变短；所述另一区域为所述第一开口部的左半部分的区域。6.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述第一开口部包含形成如下的一个区域，即，所述输送方向上的所述第一开口区域的长度沿所述垂直的方向的一个方向连续性地变短；所述第二开口部包含形成如下的区域，即，对所述输送方向上与所述一个区域相同的区域进行曝光的所述第二开口区域的长度沿所述垂直的方向的所述一个方向连续性地变长；所述一个区域为所述第一开口部的右半部分的区域。7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述第一开口部还包含形成如下的另一区域，即，所述输送方向上的所述第一开口区域的长度沿所述垂直的方向的与所述一个方向相反的方向连续性地变短；所述另一区域为所述第一开口部的左半部分的区域。8.一种曝光装置，其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部；所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材；所述第一偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，输出具有第一偏振光方向的第一偏振光；所述第二偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜，配置于所述输送方向上比所述第一偏振光输出部靠下游侧，输出具有第二偏振光方向的第二偏振光，所述第二偏振光方向以小于90°的角度与所述第一偏振光方向交叉；所述第一掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅泽康昭，佐藤达弥，浦和宏，渡部贤一，角张祐一，
申请(专利权)人：株式会社有泽制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP