一种像素界定层及OLED器件制造技术

技术编号:11471578 阅读:99 留言:0更新日期:2015-05-20 01:17
本发明专利技术的实施例提供一种像素界定层及OLED器件,涉及显示技术领域,可使各个像素单元发光材料的衰减状态一致,并避免溶液外溢造成的串色。该像素界定层包括多个开口,开口具有底面开口、顶面开口和侧壁;该开口至少包括限定第一像素单元的第一开口和限定第二像素单元的第二开口;第一开口中填充有第一像素发光材料,第二开口中填充有第二像素发光材料;第一像素发光材料的衰减速度小于第二像素发光材料的衰减速度,第一开口的底面开口面积小于第二开口的底面开口面积;开口的侧壁具有预设基准面;开口限定的空间包括基准面内的主体空间和基准面外的扩展空间;第一开口的扩展空间体积大于第二开口的扩展空间体积。用于OLED器件的制备。

【技术实现步骤摘要】
一种像素界定层及OLED器件
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种像素界定层及OLED器件。
技术介绍
OLED(OrganicLightEmittingDiode,有机发光二极管)显示器件因其自发光、宽视角、快速响应、可柔性化等特点而受到广泛的关注。目前,在OLED器件中,不同颜色发光材料的性能差异较大;其中,红光材料的性能较好,绿光材料的性能次之,蓝光材料的性能最差。这样一来,在OLED器件的使用过程中,红光材料的衰减速度相对较慢,而蓝光材料的衰减速度相对较快,由此便会导致严重的色偏问题。为了保证OLED器件在使用过程中各个颜色发光材料的衰减状态一致,如图1所示,在进行OLED器件的设计时,需将红色像素单元R的开口率设置的较小,绿色像素单元G的开口率次之,而将蓝色像素单元B的开口率设置的较大。但是,由于红光的波长较长,因此决定其像素的光学腔长也较长,那么红光材料的发光层膜厚也相对较厚;在此基础上,针对采用上述设计的OLED器件,在采用溶液法例如喷墨打印法制作有机发光材料时,由于红色像素单元的开口率较小,其盛放墨水的容量也相对较小,而其本身的膜厚较厚,因此便需要更多的墨水。基于以上原因,便会导致红色像素单元中的墨水容易溢流到相邻的其它像素单元中,从而造成串色。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种像素界定层及OLED器件,不仅可以保证各个像素单元对应的发光材料的衰减状态一致,同时还能提高底面开口面积相对较小的开口的内部容积,以增大其盛放溶液的能力,避免因容量不足而导致的溶液外溢现象,从而防止串色。为达到上述目的,本专利技术的实施例采用如下技术方案:一方面,提供一种像素界定层,包括用于限定不同颜色像素单元的多个开口;所述开口具有底面开口和顶面开口、以及二者之间的侧壁;所述像素单元至少包括第一像素单元和第二像素单元,所述开口至少包括用于限定所述第一像素单元的第一开口和用于限定所述第二像素单元的第二开口;所述第一开口中填充有第一像素发光材料,所述第二开口中填充有第二像素发光材料;所述第一像素发光材料的衰减速度小于所述第二像素发光材料的衰减速度,且所述第一开口的底面开口面积小于所述第二开口的底面开口面积;所述开口的侧壁具有预设基准面;所述开口限定的空间包括位于所述基准面内的主体空间和相对于所述基准面向外延伸的扩展空间;其中,所述第一开口的扩展空间体积大于所述第二开口的扩展空间体积。可选的,所述像素单元还包括第三像素单元,所述开口还包括用于限定所述第三像素单元的第三开口;所述第三开口中填充有第三像素发光材料;其中,所述第三像素发光材料的衰减速度介于所述第一像素发光材料与所述第二像素发光材料的衰减速度之间,且所述第三开口的底面开口面积介于所述第一开口的底面开口面积与所述第二开口的底面开口面积之间。进一步可选的,所述第三开口的扩展空间体积介于所述第一开口的扩展空间体积与所述第二开口的扩展空间体积之间。可选的,所述第二开口的扩展空间体积为零。可选的,所述第一开口的侧壁至少包括第一侧壁和第二侧壁、以及将二者相连的连接壁;其中,所述第一侧壁与所述底面开口的边缘相连,所述第二侧壁位于所述第一侧壁相对于所述基准面的外侧。进一步可选的,所述第一侧壁平行于所述基准面。进一步的,所述第一侧壁与所述底面开口所在的平面之间的夹角小于所述第二侧壁与所述底面开口所在的平面之间的夹角。可选的,所述像素界定层通过至少两次构图工艺制备而得。进一步可选的,通过两次构图工艺制得的所述像素界定层采用不同的材料;其中,通过第一次构图工艺制得的像素界定层采用亲水性材料,通过第二次构图工艺制得的像素界定层采用疏水性材料。另一方面,提供一种OLED器件,包括阴极和阳极、以及上述的像素界定层。本专利技术的实施例提供一种像素界定层及OLED器件;针对所述像素界定层,通过使衰减速度较慢的像素发光材料(即第一像素发光材料)对应的开口(即第一开口)具有较小的底面开口面积和较大的扩展空间,使衰减速度较快的像素发光材料(即第二像素发光材料)对应的开口(即第二开口)具有较大的底面开口面积和较小的扩展空间,这样不仅可以保证各个像素单元对应的发光材料的衰减状态一致,同时还能提高底面开口面积相对较小的开口的内部容积,以增大其盛放溶液的能力,避免因容量不足而导致的溶液外溢现象,从而防止串色。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中像素界定层的结构示意图;图2为本专利技术的实施例提供的一种像素界定层的结构示意图一;图3为本专利技术的实施例提供的一种像素界定层的结构示意图二;图4为本专利技术的实施例提供的一种像素界定层的结构示意图三;图5为本专利技术的实施例提供的一种像素的开口结构示意图;图6为本专利技术的实施例提供的一种OLED器件的结构示意图。附图标记:10-像素界定层;10a-底面开口;10b-顶面开口;10c-侧壁;11-第一侧壁;12-第二侧壁;D0-基准面;D-主体空间;D’-扩展空间;101-第一开口;102-第二开口;103-第三开口;20-阴极;30-阳极。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的实施例提供一种像素界定层10,如图2至图4所示,包括用于限定不同颜色像素单元的多个开口,所述开口具有底面开口10a和顶面开口10b,以及二者之间的侧壁10c。所述像素单元至少包括第一像素单元和第二像素单元,所述开口至少包括用于限定所述第一像素单元的第一开口101和用于限定所述第二像素单元的第二开口102;所述第一开口101中填充有第一像素发光材料,所述第二开口102中填充有第二像素发光材料;所述第一像素发光材料的衰减速度小于所述第二像素发光材料的衰减速度,且所述第一开口101的底面开口面积小于所述第二开口102的底面开口面积。所述开口的侧壁10c具有预设基准面D0;所述开口限定的空间包括位于所述基准面D0内的主体空间D和相对于所述基准面D0向外延伸的扩展空间D’;其中,所述第一开口101的扩展空间D’体积大于所述第二开口102的扩展空间D’体积。需要说明的是,第一,本专利技术的实施例对于不同像素单元对应的开口的设计均以不改变各个像素单元的开口率为前提;也就是说,本专利技术中各个像素单元的开口率与现有技术中相应像素单元的开口率保持一致。其中,所述像素单元的开口率可由所述开口的底面开口面积确定。在此基础上,所述像素界定层10主要应用于采用溶液法制备有机材料功能层的情况;其中,所述溶液法具体可以包括喷墨打印法、连续印刷法、静电涂布法、以及狭缝涂布法等。具体的,当利用溶液法例如喷墨打印法制备有机材料功能层时,在有机发光材料的墨水溶剂种类、成分、浓度一定的条件下,通过采用上述的像素界定层10可以有效的提高开口率较小的开口盛放墨水的能力,从本文档来自技高网...
一种像素界定层及OLED器件

【技术保护点】
一种像素界定层,包括用于限定不同颜色像素单元的多个开口;所述开口具有底面开口和顶面开口、以及二者之间的侧壁;其特征在于,所述像素单元至少包括第一像素单元和第二像素单元,所述开口至少包括用于限定所述第一像素单元的第一开口和用于限定所述第二像素单元的第二开口;所述第一开口中填充有第一像素发光材料,所述第二开口中填充有第二像素发光材料;所述第一像素发光材料的衰减速度小于所述第二像素发光材料的衰减速度,且所述第一开口的底面开口面积小于所述第二开口的底面开口面积;所述开口的侧壁具有预设基准面;所述开口限定的空间包括位于所述基准面内的主体空间和相对于所述基准面向外延伸的扩展空间;其中,所述第一开口的扩展空间体积大于所述第二开口的扩展空间体积。

【技术特征摘要】
1.一种像素界定层,包括用于限定不同颜色像素单元的多个开口;所述开口具有底面开口和顶面开口、以及二者之间的侧壁;其特征在于,所述像素单元至少包括第一像素单元和第二像素单元,所述开口至少包括用于限定所述第一像素单元的第一开口和用于限定所述第二像素单元的第二开口;所述第一开口中填充有第一像素发光材料,所述第二开口中填充有第二像素发光材料;所述第一像素发光材料的衰减速度小于所述第二像素发光材料的衰减速度,且所述第一开口的底面开口面积小于所述第二开口的底面开口面积;所述开口的侧壁具有预设基准面;所述预设基准面是指从所述底面开口边缘向所述顶面开口方向延伸,与所述底面开口所在的平面呈预设夹角的侧面,所述预设夹角大于0度小于180度;所述开口限定的空间包括位于所述基准面内的主体空间和相对于所述基准面向外延伸到所述底面开口和所述顶面开口之间的侧壁的扩展空间;其中,所述第一开口的扩展空间体积大于所述第二开口的扩展空间体积。2.根据权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,所述像素单元还包括第三像素单元,所述开口还包括用于限定所述第三像素单元的第三开口;所述第三开口中填充有第三像素发光材料;其中,所述第三像素发光材料的衰减速度介于所述第一像素发光材料与所述第二像素发光材料的衰减速度之间,且所述第三开口的底面开口面积介于所...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔颖胡春静
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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