一种超宽带减反射膜及其制备方法技术

技术编号:11450885 阅读:72 留言:0更新日期:2015-05-13 23:34
本发明专利技术涉及一种超宽带减反射膜,包括基体层,在基体层表面设有由MgF2膜层和TiO2膜层交替组成的多层膜结构,且靠近基体层表面的第一层及靠近空气界面的最外层均为MgF2膜层,所述多层膜结构的厚度为340-370nm。本发明专利技术实现了对400~800nm超宽波段可见光的高透射率,残余反射率低于0.2%,镀膜层数较少,简化了制造工艺,降低了制造成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种超宽带减反射膜,其特征在于,包括基体层,在所述基体层表面设有由MgF2膜层和TiO2膜层交替组成的多层膜结构,且靠近所述基体层表面的第一层及靠近空气界面的最外层均为MgF2膜层,所述多层膜结构的厚度为340‑370nm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘文成刘学芬
申请(专利权)人:山东阳谷恒晶光电有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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