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一种场致发射冷阴极制造技术

技术编号:11445187 阅读:100 留言:0更新日期:2015-05-13 16:35
本发明专利技术公开一种场致发射冷阴极,包括绝缘板,在绝缘板上形成的第一导电层,在第一导电层上形成的第二导电层;其中,第二导电层为与绝缘板和第一导电层均垂直的环状石墨烯。本发明专利技术场致发射冷阴极结构中的环状石墨烯阴极结构强度高、垂直取向性好,具有场致发射工作电压低、发射电流大的优势。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种场致发射冷阴极,其特征在于:包括绝缘板,在绝缘板上形成的第一导电层,在第一导电层上形成的第二导电层;其中,第二导电层为与绝缘板和第一导电层均垂直的环状石墨烯。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:仲雪飞樊兆雯张雄屠彦杨兰兰王丽丽
申请(专利权)人:东南大学
类型:发明
国别省市:江苏;32

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