按键结构制造技术

技术编号:11369798 阅读:84 留言:0更新日期:2015-04-30 00:54
本发明专利技术提供一种按键结构,其包含具有凹陷部以形成第一容置空间的底板、设置于第一容置空间的第一磁性件、可相对于底板移动的键帽、可转动地设置于键帽及底板之间的活动板及缓冲层,其中活动板具有抵接键帽的第一端及具有第二磁性件的第二端;缓冲层设置于第一磁性件及第二磁性件之间,以避免第一磁性件及第二磁性件直接接触。当键帽接受按压力朝底板移动时,活动板第一方向转动以使第二磁性件远离第一磁性件;当按压力释放时,第二磁性件与第一磁性件间产生的磁吸力使活动板第二方向转动以使第二磁性件靠近第一磁性件,进而带动键帽移动远离底板。本发明专利技术利用磁力机构有效简化了按键结构,且藉由缓冲层避免了磁性件的直接接触,减少了操作噪音。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种按键结构,其特征在于该按键结构包含:底板,具有凹陷部以形成第一容置空间;第一磁性件,设置于该第一容置空间中;键帽,相对于该底板可移动地设置于该底板上方;活动板,可转动地设置于该键帽及该底板之间,该活动板具有第一端及第二端,该第一端抵接该键帽,该第二端具有第二磁性件,该第二磁性件与该第一磁性件之间产生磁吸力;以及缓冲层,设置于该第一磁性件及该第二磁性件之间,以避免该第一磁性件及该第二磁性件直接接触;当该键帽接受按压力朝该底板移动时,该活动板沿第一方向转动以使该第二磁性件远离该第一磁性件;当该按压力释放时,该磁吸力使该活动板沿第二方向转动以使该第二磁性件靠近该第一磁性件,进而带动该键帽移动远离该底板,其中该第一方向与该第二方向相反。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:廖本辉
申请(专利权)人:苏州达方电子有限公司达方电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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