一种硅片表面纳米孔结构的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种硅片表面纳米孔结构的制备方法，该方法包括：在硅片表面制备氯化铯岛结构；在带有氯化铯纳米岛结构的硅片表面蒸镀一层铝金属薄膜，放入去离子水中超声剥离，去掉氯化铯岛结构及其上的铝金属薄膜，得到多孔铝薄膜；以多孔铝薄膜为掩膜，在等离子体刻蚀机的刻蚀腔体内对硅片表面进行深度刻蚀；去除硅片表面的多孔铝薄膜，在硅片表面得到纳米孔结构。利用本发明专利技术制备出的硅片表面纳米孔结构，位置无序地分布在硅片表面，纳米孔结构大小不同，直径呈高斯分布，深度相近，侧壁不平滑。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微米、纳米半导体微加工技术，尤其是。
技术介绍
近年来，纳米结构因其具有独特的电学、光学、催化以及生物特性，引起了纳米材料和微纳加工等领域科研工作者的极大兴趣。纳米阵列结构不仅在科学研宄领域受到广泛关注，而且已经在光电器件、磁记录、传感器、生物信息等领域得到应用。特别地，硅作为重要的微电子材料，为实现硅纳米电子器件的应用推广，需要发展与硅工艺相兼容的方法来制备硅纳米阵列结构，这正是纳米半导体领域的研宄热点之一。硅片表面的纳米结构也是多种多样的，主要包括各种尺寸纳米柱结构与纳米孔结构，不同的结构形貌在不同的领域有着不同的应用前景。氯化铯纳米岛自组装技术是一种制作无规则的纳米柱阵列的有效方法，早在2000年，Mino Green等人就开始应用氯化铯纳米岛自组装技术在娃片表面制备氯化铯纳米岛，然后以此为掩模，结合反应离子刻蚀的方法制备硅的纳米柱阵列，也尝试做过几十纳米深的二氧化硅圆孔。但是，目前还没有在硅表面应用氯化铯纳米岛自组装技术制备尺寸几百纳米深度大于I微米的纳米硅孔的形貌的先例，本专利就是针对应用氯化铯纳米岛自组装技术制备硅表面的纳米孔结构的方法。
技术实现思路
(一 )要解决的技术问题有鉴于此，本专利技术的主要目的在于提供，以简化工艺，降低成本。( 二 )技术方案为达到上述目的，本专利技术提供了，该方法包括:步骤1:在娃片表面制备氯化铯岛结构；步骤2:在带有氯化铯纳米岛结构的娃片表面蒸镀一层铝金属薄膜，放入去离子水中超声剥离，去掉氯化铯岛结构及其上的铝金属薄膜，得到多孔铝薄膜；步骤3:以多孔铝薄膜为掩膜，在等离子体刻蚀机的刻蚀腔体内对硅片表面进行深度刻蚀；步骤4:去除硅片表面的多孔铝薄膜，在硅片表面得到纳米孔结构。上述方案中，步骤I中所述硅片，厚度0.2毫米-0.5毫米，P型，电阻率为I Ω.cm-?ο Ω.cm，表面为抛光面或粗糙面。所述在娃片表面制备氯化铯岛结构，是采用氯化铯自组装技术实现的，氯化铯岛结构的直径在500-1500纳米，厚度为200-7000埃。上述方案中，步骤2中所述在带有氯化铯纳米岛结构的硅片表面蒸镀一层铝金属薄膜，是采用热蒸发的方法实现的，铝金属薄膜的厚度为40纳米。上述方案中，步骤3中所述以多孔铝薄膜为掩膜在等离子体刻蚀机的刻蚀腔体内对硅片表面进行深度刻蚀，是通过交替转换刻蚀气体与钝化气体实现刻蚀发生在垂直方向，而对于水平方向的刻蚀较小，侧壁得以保护。所述刻蚀气体为SF6，钝化气体为C4F8, He为冷却气体，钝化气体C4F8在等离子体中能够形成氟化碳类高分子聚合物，该氟化碳类高分子聚合物沉积在硅表面阻止氟离子与硅的反应。上述方案中，所述交替转换刻蚀气体与钝化气体，具体包括:刻蚀与钝化每5到15秒转换一个周期，在短暂的各向同性刻蚀之后立刻将刻蚀过的硅表面钝化；在深度方向由于有离子的物理溅射轰击，钝化膜被剥离，使化学反应离子刻蚀可以进一步发生；但侧壁方向不会受到离子轰击，钝化膜保留下来，这样下一个周期的刻蚀就不会发生侧向刻蚀；通过这样周期性“刻蚀-钝化-刻蚀”，刻蚀只沿着深度方向进行，刻蚀所需的深度能够通过刻蚀周期个数来控制。上述方案中，步骤4中所述去除硅片表面的多孔铝薄膜，是采用质量分数为5%的氢氧化钠溶液实现的。(三)有益效果本专利技术提供的硅片表面纳米孔结构的制备方法，采用真空氯化铯镀膜、氯化铯自组装、真空热蒸发镀膜、剥离技术和等离子体深度刻蚀工艺完成，利用本专利技术制备出的硅片表面纳米孔结构，位置无序地分布在硅片表面，纳米孔结构大小不同，直径呈高斯分布，深度相近，侧壁不平滑。【附图说明】图1是本专利技术提供的制备硅片表面纳米孔结构的方法流程图。图2至图7是依照本专利技术实施例的制备硅片表面纳米孔结构的工艺流程图。图8为依照本专利技术实施例的硅片表面纳米孔结构的SM平面图。图9为依照本专利技术实施例的硅片表面纳米孔结构的SEM垂直截面图。【具体实施方式】为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本专利技术进一步详细说明。本专利技术提出了，该方法采用真空氯化铯镀膜、氯化铯自组装、真空热蒸发镀膜、剥离技术和等离子体深度刻蚀工艺完成。首先利用氯化铯纳米岛光刻技术完成原始氯化铯纳米岛结构，然后利用热蒸发技术在氯化铯纳米岛表面蒸发一层厚度为40纳米的铝金属层，再用剥离技术剥离掉氯化铯表面的铝，在硅片表面得到铝的多孔膜结构，接着利用反应离子深度刻蚀技术将孔结构转移到硅材料表面，最后用稀释的氢氧化钠溶液去除表面的多孔铝薄膜，至此完成纳米孔结构在硅表面的制备。如图1所示，图1是本专利技术提供的制备硅片表面纳米孔结构的方法流程图，该方法包括以下步骤:步骤1:在硅片表面制备氯化铯岛结构；在本步骤中，硅片厚度0.2毫米-0.5毫米，P型，电阻率为I Ω.cm-10 Ω.αιι，表面为抛光面或粗糙面。所述在硅片表面制备氯化铯岛结构，是采用氯化铯自组装技术实现的，氯化铯岛结构的直径在500-1500纳米，厚度为200埃-7000埃。步骤2:在带有氯化铯纳米岛结构的硅片表面蒸镀一层铝金属薄膜，放入去离子水中超声剥离，去掉氯化铯岛结构及其上的铝金属薄膜，得到多孔铝薄膜，这层多孔铝膜实现了图形的翻转即使得原来用氯化铯保护的部分暴露出来，并且铝掩模版对干法刻蚀的耐刻性要比氯化铯掩模版好；在本步骤中，在带有氯化铯纳米岛结构的硅片表面蒸镀一层铝金属薄膜，是采用热蒸发的方法实现的，铝金属薄膜的厚度为40纳米。步骤3:以多孔铝薄膜为掩膜，在等离子体刻蚀机的刻蚀腔体内对硅片表面进行深度刻蚀，用常规的刻蚀方法钻蚀很严重，不适合做纳米尺度的孔结构，应用氯化铯纳米岛技术制备的铝纳米孔掩模版，只能与深度刻蚀相结合，才能实现图形的转移，制成硅纳米孔结构，也正因为这种深度刻蚀方法才使得纳米孔的侧壁不够光滑，出现周期性的形貌；在本步骤中，以多孔铝薄膜为掩膜在等离子体刻蚀机的刻蚀腔体内对硅片表面进行深度刻蚀，是通过交替转换刻蚀气体与钝化气体实现刻蚀发生在垂直方向，而对于水平方向的刻蚀较小，侧壁得以保护。刻蚀气体为SF6，钝化气体为C4F8, He为冷却气体，钝化气体C4F8在等离子体中能够形成氟化碳类高分子聚合物，该氟化碳类高分子聚合物沉积在硅表面阻止氟离子与硅的反应。刻蚀与钝化每5到15秒转换一个周期，在短暂的各向同性刻蚀之后立刻将刻蚀过的硅表面钝化；在深度方向由于有离子的物理溅射轰击，钝化膜被剥离，使化学反应离子刻蚀可以进一步发生；但侧壁方向不会受到离子轰击，钝化膜保留下来，这样下一个周期的刻蚀就不会发生侧向刻蚀；通过这样周期性“刻蚀-钝化-刻蚀”，刻蚀只沿着深度方向进行，刻蚀所需的深度能够通过刻蚀周期个数来控制。步骤4:去除硅片表面的多孔铝薄膜，在硅片表面得到纳米孔结构；在本步骤中，去除硅片表面的多孔铝薄膜，是采用质量分数为5%的氢氧化钠溶液实现的。基于图1所示的制备硅片表面纳米孔结构的方法流程图，图2至图7是依照本专利技术实施例的制备硅片表面纳米孔结构的工艺流程图，本实施例中采用了氯化铯纳米岛自组装技术与微加工的剥离及等离子体深度刻蚀技术来完成硅表面纳米孔结构的制备，该方法包括以下步骤:如图2所示，将硅当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片表面纳米孔结构的制备方法，其特征在于，该方法包括：步骤1：在硅片表面制备氯化铯岛结构；步骤2：在带有氯化铯纳米岛结构的硅片表面蒸镀一层铝金属薄膜，放入去离子水中超声剥离，去掉氯化铯岛结构及其上的铝金属薄膜，得到多孔铝薄膜；步骤3：以多孔铝薄膜为掩膜，在等离子体刻蚀机的刻蚀腔体内对硅片表面进行深度刻蚀；步骤4：去除硅片表面的多孔铝薄膜，在硅片表面得到纳米孔结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘静，伊福廷，张天冲，王波，张新帅，孙钢杰，
申请(专利权)人：中国科学院高能物理研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11