感光性树脂组合物、感光性干膜、图案形成方法、印刷布线板及其制造方法技术

技术编号:11328311 阅读:194 留言:0更新日期:2015-04-22 18:43
本发明专利技术的感光性树脂组合物包含:将包含具有酚性羟基的乙烯基系单体(a)的单体混合物(α)聚合而获得的乙烯基系(共)聚合物(I),将包含CH2=CR1COO(R2O)kR3(R1=氢原子、甲基;R2=碳原子数1~4的烃基;R3=氢原子、甲基;k=1~90)所示的乙烯基系单体(b)和含有羧基的乙烯基系单体(c)的单体混合物(β)聚合而获得的、质均分子量为15,000~120,000的乙烯基系共聚物(II),感光性物质(III),以及作为特定的芳香族多羟基化合物的化合物(IV)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及感光性树脂组合物、感光性干膜、使用了它们的图案形成方法、印刷布 线板及其制造方法。 本申请基于2012年7月10日在日本申请的特愿2012-154959而主张优先权,将 其内容援用至本文中。
技术介绍
作为形成电子电路等的工艺,一般使用利用感光性树脂组合物的工艺。 在使用了感光性树脂组合物的电路形成工艺中,经过下述工序来形成电子电路: 在基材表面形成由感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜的工序,隔着掩模对抗蚀剂膜照射光 而形成潜像的工序,将形成有潜像的抗蚀剂膜用显影液进行显影处理而形成抗蚀剂图案的 工序,W及将无抗蚀剂的部分进行化学蚀刻、锻敷的工序。 此外,在将裸巧片直接安装于柔性基板的覆晶薄膜(COF);采用积层技术的多层 印刷布线板;触摸面板传感器电路、平板终端等所用的引出布线中,研究了电子电路的微细 化。在电路形成工艺中,大量使用负型的干膜抗蚀剂,但是对于近年来的微细化要求,状况 是存在很多技术课题。 另一方面,正型的感光性树脂组合物为适于微细化的材料,作为能够应对今后的 微细化要求的材料而受到期待,但是缺乏柔软性,在对柔性基板的电路形成、干膜化中课题 多。 作为W往的正型感光性树脂组合物,已知下述组合物。[000引 (1) 一种感光性树脂组合物,其包含;将包含具有酪性哲基的己締基系单体的单 体混合物聚合而获得的己締基系聚合物(I)、将包含含有駿基的己締基系单体的单体混合 物聚合而获得的己締基系聚合物(II)、酿重氮基化合物、和芳香族多哲基化合物(专利文 献1)。 (2) -种正型感光性组合物,其特征在于,含有邻酿重氮基化合物、碱溶性树脂和 特定的双酪駿酸衍生物(专利文献2)。 然而,在(1)的感光性树脂组合物中,己締基系聚合物(I)刚直且缺乏柔软性,此 外在显影液中的溶解性不充分,因此在将(1)的感光性树脂组合物制成抗蚀剂膜使用的情 况下,抗蚀剂膜的开裂的抑制与分辨率的兼顾不充分。特别是,在将(1)的感光性树脂组合 物干膜化的情况下,干膜被卷绕,因此上述问题变得显著。 在似的正型感光性组合物中,碱溶性树脂刚直且缺乏柔软性,此外在显影液中 的溶解性不充分,因此在将(2)的感光性树脂组合物制成抗蚀剂膜使用的情况下,抗蚀剂 膜的开裂的抑制与分辨率的兼顾不充分。此外,在专利文献2中也没有关于干膜化的记载。 现有技术文献 [001引专利文献 专利文献1:国际公开第2011/081131号 专利文献2:日本特开平1-280748号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题 本专利技术的目的是提供正型感光性树脂组合物、正型感光性干膜、和使用了它们的 图案形成方法、印刷布线板及其制造方法,所述正型感光性树脂组合物在COF ;采用积层技 术的多层印刷布线板;触摸面板传感器电路、平板终端等所用的引出布线等中的电路形成 工艺中,可W形成不易发生开裂,分辨率优异的抗蚀剂膜。[001引用于解决课题的手段 <1〉.本专利技术的感光性树脂组合物的一实施方式是下述感光性树脂组合物,其包 含: 将包含具有酪性哲基的己締基系单体(a)的单体混合物(a )聚合而获得的己締 基系(共)聚合物(I),将包含下述式(1)所示的己締基系单体化)和含有駿基的己締基 系单体(C)的单体混合物(0)聚合而获得的、质均分子量为15,000?120,000的己締基 系共聚物(II),但是,所述己締基系(共)聚合物(I)除外,感光性物质(III),W及下述式 (2)所示的化合物(IV),【主权项】1. 一种感光性树脂组合物,其包含: 将包含具有酚性羟基的乙烯基系单体(a)的单体混合物(α)聚合而获得的乙烯基系 (共)聚合物⑴, 将包含下述式(1)所示的乙烯基系单体(b)和含有羧基的乙烯基系单体(C)的单体混 合物(β)聚合而获得的、质均分子量为15, OOO?120, OOO的乙烯基系共聚物(II),但是, 所述乙烯基系(共)聚合物(I)除外, 感光性物质(III),以及 下述式⑵所示的化合物(IV),在式⑴中,R1为氢原子或甲基,R2为碳原子数1?4的烃基,R3为氢原子或甲基,k为 1?90的整数,在式⑵中,X为碳原子数1?6的径基,1和m各自为1?3的整数,η为1或2,p和 q各自为〇或1。2. 根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,所述单体(b)为丙烯酸2-甲氧基乙酯。3. 根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,所述单体混合物(β )中的单体(b)的比 例为5?30摩尔%。4. 根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,所述感光性物质(III)为醌重氮基化合 物。5. 根据权利要求4所述的感光性树脂组合物,所述醌重氮基化合物为具有1?3个芳 香族环的芳香族多羟基化合物、与1,2-萘醌重氮基-5-磺酸和/或1,2-萘醌重氮基-4-磺 酸的酯。6. 根据权利要求5所述的感光性树脂组合物,所述醌重氮基化合物为下述式(3)所示 的化合物、下述式(4)所示的化合物或下述式(5)所示的化合物、与1,2-萘醌重氮基-5-磺 酸和/或1,2-萘醌重氮基-4-磺酸的酯,O7. 根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,所述化合物(IV)为下述式(2-1)所示的 化合物或下述式(2-2)所示的化合物,〇8. 根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,所述乙烯基系(共)聚合物(I)为将包 含所述单体(a)和所述单体(c)的单体混合物(α)聚合而获得的共聚物。9. 一种感光性干膜,其在支持膜的表面形成有由权利要求1?8的任一项所述的感光 性树脂组合物形成的抗蚀剂膜。10. -种图案形成方法,其具有下述工序:在基材的表面形成由权利要求1?8的任一 项所述的感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜的工序,将所述抗蚀剂膜曝光而形成潜像的工 序,以及将形成有潜像的所述抗蚀剂膜用碱性显影液进行显影处理而形成抗蚀剂图案的工 序。11. 一种印刷布线板,其是使用权利要求1?8的任一项所述的感光性树脂组合物而制 造的。12. -种印刷布线板的制造方法,其使用了权利要求1?8的任一项所述的感光性树脂 组合物。【专利摘要】本专利技术的感光性树脂组合物包含:将包含具有酚性羟基的乙烯基系单体(a)的单体混合物(α)聚合而获得的乙烯基系(共)聚合物(I),将包含CH2=CR1COO(R2O)kR3(R1=氢原子、甲基;R2=碳原子数1~4的烃基;R3=氢原子、甲基;k=1~90)所示的乙烯基系单体(b)和含有羧基的乙烯基系单体(c)的单体混合物(β)聚合而获得的、质均分子量为15,000~120,000的乙烯基系共聚物(II),感光性物质(III),以及作为特定的芳香族多羟基化合物的化合物(IV)。【IPC分类】G03F7-004, H01L21-027, G03F7-023, H05K3-18, H05K3-06, C08F220-28【公开号】CN104541203【申请号】CN201380036547【专利技术人】上田昭史, 中河原秀孝, 冈田慎太郎, 藤田沙纪, 渡边和夫, 渡边茂辉 【申请人】株式会社微处理【公开日】2015年4月22日【申请日】2013年7月2日【公告号】US20150168832, WO2014010473A1本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种感光性树脂组合物,其包含:将包含具有酚性羟基的乙烯基系单体(a)的单体混合物(α)聚合而获得的乙烯基系(共)聚合物(I),将包含下述式(1)所示的乙烯基系单体(b)和含有羧基的乙烯基系单体(c)的单体混合物(β)聚合而获得的、质均分子量为15,000~120,000的乙烯基系共聚物(II),但是,所述乙烯基系(共)聚合物(I)除外,感光性物质(III),以及下述式(2)所示的化合物(IV),在式(1)中,R1为氢原子或甲基,R2为碳原子数1~4的烃基,R3为氢原子或甲基,k为1~90的整数,在式(2)中,X为碳原子数1~6的烃基,l和m各自为1~3的整数,n为1或2,p和q各自为0或1。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:上田昭史中河原秀孝冈田慎太郎藤田沙纪渡边和夫渡边茂辉
申请(专利权)人:株式会社微处理
类型:发明
国别省市:日本;JP

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