用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备，其包括一基座、第一相机组件、第二相机组件、第一光源及第二光源，其中，基座用于承载磁头支架；第一相机组件设置在基座上，且位于磁头支架的上方，用于测量磁头支架被测部分的长度；第二相机组件设置在基座上，且位于磁头支架的一侧，用于测量磁头支架被测部分的高度；第一光源设置在基座上，且位于磁头支架的下方，以将磁头支架投影至第一相机组件；第二光源设置在基座上，且位于磁头支架相对于第二相机组件的另一侧，以将磁头支架投影至第二相机组件。本实用新型专利技术提高了非接触式光学测量设备的精度程度，提高了磁头支架尺寸的测量精确度，还提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及磁盘磁头测量领域，尤其涉及一种用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备。
技术介绍
随着磁盘存储技术的飞速发展，作为磁盘的核心部件之一的磁头支架，其生产质量的检测也愈加重要。磁头支架的物理尺寸的检测，是提供产品品质的可靠保证，也可以给生产提供更多的改善空间，促进生产效率的不断提升。目前，应用于磁头支架的测量方法，主要是采用接触式测量设备，其精确程度相对较低，且生产效率不高。尤其是对于ESG (企业级服务器)这类产品，由于其本身的物理尺寸较小，精度要求相对较高，因此接触式测量较难满足该类产品的测量需求。
技术实现思路
本技术在于提供一种用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备，用于解决现有技术中接触式测量设备的精确程度相对较低，且生产效率不高的问题。为了解决上述技术问题，本技术提出一种用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备，其包括一基座、第一相机组件、第二相机组件、第一光源及第二光源，其中，基座用于承载磁头支架；第一相机组件设置在所述基座上，且位于所述磁头支架的上方，用于测量所述磁头支架被测部分的长度；第二相机组件设置在所述基座上，且位于所述磁头支架的一侧，用于测量所述磁头支架被测部分的高度；第一光源设置在所述基座上，且位于所述磁头支架的下方，以将所述磁头支架投影至所述第一相机组件；第二光源设置在所述基座上，且位于所述磁头支架相对于所述第二相机组件的另一侧，以将所述磁头支架投影至所述第二相机组件。进一步地，所述第一相机组件包括第一相机、第一镜头及第一固定机构，所述第一镜头安装在所述第一相机上，所述第一相机水平固定于所述第一固定机构的顶端，所述第一固定机构竖直设置在所述基座上，使得所述第一镜头与所述基座竖直相对。进一步地，所述第一固定机构包括一固定板、一支架及一安装板，所述第一相机固定于所述固定板，所述固定板垂直连接于所述支架的顶端，所述支架的底端垂直连接于所述安装板，所述安装板固定于所述基座。进一步地，所述第二相机组件包括第二相机、第二镜头及第二固定机构，所述第二镜头安装在所述第二相机上，所述第二相机水平固定于所述第二固定机构，所述第二固定机构水平铺设在所述基座上，使得所述第二镜头与所述磁头支架水平相对。进一步地，所述第二固定机构设有一凹槽，所述第二相机及第二镜头嵌设于所述凹槽内。进一步地，所述第二镜头为一远心镜头。进一步地，所述基座上设有一用于承载所述磁头支架的承载座，所述承载座垂直于所述第二相机组件。进一步地，所述第一光源设置在所述承载座的底部，使其投射的光束竖直朝上射向所述磁头支架。进一步地，所述基座上设有一用于将所述第二光源固定于所述基座的安装座，所述安装座竖直设置在所述基座上，且与所述第二相机组件分别位于所述磁头支架的相对两侧，使得所述第二光源投射的光束水平射向所述磁头支架。进一步地，所述第一光源、第二光源均为平行光源。与现有技术相比，本技术的用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备，具有以下有益效果:通过在基座的不同方位分别设置第一相机组件、第二相机组件、第一光源及第二光源，提高了非接触式管光学测量设备的精度程度，提高了磁头支架尺寸的测量精确度，还提高了生产效率。【附图说明】图1为本技术的用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备的结构示意图。图2为本技术的磁头支架被测部分的长度的测量示意图。图3为本技术的磁头支架被测部分的高度的测量示意图。其中，附图标记说明如下:100、非接触式光学测量设备；10、基座；1、第一相机组件；11、第一相机；12、第一镜头；13、第一固定机构；131、固定板；132、支架；133、安装板；2、第二相机组件；21、第二相机；22、第二镜头；23、第二固定机构；231、凹槽；3、第二光源；31、安装座；4、测试按钮；5、磁头支架(待测产品)；51、承载座。【具体实施方式】以下参考附图，对本技术予以进一步地详尽阐述。请参阅图1，本技术提供的一种用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备100，其包括一基座10、第一相机组件1、第二相机组件2、第一光源(未示出)及第二光源3。其中，基座10用于承载待测产品磁头支架5 ;第一相机组件I设置在基座10上，且位于磁头支架5的上方，用于测量磁头支架5被测部分的长度；第二相机组件I设置在基座10上，且位于磁头支架5的一侧，用于测量磁头支架5被测部分的高度；第一光源设置在基座10上，且位于磁头支架5的下方，以将磁头支架5投影至第一相机组件I ;第二光源3设置在基座10上，且位于磁头支架5相对于第二相机组件I的另一侧，以将磁头支架5投影至第二相机组件2。具体地，第一相机组件I包括第一相机11、第一镜头12及第一固定机构13。第一镜头12安装在第一相机11上，第一相机11水平固定于第一固定机构13的顶端，第一固定机构13竖直设置在基座10上，使得第一镜头12与基座10竖直相对。第一固定机构13包括一固定板131、一支架132及一安装板133，第一相机11固定于固定板131，固定板131垂直连接于支架132的顶端，支架132的底端垂直连接于安装板133，安装板133固定于基座10。第二相机组件2包括第二相机21、第二镜头22及第二固定机构23。第二镜头22安装在第二相机21上，第二相机21水平固定于第二固定机构23，第二固定机构23水平铺设在基座10上，使得第二镜头22与磁头支架5水平相对。进一步地，该第二镜头22为一远心镜头，因此其景深能够包含被测区域的纵向被测范围，其测试精度的有效性是一般镜头无法达到的。第二固定机构23设有一凹槽231，第二相机21及第二镜头22嵌设于该凹槽231内。基座10上设有一用于承载磁头支架5的承载座51，承载座51垂直于第二相机组件2。第一光当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于测量磁头支架尺寸的非接触式光学测量设备，其特征在于，包括：一基座，用于承载磁头支架；第一相机组件，设置在所述基座上，且位于所述磁头支架的上方，用于测量所述磁头支架被测部分的长度；第二相机组件，设置在所述基座上，且位于所述磁头支架的一侧，用于测量所述磁头支架被测部分的高度；第一光源，设置在所述基座上，且位于所述磁头支架的下方，以将所述磁头支架投影至所述第一相机组件；及第二光源，设置在所述基座上，且位于所述磁头支架相对于所述第二相机组件的另一侧，以将所述磁头支架投影至所述第二相机组件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王安阳，江小亮，
申请(专利权)人：深圳长城开发科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44