本实用新型专利技术公开一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置，包括：密封的电解槽，该电解槽内设有复合隔膜，该复合隔膜将电解槽分为阴极室和阳极室，该电解槽与生产线蚀刻缸相连通；氯气储存器，用于储存氯气，该氯气储存器通过导管与阳极室的底部相连；氯气发生装置，用于产生氯气，该氯气发生装置与氯气储存器相连，且二者之间设置一通断阀门；及循环管道，该循环管道上端连接电解槽的顶部，下端连接氯气储存器。本实用新型专利技术通过氯气发生装置产生纯净氯气，并导入电解槽中，可确保蚀刻废液中的亚铜离子得到充分氧化，提高蚀刻废液中铜离子的再生率。
【技术实现步骤摘要】
一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置
本技术涉及工业废水的回收处理设备，尤其涉及一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置。
技术介绍
随着各种电子产品迅速风靡全球，PCB产业业已成为当代电子元件业中最活跃的产业。 蚀刻作为PCB制程中的重要工艺，酸性蚀刻液因为具有侧蚀小、速率易于控制和易再生等特点，被广泛应用。在蚀刻过程中，Cu2+与Cu作用生成Cu+，随着蚀刻反应的进行，Cu+数量越来越多，Cu2+减少，蚀刻液蚀刻能力很快下降，为保持稳定蚀刻能力，需加入氧化剂使Cu+尽快转化为Cu2+，一般添加H202或NaC103等氧化剂，但这些氧化剂成本相对较高，造成生产成本的激增；当蚀刻缸内Cu2+浓度达到一定数值时或者蚀刻缸的溶液超过一定体积时，需要及时排除部分蚀刻液以保证蚀刻工序的正常运转。 对蚀刻废液的再生处理一般采用萃取法或电解法，其中，在用电解法对蚀刻废液中铜离子进行再生的过程中，主要的步骤是氯气将亚铜离子氧化为二价铜离子，然而现有的电解装置中存在氯气与亚铜离子接触几率低，氧化反应不充分的问题，即多数氯气还没来得及与亚铜离子碰撞接触就已经挥发出去，致使铜离子再生效率低，达不到要求；而且，现有的装置是在敞开的电解槽中进行反应，挥发的氯气排入空气中不利于环保。 有鉴于此，我们迫切需要一种新的装置来解决上述技术问题。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种可提高铜离子再生率及符合环保要求的含铜离子蚀刻液循环回收处理装置。 为实现上述目的，本技术采用如下技术方案: 一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置，包括: 密封的电解槽，该电解槽内设有复合隔膜，该复合隔膜将电解槽分为阴极室和阳极室，该电解槽与生产线蚀刻缸相连通； 氯气储存器，用于储存氯气，该氯气储存器通过导管与阳极室的底部相连； 氯气发生装置，用于产生氯气，该氯气发生装置与氯气储存器相连，且二者之间设置一通断阀门；及 循环管道，该循环管道上端连接电解槽的顶部，下端连接氯气储存器。 进一步地，所述循环管道上设有允许气体由上往下流动的单通阀。 进一步地，所述循环管道上设有将电解槽内气体往阳极室底部泵入的气泵。 进一步地，所述阳极室的底部设有与所述导管连接的气泡盘或气泡石。 进一步地，所述电解槽的顶部设有抽真空装置。 本技术相比于现有技术具有如下优势: 一、通过氯气发生装置产生纯净氯气，并导入电解槽中，可确保蚀刻废液中的亚铜离子得到充分氧化，提高蚀刻废液中铜离子的再生率； 二、通过在电解槽底部设置气泡盘或气泡石，有利于氯气与溶液的均匀混合，增大氯气与亚铜离子的碰撞几率，使反应充分，进一步提高铜离子的再生率； 三、整个过程是在密封环境中进行，废气得到很好控制，不会造成环境污染，符合环保要求。 【附图说明】 图1为本技术一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置的结构示意图。 其中:1、电解槽；11、复合隔膜；12、阴极室；13、阳极室；2、氯气储存器；21、导管； 3、氯气发生装置；31、通断阀门；4、循环管道；41、气泵；42、单通阀；51、气泡盘；6、抽真空 目.ο 【具体实施方式】 下面，结合附图以及【具体实施方式】，对本技术做进一步描述: 请参阅图1，本技术提供一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置，包括: 密封的电解槽1，该电解槽I与生产线蚀刻缸(图未示)相连通；所述生产线蚀刻缸内进行正常的电路板蚀刻工序，当蚀刻缸内铜离子浓度低于预定值而影响蚀刻效果时，则通过管道将蚀刻液转移至电解槽I内进行铜离子再生，电解槽I内设有复合隔膜11，该复合隔膜11将电解槽I分为阴极室12和阳极室13 ; 氯气储存器2，用于储存氯气，该氯气储存器2通过导管21与阳极室13的底部相连； 氯气发生装置3，用于产生纯净氯气，该氯气发生装置3与氯气储存器2相连，且二者之间设置一通断阀门31 ;及 循环管道4，该循环管道4上端连接电解槽I的顶部，下端连接氯气储存器2，该循环管道4用于将气体由上往下传导至阳极室13底部。 本技术的工作原理如下: 铜离子含量不达标的蚀刻液进入电解槽I后，铜离子在阴极室12发生还原反应释出单质铜，反应式为:Cu2++2e = Cu ;氯离子在阳极室13失去电子生成氯气，反应式为:2Cl-2e = C12，然后，氯气与亚铜离子发生氧化反应，将亚铜离子氧化为二价铜离子，反应式为:C12+Cu- = CuC12，从而完成铜离子再生。在此过程中，影响铜离子再生效率的一个重要因素是，氯气分子与亚铜离子的碰撞几率。氯气主要在阳极电极附近产生，之后迅速上升挥发，在上升过程中碰到亚铜离子的概率随着氧化反应的持续进行会越来越低，最后产生的氯气几乎碰不到亚铜离子就挥发出去了，而阳极室13中其他位置的亚铜离子得不到氧化，无法生成二价铜离子。此时，启动氯气发生装置3，打开通断阀门31，将纯净氯气经过氯气储存器2而导入阳极室13底部，值得一提地是，所述导管21的排气口的位置可选择为远离阳极电极的其他位置，让氯气将其他位置的亚铜离子进行氧化，从而达到提高再生率的目的；优选地，在所述阳极室13的底部设有与所述导管21连接的气泡盘51，该气泡盘51的形状与阳极室13的底部相匹配，从而可在阳极室13的溶液内形成均匀的氯气上升流，使溶液中的亚铜离子得到最大化的氧化，进一步确保铜离子再生率；容易想到的，所述气泡盘51也可以替换为气泡石或其他能够使氯气均匀分布于阳极室13的装置。 进一步地，所述循环管道4上设有将电解槽I内气体往阳极室13底部泵入的气泵41，且循环管道4上设有仅允许气体由上往下流动的单通阀42，气泵41用于使气体流动更顺畅，单通阀42用于防止气流反向流动。 作为进一步地改进，所述电解槽I的顶部设有抽真空装置6，在本技术工作之前，可先将电解槽I上方的空气排出，确保工作时气路中没有其他气体杂质。 本技术相比于现有技术具有如下优势: 一、通过氯气发生装置3产生纯净氯气，并导入电解槽的阳极室13中，可确保蚀刻废液中的亚铜离子得到充分氧化，提高蚀刻废液中铜离子的再生率； 二、通过在阳极室13底部设置气泡盘51，有利于氯气与溶液的均匀混合，增大氯气与亚铜离子的碰撞几率，使反应充分，进一步提高铜离子的再生率； 三、整个过程是在密封环境中进行，废气得到很好控制，不会造成环境污染，符合环保要求。 对本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其它各种相应的改变以及形变，而所有的这些改变以及形变都应该属于本技术权利要求的保护范围之内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置，其特征在于，包括：密封的电解槽，该电解槽内设有复合隔膜，该复合隔膜将电解槽分为阴极室和阳极室，该电解槽与生产线蚀刻缸相连通；氯气储存器，用于储存氯气，该氯气储存器通过导管与阳极室的底部相连；氯气发生装置，用于产生氯气，该氯气发生装置与氯气储存器相连，且二者之间设置一通断阀门；及循环管道，该循环管道上端连接电解槽的顶部，下端连接氯气储存器。
【技术特征摘要】
1.一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置，其特征在于，包括: 密封的电解槽，该电解槽内设有复合隔膜，该复合隔膜将电解槽分为阴极室和阳极室，该电解槽与生产线蚀刻缸相连通； 氯气储存器，用于储存氯气，该氯气储存器通过导管与阳极室的底部相连； 氯气发生装置，用于产生氯气，该氯气发生装置与氯气储存器相连，且二者之间设置一通断阀门；及 循环管道，该循环管道上端连接电解槽的顶部，下端连接氯气储存器。2.如权利要求1所述的含铜离...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡卫宜，谭兆基，黄家力，姚卫全，
申请(专利权)人：清远市中宇环保实业有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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