层积体、层积体的制造方法、电极、EL元件、面发光体以及太阳能电池技术

技术编号:11265865 阅读:138 留言:0更新日期:2015-04-08 11:46
本层积体包含基材、所述基材之上的底涂层以及所述底涂层之上的无机膜。所述无机膜材料为导电性的金属氧化物以及导电性的金属氮化物中的至少一种材料。将用原子力显微镜拍摄的所述无机膜的表面的图像进行傅立叶变换得到的图像中,将从所述傅立叶变换得到的图像的中心朝向0点方向的方位角作为0°,从0°开始,每隔10°沿径向绘制亮度值图而得到36个亮度值的第一近似曲线,在所述36个亮度值的第一近似曲线中,18个以上的第一近似曲线中可以观察到最大值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层积体、层积体的制造方法、电极、EL元件、面发光体以及太阳能电池
本专利技术涉及层积体、层积体的制造方法、电极、EL元件、面发光体以及太阳能电池。本申请基于2012年7月25日于日本申请的日本专利特愿2012-164352号主张优先权,并在此处援引其内容。
技术介绍
作为面发光体,所知的有利用了有机EL(电致发光)元件和无机EL元件的面发光体。作为有机EL元件,所知的有包含以下部件的有机EL元件:透明基材、设置于透明基材表面的透明电极、与透明电极相离设置的由金属薄膜构成的背电极、设置于透明电极和背电极之间的含有机化合物发光材料的发光层。这种有机EL元件中,通过来自透明电极的空穴与来自背电极的电子于发光层结合,发光层会发光。发光层发出的光透过透明电极和透明基材,从出射面(透明基材的表面)被取出。此外,发光层发出的光的一部分被背电极的金属薄膜反射后,透过发光层、透明电极以及透明基材,从出射面被取出。这种有机EL元件中,存在发光层和透明电极的界面、透明电极和透明基材的界面、透明基材和外部空气的界面。在界面处的临界角由形成界面的各种材料的折射率决定。向界面入射临界角以上的光时,在界面发生全反射。例如,从发光层入射临界角以上的光在发光层和透明电极的界面时,由于全反射,被封闭发光层的内部。同样的,临界角以上的角度的光入射在透明电极和透明基材的界面以及透明基材和外部空气的界面(出射面)等时,在界面发生全反射,光被封闭面发光体的内部。因此,存在无法将部分光取出至外部、光的取出效率低的问题。作为这个问题的解决方法,在专利文献1中,提出了将基层和有机EL层褶曲的方法。此外,在专利文献2中,提出了利用用具有凹凸结构的模具转印的凹凸结构的方法。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开2009-21089号公报专利文献2:国际公开第2012-043828号公报
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题然而,专利文献1提出的方法中,由于在有机EL元件整体上形成有凹凸结构,发光稳定性存在问题。此外,由于该制造方法基材被限定为可收缩的拉伸膜,对有机EL元件整体施加热和压力,气体阻隔性和尺寸稳定性差,不适合显示装置和照明等被要求具有长寿命的用途。此外,专利文献2提出的方法中,含有从模具转印而形成凹凸结构的工序,生产率难以谓之足够。本专利技术的目的在于提供一种层积体,以获得具有优良的光取出效率的面发光体和优良的光封闭效率的太阳能电池。另外,本专利技术的目的在于提供一种制造方法,可以高效地获得在凹凸结构的表面具有无机膜的层积体。(1)本专利技术一种实施方式涉及一种层积体,其包含基材、所述基材之上的底涂层以及所述底涂层之上的无机膜;所述无机膜的材料为导电性的金属氧化物以及导电性的金属氮化物中的至少一种材料,将用原子力显微镜拍摄的所述无机膜的表面的图像进行傅立叶变换得到的图像中,将从所述图像的中心朝向0点方向的方位角作为0°,从0°开始,每隔10°沿径向绘制亮度值图而得到36个亮度值的第一近似曲线,在所述36个亮度值的第一近似曲线中,18个以上的第一近似曲线中可以观察到最大值。(2)(1)的层积体中,在拟合所述36个亮度值的图得到的图的第二近似曲线中,将频率0.2μm-1与亮度值为最大值的频率之间、亮度值为最小值的频率设为频率A,亮度值为最大值的一半的频率中最大的频率设为频率B,频率A的倒数与频率B的倒数的差为0.01μm~10μm。(3)(1)及(2)的层积体中,所述无机膜表面的凹凸结构的平均间距可以为0.05μm~4μm。(4)(1)至(3)的层积体中,所述无机膜表面的凹凸结构的凸部的平均高度可以为0.01μm~2μm。(5)(1)至(4)的层积体中,所述无机膜的表面的表面粗糙度Ra、线粗糙度Ra'、线粗糙度的最大值Ra'(max)以及线粗糙度的最小值Ra'(min)可以满足下述式(1)的权利要求1记载的积层体。0.13≤(Ra'(max)-Ra'(min))/Ra≤0.82(1)(6)(1)至(5)的层积体中,所述底涂层的弹性模量可以为1800MPa以下。(7)(1)至(6)的层积体中,所述无机膜的材料可以为选自铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化铟、氧化锌、氧化锡、氧化锆、氮化铟、氮化镓、氮化铝、氮化锆以及氮化钛形成的组中的至少一种材料。(8)此外,本专利技术的其他实施方式涉及一种层积体的制造方法,在基材上涂布活化能射线固化性组合物,所述活化能射线固化性组合物含有具有氨基甲酸酯基、苯基以及氧化烯基中的至少一种官能团的单体;照射活化能射线,将所述活化能射线固化性组合物固化形成底涂层;通过溅射法、蒸镀法以及CVD方法中的任一种方法,在所述底涂层之上层积导电性的金属氧化物以及导电性的金属氮化物中的至少一种材料的无机膜,在表面形成凹凸结构。(9)(8)的层积体的制造方法中,所述无机膜的材料可以为选自铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化铟、氧化锌、氧化锡、氧化锆、氮化铟、氮化镓、氮化铝、氮化锆、氮化钛形成的组中的至少一种材料。(10)(8)和(9)的层积体的制造方法中,所述底涂层的层积方法可以为溅射法或蒸镀法。(11)本专利技术另一其他实施方法涉及一种电极,包含所述(1)至(7)的层积体中的一种。该电极含基材、所述基材之上的底涂层、设置于所述底涂层之上的表面具有凹凸结构的导电性的无机膜。(12)本专利技术另一其他实施方式涉及一种EL元件,包含所述(1)至(7)的层积体中的一种。(13)本专利技术另一其他实施方式涉及一种包含所述EL元件的面发光体。该面发光体包含基材、所述基材之上的底涂层、设置于所述底涂层之上的表面设有凹凸结构的第一电极、与第一电极相离设置的第二电极、以及设置于第一电极和第二电极之间的发光层。(14)本专利技术另一其他实施方法涉及包含所述(1)至(7)的层积体中的一种的太阳能电池。该太阳能电池包含基材、所述基材之上的底涂层、设置于所述底涂层之上的表面具有凹凸结构的透明电极、光电转换层以及背电极。专利技术的效果通过本专利技术一种实施方式中的层积体,可以得到光取出效率优良的面发光体以及光封闭效率优良的太阳能电池。此外,通过本专利技术的其他实施方式中的层积体的制造方法,可以高效地得到在凹凸结构表面上具有无机膜的层积体,通过得到的层积体,可以得到光取出效率优良的面发光体以及光封闭效率优良的太阳能电池。此外,通过本专利技术的另一实施方式的电极,可以得到光取出效率优良的面发光体以及光封闭效率优良的太阳能电池。此外,通过本专利技术的另一实施方式的EL元件,可以得到光取出效率优良的面发光体。此外,本专利技术的另一实施方式的面发光体的光取出效率优良。进一步地,本专利技术的另一实施方式的太阳能电池的光封闭效率优良。附图说明[图1]表示本专利技术的一例层积体的截面图。[图2]表示本专利技术的一例面发光体的截面图。[图3]表示本专利技术的一例面发光体的截面图。[图4]表示本专利技术的一例太阳能电池的截面图。[图5]表示本专利技术的一例太阳能电池的截面图。[图6]实施例5得到的层积体的表面形状测定结果(50μm×50μm)。[图7]实施例10得到的层积体的表面形状测定结果(50μm×50μm)。[图8]实施例12得到的层积体的表面形状测定结果(50μm×50μm)。[图9]实施例15得到的层积体的表面形状测定结果(50μm×50μm)。[图1本文档来自技高网
...
层积体、层积体的制造方法、电极、EL元件、面发光体以及太阳能电池

【技术保护点】
一种层积体,其包含基材、所述基材之上的底涂层以及所述底涂层之上的无机膜,其特征在于,所述无机膜的材料为导电性的金属氧化物以及导电性的金属氮化物中的至少一种材料,将用原子力显微镜拍摄的所述无机膜的表面的图像进行傅立叶变换得到的图像中,将从所述傅立叶变换得到的图像的中心朝向0点方向的方位角作为0°,从0°开始,每隔10°沿径向绘制亮度值图而得到36个亮度值的第一近似曲线,在所述36个亮度值的第一近似曲线中,18个以上的第一近似曲线中可以观察到最大值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.07.25 JP 2012-1643521.一种层积体,其包含基材、所述基材之上的底涂层以及所述底涂层之上的无机膜,其特征在于,所述无机膜的材料为导电性的金属氧化物以及导电性的金属氮化物中的至少一种材料,将用原子力显微镜拍摄的所述无机膜的表面的图像进行傅立叶变换得到的图像中,将从所述傅立叶变换得到的图像的中心朝向0点方向的方位角作为0°,从0°开始,每隔10°沿径向绘制亮度值图而得到36个亮度值的第一6次多项式近似曲线,在所述36个亮度值的第一6次多项式近似曲线中,18个以上的第一6次多项式近似曲线中可以观察到最大值,在拟合所述36个亮度值的图得到的图的第二6次多项式近似曲线中,将频率0.2μm-1与亮度值为最大值的频率之间、亮度值为最小值的频率设为频率A,亮度值为最大值的一半的频率中最大的频率设为频率B,频率A的倒数与频率B的倒数的差为0.01μm~10μm。2.根据权利要求1所述的层积体,其特征在于,所述无机膜表面的凹凸结构的平均间距为0.05μm~4μm。3.根据权利要求1所述的层积体,其特征在于,所述无机膜表面的凹凸结构的凸部的平均高度为0.01μm~2μm。4.根据权利要求1所述的层积体,其特征在于,所述无机膜表面的表面粗糙度Ra、线粗糙度Ra'、线粗糙度的最大值Ra'(max)以及线粗糙度的最小值Ra'(min)满足下述式(1);[式1]0.13≤(Ra'(max)-Ra'(m...

【专利技术属性】
技术研发人员:椋木一词佐伯裕美子服部俊明小并谕吉古川浩二
申请(专利权)人:三菱丽阳株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1