本实用新型专利技术涉及大米加工机械领域，尤其涉及一种大米抛光机，包括：抛光筒、待抛光米入口、抛光筒漏斗室、抛光米出口，抛光筒上方为待抛光米入口，抛光筒下方为抛光筒漏斗室，抛光筒漏斗室下方为抛光米出口，抛光筒包括：上抛光室、粗粒抛光丸、下抛光室、细粒抛光丸，上抛光室和下抛光室分别位于抛光筒的上部和下部，上抛光室和下抛光室内部分别装有粗粒抛光丸和细粒抛光丸；本实用新型专利技术能较好实现大米均匀抛光，减少碎米率。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及大米加工机械领域，尤其涉及一种大米抛光机，包括：抛光筒、待抛光米入口、抛光筒漏斗室、抛光米出口，抛光筒上方为待抛光米入口，抛光筒下方为抛光筒漏斗室，抛光筒漏斗室下方为抛光米出口，抛光筒包括：上抛光室、粗粒抛光丸、下抛光室、细粒抛光丸，上抛光室和下抛光室分别位于抛光筒的上部和下部，上抛光室和下抛光室内部分别装有粗粒抛光丸和细粒抛光丸；本技术能较好实现大米均匀抛光，减少碎米率。【专利说明】一种大米抛光机
本技术涉及大米加工机械领域，尤其涉及一种大米抛光机。
技术介绍
大米抛光是现有粮食加工很为普遍的加工过程，大米抛光机械被广泛的应用于粮食加工企业中；现有的抛光机均是采用抛光锟对大米进行抛光，采用抛光锟对大米进行抛光时会存在一定的辗压力，容易产生碎米，且抛光时容易导致抛光不均，米粒部分表面会过度抛光，而部分表面未被抛光；针对以上问题，本技术设计了一种大米抛光机，本实用型新采用抛光丸粒对大米进行抛光，能较好的避免因辗压而产生碎米，同时也能均匀地对大米进行抛光，较好地避免大米抛光不均。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题为:现有的大米抛光机易产碎米，且容易导致米粒抛光不均。 为解决其技术问题本技术所采用的技术方案为:一种大米抛光机，包括:抛光筒1、待抛光米入口 12、抛光筒漏斗室13、抛光米出口 14、抛光米集装箱15、碎米收集箱16、碎米筛网17、抛光机支架18，抛光筒I上方为待抛光米入口 12，待抛光米入口 12固定在抛光机支架18上部,抛光筒I下方为抛光筒漏斗室13,抛光筒漏斗室13固定在抛光机支架18中部，抛光筒漏斗室13下方为抛光米出口 14，抛光筒漏斗室13与抛光米出口 14之间为碎米筛网17，抛光米出口 14和碎米筛网17的下方分别为抛光米集装箱15和碎米收集箱 16； 其特征在于:抛光筒I包括:上抛光室2、粗粒抛光丸3、下抛光室4、细粒抛光丸5、糠尘筛网6、环形清灰毛刷7、上抛光室筛网8、下抛光室筛网9、糠尘粉抽箱10，上抛光室2和下抛光室4分别位于抛光筒I的上部和下部，上抛光室2和下抛光室4内部分别装有粗粒抛光丸3和细粒抛光丸5，上抛光室2和下抛光室4的外侧为糠尘筛网6，糠尘筛网6的外侧为糠尘粉抽箱10，糠尘粉抽箱10下部设置有吸尘器接管11，环形清灰毛刷7分布在上抛光室2的中下部和下抛光室4的中下部，环形清灰毛刷7固定于糠尘筛网6上，上抛光室2和下抛光室4各下方分别为上抛光室筛网8、下抛光室筛网9,上抛光室2和下抛光室4内均含搅动叶片21，上、下部搅动叶片21位于上抛光室筛网8、下抛光室筛网9的上方，上、下部搅动叶片21安装在转动轴20，转动轴20由转动机19带动。 作为进一步具体优化，粗粒抛光丸3和细粒抛光丸5为实心耐磨橡胶材质，粗粒抛光丸3的直径为:8mm-10mm,细粒抛光丸5的直径为:6mm-8mm。 作为进一步具体优化，上抛光室筛网8和下抛光室筛网9的筛孔大小相同，筛孔为方形或圆形，方形筛孔长、宽均为圆形筛孔直径为3mm-5mm。 本技术的有益效果在于:在大米抛光过程中，待抛光大米能与抛光丸混合搅动，通过抛光丸对大米的摩擦实现抛光；由于大米在搅动中能与大米均勻混合，米粒抛光接触面大且均匀，米粒能被均匀、高效地抛光；同时，米粒在此抛光过程中不存在抛光锟的辗压，米粒受到的压力较小，米粒在抛光过程中能较大程度地减少碎米的产生。 【专利附图】【附图说明】 图1为本技术正视截面结构示意图； 图2为本技术抛光室筛网示意图； 图中:1为抛光筒、2为上抛光室、3为粗粒抛光丸、4为下抛光室、5为细粒抛光丸、6为糠尘筛网、7为环形清灰毛刷、8为上抛光室筛网、9为下抛光室筛网、10为糠尘粉抽箱、11为吸尘器接管、12为待抛光米入口、13为抛光筒漏斗室、14为抛光米出口、15为抛光米集装箱、16为碎米收集箱、17为碎米筛网、18为抛光机支架、19为转动机、20为转动轴、21为揽动叶片。 【具体实施方式】 参照附图进一步说明实现本技术的实施方式(如图1、图2、所示): 方案一:一种大米抛光机,包括:抛光筒1、待抛光米入口 12、抛光筒漏斗室13、抛光米出口 14、抛光米集装箱15、碎米收集箱16、碎米筛网17、抛光机支架18，抛光筒I上方为待抛光米入口 12，待抛光米入口 12固定在抛光机支架18上部，抛光筒I下方为抛光筒漏斗室13，抛光筒漏斗室13固定在抛光机支架18中部，抛光筒漏斗室13下方为抛光米出口14，抛光筒漏斗室13与抛光米出口 14之间为碎米筛网17，抛光米出口 14和碎米筛网17的下方分别为抛光米集装箱15和碎米收集箱16，抛光筒I包括:上抛光室2、粗粒抛光丸3、下抛光室4、细粒抛光丸5、糠尘筛网6、环形清灰毛刷7、上抛光室筛网8、下抛光室筛网9、糠尘粉抽箱10,上抛光室2和下抛光室4分别位于抛光筒I的上部和下部，上抛光室2和下抛光室4内部分别装有粗粒抛光丸3和细粒抛光丸5，上抛光室2和下抛光室4的外侧为糠尘筛网6，糠尘筛网6的外侧为糠尘粉抽箱10，糠尘粉抽箱10下部设置有吸尘器接管11，环形清灰毛刷7分布在上抛光室2的中下部和下抛光室4的中下部，环形清灰毛刷7固定于糠尘筛网6上，上抛光室2和下抛光室4各下方分别为上抛光室筛网8、下抛光室筛网9，抛光室筛网8和下抛光室筛网9的中心均设有转动轴20穿孔，抛光室筛网8和下抛光室筛网9均固定接合到糠尘筛网6上，上抛光室2和下抛光室4内均含搅动叶片21，上、下部搅动叶片21位于上抛光室筛网8、下抛光室筛网9的上方，上、下部搅动叶片21安装在转动轴20，转动轴20由转动机19带动，转动机19固定安装在抛光机支架18的下部。 进一步具体说明，粗粒抛光丸3和细粒抛光丸5为实心耐磨橡胶材质，粗粒抛光丸3的直径为:8mm，细粒抛光丸5的直径为:6mm。 进一步具体说明，上抛光室筛网8和下抛光室筛网9的筛孔大小相同，筛孔为圆形，圆形筛孔直径为3mm。 进一步具体说明，环形清灰毛刷7为软质纤维毛刷。 方案二:与方案一不同之处在于:粗粒抛光丸3的直径为:10mm，细粒抛光丸5的直径为:8_ ;上抛光室筛网8和下抛光室筛网9的筛孔为圆形，圆形筛孔直径为5_。 方案三:与方案一不同之处在于:上抛光室筛网8和下抛光室筛网9的筛孔为方形，方形筛孔长、宽均为3mm。 方案四:与方案三不同之处在于:上抛光室筛网8和下抛光室筛网9的筛孔为方形，方形筛孔长、宽均为5mm。【权利要求】1.一种大米抛光机，包括:抛光筒(I)、待抛光米入口(12)、抛光筒漏斗室(13)、抛光米出口(14)、抛光米集装箱(15)、碎米收集箱(16)、碎米筛网(17)、抛光机支架(18)，抛光筒(I)上方为待抛光米入口(12)，抛光筒(I)下方为抛光筒漏斗室(13)，抛光筒漏斗室(13)下方为抛光米出口(14)，抛光筒漏斗室(13)与抛光米出口(14)之间为碎米筛网(17)，抛光米出口(14)和碎米筛网(17)的下方分别为抛光米集装箱(15)和碎米收集箱(16);其特征在于:抛光筒(I)包括:上抛光室(2)、粗粒抛光丸(3)、下抛光室(4)、细粒抛光丸(5)、本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种大米抛光机，包括：抛光筒(1)、待抛光米入口(12)、抛光筒漏斗室(13)、抛光米出口(14)、抛光米集装箱(15)、碎米收集箱(16)、碎米筛网(17)、抛光机支架(18)，抛光筒(1)上方为待抛光米入口(12)，抛光筒(1)下方为抛光筒漏斗室(13)，抛光筒漏斗室(13)下方为抛光米出口(14)，抛光筒漏斗室(13)与抛光米出口(14)之间为碎米筛网(17)，抛光米出口(14)和碎米筛网(17)的下方分别为抛光米集装箱(15)和碎米收集箱(16)；其特征在于：抛光筒(1)包括：上抛光室(2)、粗粒抛光丸(3)、下抛光室(4)、细粒抛光丸(5)、糠尘筛网(6)、环形清灰毛刷(7)、上抛光室筛网(8)、下抛光室筛网(9)、糠尘粉抽箱(10)，上抛光室(2)和下抛光室(4)分别位于抛光筒(1)的上部和下部，上抛光室(2)和下抛光室(4)内部分别装有粗粒抛光丸(3)和细粒抛光丸(5)，上抛光室(2)和下抛光室(4)的外侧为糠尘筛网(6)，糠尘筛网(6)的外侧为糠尘粉抽箱(10)，糠尘粉抽箱(10)下部设置有吸尘器接管(11)，环形清灰毛刷(7)分布在上抛光室(2)的中下部和下抛光室(4)的中下部，环形清灰毛刷(7)固定于糠尘筛网(6)上，上抛光室(2)和下抛光室(4)各下方分别为上抛光室筛网(8)、下抛光室筛网(9)，上抛光室(2)和下抛光室(4)内均含搅动叶片(21)，上、下部搅动叶片(21)位于上抛光室筛网(8)、下抛光室筛网(9)的上方，上、下部搅动叶片(21)安装在转动轴(20)，转动轴(20)由转动机(19)带动。...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋廷松，
申请(专利权)人：湖南科技学院，
类型：新型
国别省市：湖南;43
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