一种物件校正方法，用以校正一物件的位置以利后续加工，适用于板状的物件。该校正方法使用一摄影器材与一调整装置，该物件上预先标示有至少二参考点，该摄影器材具有至少二窗口，该窗口内定义有一校正点，且该窗口的投影范围内涵盖一该参考点；本发明专利技术的物件校正方法以各该窗口的投影范围内的该校正点与该参考点之间的距离为依据，利用该调整装置调整该物件的位置，直到该些参考点与其所落入窗口的该校正点之间的距离的平方和为最小为止。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术是与加工方法有关；特别是指一种。
技术介绍
如电路板的类的板状物件在接受现代化的自动加工流程的前，常需对其放置在治具或机台上的位置先行校正，利于进行后续的钻孔或零件安装等动作；这是因为物件的工艺并无法保证产出的每个物件皆具有完全相同的尺寸或形状，所以在一定的容许范围内，尺寸或形状略有出入的物件可以在经过精确校正后再行加工，以确保加工后的成品具有同等的功能或效果，尤其对于预先布设有精密电路线的物件而言，校正的重要性更是无庸置疑。 公知的校正方法是在待加工的物件上预先标示出二个参考点，再依二参考点的联机角度及中心点作为校正依据，由此可容忍物件尺寸发生一定程度的误差。惟，此方法仍有其局限，并不适用于尺寸非常大或具可挠性的物件，因为这样的物件不免会产生不规则的涨缩或型变，使得前述校正依据失准；若是为了克服此问题而加入更多参考点，在不同的参考点之间有可能会产生无法互相配合的校正依据，亦即，无论如何移动物件，皆无法同时满足所有校正依据，使得校正动作进退失据，在不同的物件间难以取得一致的校正标准。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，即使物件的尺寸较大或具可挠性，且标示有二个以上任意分布的参考点，仍可有效校正物件在机台或治具上的位置，便于进行后续的加工动作。 为实现上述目的，本专利技术所提供的是应用于呈板状的一物件，该物件预先标示有至少二参考点，该校正方法包括使用一摄影器材与一调整装置，该摄影器材具有至少二窗口，该窗口的投影范围内涵盖一该参考点，且该窗口中定义有一校正点，各该窗口中的该参考点与该校正点互为对应，该校正方法包含下列步骤: 计算各该参考点的一偏差距离，其中该偏差距离定义为该参考点与对应的该校正点在一投影平面上的距离； 使用该调整装置调整该物件的位置，再次计算该物件位移后各该参考点的该偏差距离，直到该些参考点的该些偏差距离的平方和为最小为止。 本专利技术的效果在于有效校正物件在机台或治具上的位置，且能适用于形状较大或以可挠材质制成的物件。 【附图说明】 图1是本专利技术的应用环境示意图，同时示范物件在接受校正的前的状态； 图2是图1的应用环境其中一个窗口的放大示意图； 图3是本专利技术的流程图； 图4是图1的应用环境的另一示意图，同时示范物件在接受校正之后的最佳状态。 附图中符号说明: 10物件，12参考点，20窗口，22校正点，24坐标系。 【具体实施方式】 为能更清楚地说明本专利技术，举较佳实施例并配合附图详细说明如后。本专利技术的适用于板状的物件，且该物件预先标示有至少二参考点，实际操作上可在制造物件时完成该些参考点的标示，相关的标示方法并非本专利技术的重点，于此不加详述，只要该些参考点彼此间的相对距离在应受同等校正标准的不同物件上皆为一致即可；该校正方法包括使用一摄影器材与一调整装置，该调整装置是用以调整物件的位置以进行校正，事先说明。 请参阅图1及图2，本专利技术一较佳实施例的受校正物件为一物件10，该物件10具有四个预先标示的参考点12 ;该摄影器材具有四个窗口 20，该些窗口 20的投影范围内各涵盖有一该参考点12，且该些窗口 20各定义有一校正点22，各该窗口 20中的该参考点12与该校正点22互为对应。此处所见该物件10的形状并不具有任何特殊意义，亦不为本专利技术的应用限制。 为方便进行本专利技术提供的，各该窗口 20皆定义有一坐标系24，其作用请容后再叙。在本实施例中，在各该窗口 20的投影范围内，该校正点22即为该坐标系24的原点，但并不以此为限；由于该校正点22与该参考点12皆位于该坐标系24上,故该校正点22具有一第一坐标值(XI，Yl )，该参考点12亦具有一第二坐标值(X2，Y2)。 需特别说明的是，该些参考点12、该些校正点22与该摄影器材所具有的该些窗口20的数量并不能视为本专利技术的限制，虽在本实施例中，该些参考点12、该些校正点22与该些窗口 20的数量皆为四个,但此仅为一种示范而已,在其他实施例中，该些参考点12、该些校正点22与该些窗口 20的数量只要至少为二个以上，且互为对应即可。 请参照图3，本专利技术包含下列步骤: 首先，在各该窗口 20中，通过该第一坐标值(XI，Yl)及该第二坐标值(X2，Y2)，经几何数学计算出该参考点12与该校正点22在一投影平面上的距离，该距离定义为该参考点12的一偏差距离。 接着，使用该调整装置调整该物件10的位置，再次计算该物件10位移后各该参考点12的该偏差距离,直到该些参考点12的该些偏差距离的平方和为最小为止。 本专利技术提供的的所以采用该些偏差距离的平方和为校正依据，理由在于该些偏差距离的平方和为二次函数，而二次函数在数学上可取得具极小值的唯一解。当该些参考点12的该些偏差距离的平方和为最小时，代表该物件10已处于一适中位置，各该参考点12已尽可能平均贴近对应的一该校正点22。 请比较图1及图4，图1示范该物件10于接受校正的前的位置，图4则示范该物件10依上述步骤校正后，该些参考点20的该些偏差距离的平方和为最小时的状态。只要将本专利技术的施用在待进行同样加工动作的复数个物件上，便可将每一物件视为皆具有同样的校正标准。 值得一提的是，如前所述，本实施例中各该窗口 20内皆定义有该坐标系24，这是为了方便计算各该参考点12与对应的一该校正点22之间的距离(亦即各该参考点12的该偏差距离)，于其他实施例中当然亦可采用有别于使用该坐标系24的不同计算方法。 综上所述，即使物件的尺寸较大，或以可挠性材质制成，本专利技术的仍可透过摄影器材的复数窗口，利用预先标示于物件上的复数个参考点，有效校正物件在机台或治具上的位置，有利于后续的加工动作。 以上所述仅为本专利技术较佳可行实施例而已，举凡应用本专利技术说明书及申请专利范围所为的等效方法变化，理应包含在本专利技术的权利要求范围内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种物件校正方法，是应用于呈板状的一物件，该物件预先标示有至少二参考点，该校正方法包括使用一摄影器材与一调整装置，该摄影器材具有至少二窗口，该些窗口的投影范围内各涵盖有一该参考点，且该些窗口中各定义有一校正点，各该窗口中的该参考点与该校正点互为对应，该校正方法包含下列步骤：计算各该参考点的一偏差距离，其中该偏差距离定义为该参考点与对应的该校正点在一投影平面上的距离；使用该调整装置调整该物件的位置，再次计算该物件位移后各该参考点的该偏差距离，直到该些参考点的该些偏差距离的平方和为最小为止。
【技术特征摘要】
1.一种物件校正方法，是应用于呈板状的一物件，该物件预先标示有至少二参考点，该校正方法包括使用一摄影器材与一调整装置，该摄影器材具有至少二窗口，该些窗口的投影范围内各涵盖有一该参考点，且该些窗口中各定义有一校正点，各该窗口中的该参考点与该校正点互为对应，该校正方法包含下列步骤: 计算各该参考点的一偏差距离，其中该偏差距离定义为该参考点与对应的该校正点在一投影平面上的距离； 使用该调整...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯兆平，
申请(专利权)人：达观科技有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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