气体分析仪光路调节装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种气体分析仪光路调节装置，其设置于气体分析仪气体室腔壁上，用于对气体分析仪中的光学组件进行调节；光路调节装置包括：调节主结构和调节辅结构，调节辅结构形成于调节主结构上，通过调节辅结构调节调节主结构，调节主结构可相对气体室腔壁位移，调节调节辅结构的力源沿调节主结构的径向方向，光学组件安装于调节主结构上，随调节主结构运动。本发明专利技术的气体分析仪光路调节装置滑动设置于气体腔室的腔壁上，进行光路调节时，调节作用力为位于调节装置径向方位的力源，其不受气体腔室内部或分析仪外部箱体空间的限制，可对气体分析仪内的光路进行连续调节，从而解决了调节过程中仅从轴向调节操作受空间限制的缺陷。

【技术实现步骤摘要】
气体分析仪光路调节装置
本专利技术涉及气体分析
，特别是涉及一种气体分析仪光路调节装置。
技术介绍
气体分析仪为一种用于分析气体浓度及流程检测的分析仪表。随着人们对气体分析仪使用要求的不断提高，使仪器光路对光学元件安装精度比较敏感。从而，如果光学元件安装精度达不到要求，将会降低仪器的检测精度，甚至仪器功能会完全失效。某些气体分析仪厂商希望仅通过提高其结构件加工精度以及安装人员技术水平来保证光学元件正常的安装精度，但这不仅增加了仪器的生产制造成本，而且给相应的质量管控也带来了一定难度，同时仪器的可靠性及稳定性也不能得到保证。因此通常气体分析仪会设置有光路调节装置，以对光路进行调校。现有技术中，光路调节装置设置于相应的气体腔室内部。如此，当需要通过光路调节装置来对光路进行调节时，因调节装置安装到气体腔壁内，调节时工具的着力点只能设置在气体腔壁内部，从而会受气体腔内部或分析仪外部箱体空间限制，无法实现光路的连续调节。而且，现有的调节装置由于没有充分考虑调节完成后对调节装置的紧固，光路调节后，与调节装置相配合的光学元件的位置维持存在一定的不确定性，大大影响了气体分析仪的稳定性，影响仪器的正常使用。针对上述技术问题，有必要提供进一步的解决方案。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种气体分析仪光路调节装置，以解决现有的光路调节装置中存在的不足。为了实现上述目的，本专利技术实施例提供的技术方案如下：本专利技术的气体分析仪光路调节装置设置于气体分析仪气体室腔壁上，用于对气体分析仪中的光学组件进行调节；所述光路调节装置包括：调节主结构和调节辅结构，所述调节辅结构形成于所述调节主结构的一端，通过所述调节辅结构调节所述调节主结构，所述调节主结构可相对所述气体室腔壁位移，调节所述调节辅结构的力源位于所述调节主结构的径向方位；所述光学组件安装于所述调节主结构上，随所述调节主结构运动。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，所述调节主结构可相对所述气体室腔壁产生位移，所述位移的方向沿所述调节主结构的轴向方向。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，所述光路调节装置通过螺纹连接于所述腔壁上。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，所述光路调节装置上螺纹为内螺纹。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，所述光路调节装置上螺纹为外螺纹。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，所述调节辅结构形成于所述调节主结构的一端，并沿所述调节主结构的轴向方向突伸于所述腔壁端面设置。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，所述调节辅结构上设置有着力点。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，作用于所述着力点的力源沿所述调节主结构的径向方向。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，所述着力点为方便所述力源直接施力或借助工具施力的结构，所述着力点为形成于所述调节辅结构上的凸起结构、或孔结构、或槽结构。作为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的改进，所述气体分析仪光路调节装置还包括紧定结构，所述光路调节装置通过所述紧定结构紧定于所述腔壁，所述紧定结构为螺钉顶紧结构或卡环抱紧结构。与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：本专利技术的气体分析仪光路调节装置滑动设置于气体腔室的腔壁上，进行光路调节时，调节作用力为沿调节装置径向方向的力源，其不受气体腔室内部或分析仪外部箱体空间的限制，可对气体分析仪内的光路进行连续调节，从而克服了调解过程中仅从轴向调节操作受空间限制的缺陷。此外，本专利技术的气体分析仪光路调节装置对光路进行调节后，可通过紧定结构保持稳固性，有利于保证调节后光学元件安装状态的保持性，使气体分析仪的性能更加稳定。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术的气体分析仪光路调节装置一具体实施方式的立体示意图；图2为本专利技术的气体分析仪光路调节装置另一具体实施方式的立体示意图；图3为本专利技术的气体分析仪光路调节装置另一种具体实施方式的立体示意图；图4为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的着力点为孔结构时的示意图；图5为本专利技术的气体分析仪光路调节装置的着力点为凸起结构时的示意图；图6为本专利技术的气体分析仪光路调节装置仪器调节时的示意图；图7(a)、7(b)分别为本专利技术的气体分析仪光路调节装置调节时所使用的“Γ”字形或“|”字形工具示意图。此外，各附图中，Z轴沿着调节结构的相对运动方向，代表轴向方向；X、Y轴与调节结构的相对运动方向垂直，代表径向方向。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本专利技术中的技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例，本专利技术包括但不仅限于此。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。如图1-图7(b)所示，本专利技术的气体分析仪光路调节装置100设置于气体分析仪气体室腔壁上，所述气体腔室内部形成光线传输的通道，当气体分析仪光路调节装置100沿气体腔室产生位移时，相应气体分析仪内的光学组件的位置发生变动，如此，达到光路调节的目的。具体地，所述气体分析仪光路调节装置100包括：调节主结构10、调节辅结构20以及紧定结构30。所述调节辅结构20形成于所述调节主结构10的一端，通过在所述调节辅结构20上施加作用力调节所述调节主结构10，可使调节主结构10相对所述气体室腔壁产生位移，该位移的方向沿其自身的轴向方向。此外，作用于所述调节辅结构20上的力源沿所述调节主结构10的径向方向。相应气体分析仪内的光学组件40安装于所述调节主结构10上，并可随所述调节主结构10运动。如图6所示，进一步地，所述光路调节装置100通过螺纹连接于所述腔壁上，所述螺纹连接只是本专利技术连接方式的一种形式，本专利技术包括但不限于此方式，所述连接方式还可以通过滑块、导轨等结构实现。作为其中一种实施方式，所述光路调节装置上所述螺纹为内螺纹，本实施方式中，该内螺纹形成于所述调节主结构10内部，此时，调节主结构10安装于气体腔室的外侧壁上。当通过调节辅结构20驱动调节主结构10时，即可实现气体分析仪光路调节装置100在气体腔室的外侧壁上的滑动。相应光学组件40安装于所述调节主结构10上，当气体分析仪光路调节装置100在气体腔室的外侧壁上的滑动时，其可随气体分析仪光路调节装置100作同步运动。从而，光学组件40的位置变动时，由光学组件40反射的光线的反射路径也随之变动，从而达到调节光路的目的。优选地，上述实施方式中，所述调节主结构10和气体腔室为圆柱形，所述调节主结构10设置于所述圆柱形气体腔室的一端，此时，所述光学组件40位于气体腔室内部的光线传输通道的一端，该光线传输通道的另一端同样设置有光学组件，光线在两端的光学组件之间形成反射。可替代地，调节主结构10还可通过滑道方式安装于所述气体腔室一端。如图2所示，作为另一种实施方式，所述光路调节装置上螺纹为外螺纹本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体分析仪光路调节装置，其特征在于，所述光路调节装置设置于气体分析仪气体室腔壁上，用于对气体分析仪中的光学组件进行调节；所述光路调节装置包括：调节主结构和调节辅结构，所述调节辅结构形成于所述调节主结构上，通过所述调节辅结构调节所述调节主结构，所述调节主结构可相对所述气体室腔壁位移，调节所述调节辅结构的力源位于所述调节主结构的径向方位；所述光学组件安装于所述调节主结构上，随所述调节主结构运动。

【技术特征摘要】
1.一种气体分析仪光路调节装置，其特征在于，所述光路调节装置设置于气体分析仪气体室腔壁上，用于对气体分析仪中的光学组件进行调节；所述光路调节装置包括：调节主结构和调节辅结构，所述调节辅结构形成于所述调节主结构上，通过所述调节辅结构调节所述调节主结构，所述调节主结构可相对所述气体室腔壁位移，该位移的方向沿主结构的轴向方向；调节辅结构上设置有着力点，通过该着力点可对调节辅结构施加作用力，其中，作用于所述着力点的力源位于所述调节主结构的径向方向；所述着力点的结构形式为方便所述力源直接施力或借助工具施力的结构；所述光路调节装置通过螺纹连接于所述腔壁上；所述光学组件安装于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓文平，朱道龙，赵辉，
申请(专利权)人：苏州谱道光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32