【技术实现步骤摘要】
底脚螺栓调平的平台底座
本技术涉及一种平台底座，尤其涉及一种底脚螺栓调平的平台底座。
技术介绍
大型设备底脚螺栓在调平过程中，调节螺栓的底部与平台底座孔的截面都是圆截面，在巨大载荷下调节螺栓时，由于二者为面接触，平台底座的受力面积较大，受力点不确定会引起不确定方向的水平偏移，改变设备的位置，致使设备在工作时影响工件的加工质量和精度要求。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种底脚螺栓调平的平台底座，使大型设备在安装使用的调平过程中底座不易发生偏移，解决设备使用过程中偏移的问题。 为实现上述目的，本技术采用了如下技术方案:一种底脚螺栓调平的平台底座，包括位于同一中轴线上的上下两部分，所述平台底座下部为扁平的圆柱体结构，上部为扁平的圆台结构；所述圆台中部设有一凹槽。 优选的，所述凹槽为半球形结构。 大型设备在安装使用时，底脚螺栓在承受巨大载荷下进行调平，螺栓陷入凹槽中，螺栓底部的凸起与凹槽底部接触，螺栓与底座的接触由面受力变成点受力，致使调节螺栓时底座不易发生偏移。 本技术结构简单，能将调节螺栓与平台底座的接触由面受力变成点受力，底座受力面积减小同时力矩减小，致使底座受力减小而不易发生偏移，同时增大了设备与地面的受力面积，减小对地面的压强，保护地面结构。 【附图说明】 下面结合附图和【具体实施方式】对本技术作进一步详细说明。 图1是本技术的结构示意图； 图2是本技术的功能示意图。 图中，1、凹槽；2、圆台结构；3、圆柱体结构；4、螺栓底部凸起。 【具体实施方式】 如图1所示，一种底脚螺栓调平的平台底座，包括位于同一...
【技术保护点】
一种底脚螺栓调平的平台底座，包括位于同一中轴线上的上下两部分，其特征是：所述平台底座下部为扁平的圆柱体结构（3），上部为扁平的圆台结构（2）；所述圆台中部设有一凹槽（1）。
【技术特征摘要】
1.一种底脚螺栓调平的平台底座，包括位于同一中轴线上的上下两部分，其特征是:所述平台底座下部为扁平的圆柱体结构(3)，上部为扁平的圆台...
【专利技术属性】
技术研发人员：王立顺，张若伟，吴树人，秦桃，吴付豪，
申请(专利权)人：徐州中欧科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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