毫米波检查设备的辐射计温度校准装置及其校准方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，包括：常温校准机构，所述常温校准机构的校准温度等于当前环境温度，用于校准辐射计的初值；和高温校准机构，所述高温校准机构的校准温度高于当前环境温度，用于与常温校准机构一起校准辐射计的增益。与现有技术相比，在本发明专利技术的上述各个实施例中，由于为辐射计设置了专门的高低温校准装置，因此能够对辐射计的初值和增益实时地校准，从而避免了环境温度变化和辐射计自身温度变化所带来的不利影响，从而提高了辐射计的检测精度。

【技术实现步骤摘要】
毫米波检查设备的辐射计温度校准装置及其校准方法
本专利技术涉及一种用于毫米波检查设备的辐射计温度校准装置及其校准方法。
技术介绍
所公知的是，毫米波检查设备的辐射计容易受到温度变化的影响，一种是工作环境的温度变化，例如早晨的工作环境温度与中午的工作环境温度可能不同，另一种是辐射计自身的温度变化，例如长时间工作后辐射计自身的温度会升高。这些温度变化对辐射计的测量精度影响很大，会造成辐射计初值的漂移和增益的变化。但是，遗憾的是，在现有的毫米波检查设备中，没有为辐射计设计任何温度校准装置，导致辐射计的检测精度不高。
技术实现思路
本专利技术的目的旨在解决现有技术中存在的上述问题和缺陷的至少一个方面。相应地，本专利技术的目的之一在于提供一种能够提高辐射计检测精度的辐射计温度校准装置。本专利技术的另一个目的在于提供一种结构简单的辐射计温度校准装置。本专利技术的再一个目的在于提供一种结构紧凑且体积小的辐射计温度校准装置。根据本专利技术的一方面，其提供一种毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，包括：常温校准机构，所述常温校准机构的校准温度等于当前环境温度，用于校准辐射计的初值；和高温校准机构，所述高温校准机构的校准温度高于当前环境温度，用于与常温校准机构一起校准辐射计的增益。根据本专利技术的一个优选实施例，所述常温校准机构包括：可转动的常温校准镂空转筒组件；和第一驱动电机，所述第一驱动电机安装在支架上，用于驱动常温校准镂空转筒组件围绕所述辐射计连续转动。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述高温校准机构包括：高温校准半圆板组件；和第二驱动电机，所述第二驱动电机安装在支架上，用于驱动高温校准半圆板组件围绕所述辐射计摆动。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准镂空转筒组件和所述高温校准半圆板组件绕同一轴线运动。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述支架为U形支架，其具有前壁和与前壁相对的后壁。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准镂空转筒组件的一端与转轴连接，所述转轴与所述第一驱动电机的输出轴连接。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述转轴的轴端钻有带键的轴孔，所述第一驱动电机的输出轴插入所述转轴的轴孔中，从而实现两者之间的直接对接。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述支架的前壁a上形成有轴承座，所述转轴通过轴承转动地支撑在轴承座的通孔中。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述支架的后壁上分别形成有：用于安装第一驱动电机的第一电机定位孔；和用于安装第二驱动电机的第二电机定位孔。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述第一电机定位孔a与所述轴承座的通孔同心。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准机构还包括温度传感器，用于检测所述常温校准镂空转筒组件的温度。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准机构还包括位置传感器，用于检测所述常温校准镂空转筒组件的初始位置。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述位置传感器为接近开关，并安装在支架上；并且在所述常温校准镂空转筒组件上设置有与所述位置传感器相对应的凸起，当所述常温校准镂空转筒组件位于初始位置时，所述位置传感器与所述凸起直接相对。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准镂空转筒组件包括：镂空转筒；和设置在镂空转筒内侧的吸波材料。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准机构还包括：隔热器件，所述隔热器件、设置在所述转轴与常温校准镂空转筒组件之间，用于防止第一驱动电机产生的热量经所述转轴传导到常温校准镂空转筒组件。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述高温校准半圆板组件的一端通过扇形支架固定在第一同步齿形带轮上，所述第一同步齿形带轮通过轴承转动地支撑在所述转轴上，所述第一同步齿形带轮通过同步齿形带与第二驱动电机的输出轴上的第二同步齿形带轮相联。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述高温校准半圆板组件从内向外依次包括：隔热套、吸波材料、导热板、电阻加热膜、保温材料和隔热板。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述高温校准机构还包括：温度传感器，所述温度传感器设置在所述高温校准半圆板组件的内部，与电阻加热膜接触，用于检测所述高温校准半圆板组件的温度。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述高温校准机构还包括：两个限位检测器，用来限制所述高温校准半圆板组件的摆动范围。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述高温校准机构还包括：张紧轮，用于调节所述同步齿形带的张力。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准机构和所述高温校准机构相互热隔离。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准机构和所述高温校准机构通过绝热材料相互热隔离。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准机构和所述高温校准机构通过空气间隙相互热隔离。根据本专利技术的另一方面，提供一种毫米波检查设备的辐射计的校准方法，包括步骤：用辐射计接收温度等于当前环境温度的常温校准机构辐射的毫米波能量，从而获得与当前环境温度相对应的常温毫米波能量，并用当前环境温度和获得的常温毫米波能量来标定所述辐射计的初值。根据本专利技术的一个优选实施例，所述校准方法还包括步骤：用辐射计接收具有高于当前环境温度的预定高温的高温校准机构辐射的毫米波能量，从而得到与预定高温相对应的高温毫米波能量，并用下面的公式来标定所述辐射计的增益：高温毫米波能量-常温毫米波能量/预定高温-当前环境温度。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述常温校准机构围绕辐射计连续转动，以便对所述辐射计的初值连续地进行校准。根据本专利技术的另一个优选实施例，所述高温校准机构围绕辐射计往复摆动，以便与所述常温校准机构一起，对所述辐射计的增益进行校准。与现有技术相比，在本专利技术的上述各个实施例中，由于为辐射计设置了专门的高低温校准装置，因此能够对辐射计的初值和增益实时地校准，从而避免了环境温度变化和辐射计自身温度变化所带来的不利影响，从而提高了辐射计的检测精度。附图说明本专利技术的这些和/或其他方面和优点从下面结合附图对优选实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1显示根据本专利技术的一个示例性的实施例的辐射计温度校准装置的立体结构示意图；图2显示图1所示的辐射计温度校准装置的剖视图；图3显示根据本专利技术的一个示例性的实施例的常温校准镂空转筒组件的立体结构示意图；图4显示根据本专利技术的一个示例性的实施例的高温校准半圆板组件的立体结构示意图；图5显示沿图4中的B-B线的高温校准半圆板组件的剖视图；和图6显示根据本专利技术的一个示例性的实施例的支架的立体结构示意图。具体实施方式下面结合实施例进一步说明本专利技术的具体实施方式。图1至图6显示根据本专利技术的辐射计温度校准装置的一个示例性的实施例。在本专利技术中，图示的辐射计温度校准装置用于毫米波检查设备。但是，需要说明的是，该辐射计温度校准装置还能够适用于其它设备或其它用途。图1显示根据本专利技术的一个示例性的实施例的辐射计温度校准装置的立体结构示意图；图2显示图1所示的辐射计温度校准装置的剖视图。如图1和图2所示，在图示优选实施例中，辐射计温度校准装置包括常温校准机构和高温校准机构。因此，在本文中，也可以将这种辐射计温度校准装置称之为高低温校准装置。具体地，常温校准机构具有等于当前环境温度的校准温度，用于校准辐射计的初值。高温校准机构具有高于当前环境温度的校准温度，用于与常温校准机构一起校准辐射计的增益。如图1和图2所示，在一个实例性的优选实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，包括：常温校准机构，所述常温校准机构的校准温度等于当前环境温度，用于校准辐射计的初值；和高温校准机构，所述高温校准机构的校准温度高于当前环境温度，用于与常温校准机构一起校准辐射计的增益。

【技术特征摘要】
1.一种毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，包括：常温校准机构，所述常温校准机构的校准温度等于当前环境温度，用于校准辐射计的初值；和高温校准机构，所述高温校准机构的校准温度高于当前环境温度，用于与常温校准机构一起校准辐射计的增益；所述常温校准机构包括：可转动的常温校准镂空转筒组件(111)；和第一驱动电机(118)，所述第一驱动电机(118)安装在支架(129)上，用于驱动常温校准镂空转筒组件(111)围绕所述辐射计连续转动；所述高温校准机构包括：高温校准半圆板组件(130)；和第二驱动电机(142)，所述第二驱动电机(142)安装在支架(129)上，用于驱动高温校准半圆板组件(130)围绕所述辐射计摆动；其中，所述常温校准镂空转筒组件(111)的一端与转轴(116)连接，所述转轴(116)与所述第一驱动电机(118)的输出轴连接；其中，所述高温校准半圆板组件(130)的一端通过扇形支架(137)固定在第一同步齿形带轮(138)上，所述第一同步齿形带轮(138)通过轴承转动地支撑在所述转轴(116)上，所述第一同步齿形带轮(138)通过同步齿形带(140)与第二驱动电机(142)的输出轴上的第二同步齿形带轮(141)相联。2.根据权利要求1所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述常温校准镂空转筒组件(111)和所述高温校准半圆板组件(130)绕同一轴线运动。3.根据权利要求2所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述支架(129)为U形支架，其具有前壁(129a)和与前壁(129a)相对的后壁(129b)。4.根据权利要求1所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述转轴(116)的轴端钻有带键的轴孔，所述第一驱动电机(118)的输出轴插入所述转轴(116)的轴孔中，从而实现两者之间的直接对接。5.根据权利要求4所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述支架(129)的前壁(129a)上形成有轴承座(128)，所述转轴(116)通过轴承(117)转动地支撑在轴承座(128)的通孔(119)中。6.根据权利要求5所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述支架(129)的后壁(129b)上分别形成有：用于安装第一驱动电机(118)的第一电机定位孔(127a)；和用于安装第二驱动电机(142)的第二电机定位孔(127b)。7.根据权利要求6所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述第一电机定位孔(127a)与所述轴承座(128)的通孔(119)同心。8.根据权利要求7所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述常温校准机构还包括温度传感器(120)，用于检测所述常温校准镂空转筒组件(111)的温度。9.根据权利要求7所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述常温校准机构还包括位置传感器(121)，用于检测所述常温校准镂空转筒组件(111)的初始位置。10.根据权利要求9所述的毫米波检查设备的辐射计温度校准装置，其中，所述位置传感器(121)为接近开关，并安装在支架(129)上；并且在所述常温校准镂空转筒组件(111)上设置有与所述位置传感器(121)相对应的凸起(119)，当所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈志强，李元景，赵自然，刘以农，吴万龙，张丽，林东，沈宗俊，罗希雷，郑志敏，桑斌，曹硕，金颖康，
申请(专利权)人：清华大学，同方威视技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11