本实用新型专利技术涉及一种应用于电磁辐射比吸收率评估的标准中国人标准人头模型。所述模型为壳体模型，壳体厚度整体为2mm，耳部参考点处厚度为6mm，公差分别为+/-10%。本实用新型专利技术的有益效果在于：1、建立了以中国人的人头数据为基础的人头模型，更为精确的反映符合国人特点的数据。2、本实用新型专利技术的模型可以直接用于电磁辐射评估测试中。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及一种应用于电磁辐射比吸收率评估的标准中国人标准人头模型。所述模型为壳体模型，壳体厚度整体为2mm，耳部参考点处厚度为6mm，公差分别为+/-10%。本技术的有益效果在于：1、建立了以中国人的人头数据为基础的人头模型，更为精确的反映符合国人特点的数据。2、本技术的模型可以直接用于电磁辐射评估测试中。【专利说明】一种应用于电磁辐射比吸收率评估的标准人头模型
本技术涉及一种应用于电磁辐射比吸收率评估的标准中国人标准人头模型。
技术介绍
无线通信产品的普及大大方便了人民生活，但是其作为信息载体的电磁场也带来 了电磁辐射的健康问题。根据世界卫生组织结论，电磁场是可疑致癌物2B等级。为了确定 人头暴露于电磁场环境下的体内特别是头部的电磁场辐射剂量，目前多通过构建人体头部 模型配合等效组织模拟液，使用测量和数值模拟的方法来进行。相关人体模型的尺寸数据 多来源于欧美，即高加索人种。 当前的相关评估多使用SAM人头模型进行。该模型来源于美国军人90百分位数 数据。并且进行外耳部的简化和压缩，壳体厚度2-6毫米，内充组织模拟液体，用于电磁辐 射评估，特别是靠近脑部使用的移动通信终端测试。SAM模型的主要参数和技术指标已公 布并可参考 ansi 标准 IEEE1528:Practice for Determining the Peak Spatial-Average Specific Absorption Rate(SAR)in the Human Head from Wireless Communications Devices:Measurement Techniques。 SAM人头来源于美国军人的90百分位头部数据，高加索人种与蒙古人种具有鲜明 的头部特征差异，SAM人头能否有效的用于评估我国人群的头部电磁场辐射强度，一直是广 大消费者的担忧，也是政策监管部门所面临的问题。所以有必要形成符合我国人群特征的 人头模型，并用于电磁辐射SAR评估。这对于在保护人民健康的前提下，促进无线通信事业 发展有重大的意义。 我国目前在相关领域(例如手机比吸收率入网测试）中使用的也是上述人头模型。 我国曾经发布过基于大样本人口调查的不同百分位数的人头数据GB/T2428-1998 :成年人 头面部尺寸，但是目前还没有任何将上述数据用于电磁辐射评估的报道。直接将上述数据 用于电磁辐射评估也存在很多问题，特别是对于外耳的修正。 本申请中的，电磁辐射比吸收率（SAR)是指：单位时间内，单位质量组织吸收的电 磁场能量。
技术实现思路
本技术的目的，是解决使用符合中国人特征的人头模型，评估人头在电磁辐 射下的SAR分布。对移动产品的电磁辐射评估提供具有包含中国人体质特征的结果。 本技术的技术方案如下： 1、一种应用于电磁辐射比吸收率评估的标准人头模型，所述头部模型包含眼、鼻、 口和耳，其特征在于，其外形尺寸如下： #准差 外形尺小 序分 壞卜!名称 1111 II11I (I )头丨 Μ ΙΓχ:? 586 (2) 形态lili'tC 6.55 130 (3) 头 Μ 大 K 6.77 195 (4) 头敁人宽 5.86 161 (5) 头矢状弧 15.27 375 (6) 头}-- 状弧 13.46 3Β3 (7) 头令尚 10.68 2!1 (8) 鼻尖点沈丨SAM 6.29 230 (9) liUi枕后点S--4.92 110 (10) 头 Μ 1C 4.61 216 (11) 两丨1:外宽 5.05 188 (12) 两环屏间宽 3.99 Η6 (13) 额 15 小宽 3.7 121 (Μ)而宽 3.9 119 (-15) 两下额角问宽 3.08 121 (16) 容貌面长 5.9.1 200 (17) 容貌 WlHC 3.44 81 (18) 2.5.1 5δ (19 )鼻宽 0.68 37 (20) 赛深 1.08 22 (21) 点Mi 3.7 77 (22) 两(1 外宽 2.05 101 (23) 瞳孔_距 L 3 63 (24) 两觀内宽 1.39 38 (25) 口宽 1.2 50 (26) 全高 0.77 21 (27) 耳基部长 0.99 54 (28) 容貌 1:1:宽 1.12 34 (29) 耳屏颧点长 1.14 38 (30) ￠1鮮鼻根於 1.94 125 (31) 耳屏颏K长 3.37 118 (32) 耳-屏K颌角长 1.67 71 (33) 4)对点问额弧K 6. 13 307 (34) tf:M 点 _ 颏下弧 K 5.55 321 (35) 耳屏点__卜'弧长 5. 26 301 (36) 头顶枕后点_颏下丨IK: 15.4 696 (37) 头耳高 5. Η 137 (38) 容貌耳长 2. 1.6 60 (39) 头顶点至眉_点if; 7 102 (40) 头Μ点至鼻尖点?Μ 8. 11 156 (?Γ)賴":卜.点高 1,27 25 进一步的，所述模型为壳体模型，壳体厚度整体为2mm，耳部参考点处厚度为6mm， 公差分别为+/-10%。 进一步的，所述模型为全头部壳体模型，左右沿鼻中线对称。 进一步的，所述模型为半头部壳体模型。 本技术的有益效果在于： 1、建立了以中国人的人头数据为基础的人头模型，更为精确的反映符合国人特点 的数据。 2、本技术的模型可以直接用于电磁辐射评估测试中。 【专利附图】【附图说明】 图1是本技术的正面结构及尺寸示意图。 图2、图3是本技术的侧面结构及尺寸示意图。 【具体实施方式】 下面结合附图，对本技术的技术方案作进一步的阐述。 如图1-3所示，本技术的外形尺寸如下表所示。 腾順丨· 啦差.外形财 DIB： llilt ：Ι 丨.5.39 5_: 2 6.55 m I头最大长 6.77 1? 4头最大宽 m S头矢状弧 37? e 头1:!?：.弧 1:;.3㈦ 7头全商 10.68 241 8鼻灾,6:至枕后?丨 6.29 230 9:耳 #:'r:枕点Γ 也 92 110 10头斜长 4.64 211 1!两 1|:外宽 5.05 ?88 12 iWlilrfPrt 3. 99 146 13 额lii 小宽 3.7 121 Η _ 宽 3,9 149 15两卜_额扣_宽 3.08 121 16 W貌liilC 5,94 200 .17容貌1:面长 3.44 81 18 Ufh 2.54 5δ 請.W.宽 0·68 3? 20 鼻深 1.08 22 2|鼻Κ領Κ点跖 3.7 77 22丨树_外宽 2,0δ 101 23 _ 孔 fajli 1.3 63 24 雨_ ? 宽 1.39 38 25 口宽 L, 2 50 26 Μ全高 0,77 21 27〗:;丨:苯部长 0.99 54 28 容貌 1-1:宽 1.12 34 29环屏颧点长 1.11 38 30 很 K 1,94 125 31耳屏颏Κ长 3.37 148 32 l:Hrf下颌角 Κ 1.67 74本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种应用于电磁辐射比吸收率评估的标准人头模型，所述头部模型包含眼、鼻、口和耳，其特征在于，其外形尺寸如下： 。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：巫彤宁，陆冰松，吕彬，张晨，
申请(专利权)人：工业和信息化部电信研究院，
类型：新型
国别省市：北京;11
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