一种反光饰物的制作方法技术

一种反光饰物的制作方法，属于技术领域。其制作步骤为：利用软件系统Ｖ６．ｘ，计算机设计图案；用电脑刻绘机在热熔型玻璃微珠反光膜上刻制出设计图案；在压力０．０２ＭＰａ－１．０Ｍｐａ、温度１４０℃－２１０℃条件下，将刻制好的热熔型玻璃微珠反光膜设计图案熔接在纤维布料或纤维布料制品上；自然冷却至常温，剥去玻璃微珠反光膜上的隔离膜。应用本发明专利技术制作的反光服饰，饰物和服装的整体性好、附着性强，反光图案与服装浑然一体，而且制作周期短，外观平滑优美，明显优于用现有方法的制作效果。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，属于
，其制作步骤为(1)、利用软件系统V6.x，计算机设计图案；(2)、用电脑刻绘机在热熔型玻璃微珠反光膜上刻制出设计图案；(3)、在压力0.02MPa-1.0Mpa、温度140℃-210℃条件下，将刻制好的热熔型玻璃微珠反光膜设计图案熔接在纤维布料或纤维布料制品上；(4)、自然冷却至常温，剥去玻璃微珠反光膜上的隔离膜。应用本专利技术制作的反光服饰，饰物和服装的整体性好、附着性强，反光图案与服装浑然一体，而且制作周期短，外观平滑优美，明显优于用现有方法的制作效果。具体实施方式实施例1利用软件系统V6.x，计算机设计图案；用电脑刻绘机在热熔型玻璃微珠反光膜上刻制出设计图案；在压力0.02MPa-0.04Mpa、温度150℃±10℃条件下，保持20±5秒，将刻制好的璃微珠反光膜设计图案熔接在广告布幅上；自然冷却至常温，剥去玻璃微珠反光膜上的隔离膜。实施例2利用软件系统V6.x，计算机设计图案；用电脑刻绘机在热熔型玻璃微珠反光膜上刻制出设计图案；在压力0.05MPa-0.1Mpa、温度170℃±10℃条件下，保持20±5秒，将刻制好的璃微珠反光膜设计图案熔接在服装上；自然冷却至常温，剥去玻璃微珠反光膜上的隔离膜。实施例3利用软件系统V6.x，计算机设计图案；用电脑刻绘机在热熔型玻璃微珠反光膜上刻制出设计图案；在压力0.8MPa-1.0Mpa、温度200℃±10℃条件下，保持20±5秒，将刻制好的玻璃微珠反光膜设计图案熔接在书包上；自然冷却至常温，剥去玻璃微珠反光膜上的隔离膜。权利要求1.，其特征在于，制作步骤如下(1)、利用软件系统V6.x，计算机设计图案；(2)、用电脑刻绘机在热熔型玻璃微珠反光膜上刻制出设计图案；(3)、在压力0.02MPa-1.0Mpa、温度140℃-210℃条件下，将刻制好的热熔型玻璃微珠反光膜设计图案熔接在纤维布料或纤维布料制品上；(4)、自然冷却至常温，剥去玻璃微珠反光膜上的隔离膜。全文摘要，属于
其制作步骤为利用软件系统V6.x，计算机设计图案；用电脑刻绘机在热熔型玻璃微珠反光膜上刻制出设计图案；在压力0.02MPa－1.0Mpa、温度140℃－210℃条件下，将刻制好的热熔型玻璃微珠反光膜设计图案熔接在纤维布料或纤维布料制品上；自然冷却至常温，剥去玻璃微珠反光膜上的隔离膜。应用本专利技术制作的反光服饰，饰物和服装的整体性好、附着性强，反光图案与服装浑然一体，而且制作周期短，外观平滑优美，明显优于用现有方法的制作效果。文档编号B44C1/20GK1394761SQ0213534公开日2003年2月5日 申请日期2002年8月6日 优先权日2002年8月6日专利技术者王立民, 李刚, 刘德奎, 李丰 申请人:王立民本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反光饰物的制作方法，其特征在于，制作步骤如下：（１）、利用软件系统Ｖ６．ｘ，计算机设计图案；（２）、用电脑刻绘机在热熔型玻璃微珠反光膜上刻制出设计图案；（３）、在压力０．０２ＭＰａ－１．０Ｍｐａ、温度１４０℃－２１０℃条件下 ，将刻制好的热熔型玻璃微珠反光膜设计图案熔接在纤维布料或纤维布料制品上；（４）、自然冷却至常温，剥去玻璃微珠反光膜上的隔离膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王立民，李刚，刘德奎，李丰，
申请(专利权)人：王立民，
类型：发明
国别省市：88[中国|济南]