本实用新型专利技术涉及一种反光膜加工设备，公开了一种薄膜上胶装置，包括机架（1），机架（1）上设有逆时针转动的水平的上胶辊（2），上胶辊（2）下方设有胶槽（3），胶槽（3）包括底板（4）和竖板（5），底板（4）右侧与竖板（5）底部相连，胶槽（3）截面呈L型，底板（4）与上胶辊（2）底部间距为0.1~10cm，竖板（5）上设有刮刀（6），刮刀（6）处于水平方向或与上胶辊（2）轴向平行，刮刀（6）与上胶辊（2）之间的间隙为0.1~10mm。本实用新型专利技术体积小巧，结构紧凑，胶水挥发量少，能减少胶水对操作人员造成的伤害，能够很好地与植珠装置配合，方便植珠膜的连续化生产。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及一种反光膜加工设备，公开了一种薄膜上胶装置，包括机架（1），机架（1）上设有逆时针转动的水平的上胶辊（2），上胶辊（2）下方设有胶槽（3），胶槽（3）包括底板（4）和竖板（5），底板（4）右侧与竖板（5）底部相连，胶槽（3）截面呈L型，底板（4）与上胶辊（2）底部间距为0.1~10cm，竖板（5）上设有刮刀（6），刮刀（6）处于水平方向或与上胶辊（2）轴向平行，刮刀（6）与上胶辊（2）之间的间隙为0.1~10mm。本技术体积小巧，结构紧凑，胶水挥发量少，能减少胶水对操作人员造成的伤害，能够很好地与植珠装置配合，方便植珠膜的连续化生产。【专利说明】一种薄膜上胶装置
本技术涉及一种反光膜加工设备，尤其涉及一种薄膜上胶装置。
技术介绍
现有的反光膜中，通常设置有一层玻璃微珠层，在反光膜制造中，有一道工序，需要通过植珠装置将玻璃微珠以一定的密度粘附在一层薄膜表面，而在植珠之前，需要先在基材上涂布胶水。现有的上胶装置是在上胶辊下设置胶槽，使上胶辊浸入到胶槽，再通过刮刀刮去多余的胶水。这种上胶装置占用空间很大，机架下方不能设置后续操作装置；同时，由于胶槽体积大，很难将胶槽密封，胶水易挥发，导致整个上胶车间弥散着浓烈的刺激性胶水味，严重危害工作人员的身体健康。
技术实现思路
本技术针对现有上胶装置占用空间大，不方便密封，胶水挥发严重，危害工作人员身体健康等不足，提供了一种体积小巧，能有效密封，胶水挥发量小的薄膜上胶装置。 为了解决上述技术问题，本技术通过下述技术方案得以解决。 一种薄膜上胶装置，包括机架，机架上设有逆时针转动的水平的上胶辊，上胶辊下方设有胶槽，胶槽包括底板和竖板，底板右侧与竖板底部相连，胶槽截面呈L型，底板与上胶辊底部间距离为0.f 10cm，竖板上设有刮刀，刮刀处于水平方向或与上胶辊轴向平行，刮刀与上胶辊之间的间隙为0.f 10mm。 作为优选，底板与上胶辊的轴向平行，底板位于上胶辊下部，底板左边缘不超出上胶辊左端部。 作为优选，竖板与上胶辊的轴向平行，竖板顶部高于上胶辊轴心位置。 作为优选，胶槽还包括两块侧板，侧板垂直于上胶辊轴向，侧板底部与底板相连，侧板侧面与竖板相连。 作为优选，机架的上胶辊上部还设有与上胶辊轴向平行的连接杆，连接杆和竖板顶部覆盖有密封膜。 本技术体积小巧，结构紧凑，占用空间小，能够很好的与植珠装置配合，方便植珠膜的连续化生产。本技术上胶装置的胶槽不同于传统的胶槽，仅包括与上胶辊转动方向相对的L型胶槽，胶槽底板与上胶辊间距小，胶水由于具有较大的黏性，不会从胶槽底板和上胶辊之间的间隙流出，胶槽体积小，灌注的胶水少，挥发性小，损耗少；由于刮刀直接与竖板相连，刮刀盖在胶槽上部，起到减少胶水挥发的作用；同时由于竖板顶端高于上胶辊轴心位置，并且连接杆和竖板顶部覆盖有密封膜，能够较好密封胶槽上部的敞口，避免胶水挥发，避免挥发出的胶水对操作人员造成伤害。 【专利附图】【附图说明】 图1是本技术的结构示意图。 以上附图中各数字标号所指代的部位名称如下。 I 一机架、2—上胶辊、3—胶槽、4 一底板、5—竖板、6—刮刀、7—侧板、8—连接杆、9 一密封膜。 【具体实施方式】 下面结合附图与实施例对本技术作进一步详细描述。 实施例1 一种薄膜上胶装置，如图1所示，包括机架1，机架I上设有逆时针转动的水平的上胶辊2，上胶辊2下方设有胶槽3，胶槽3包括底板4和竖板5，底板4右侧与竖板5底部相连，胶槽3截面呈L型，底板4与上胶辊2底部间距离为0.f 10cm，竖板5上设有刮刀6，刮刀6与上胶辊2轴向平行，刮刀6与上胶辊2之间的间隙为0.1mm。 底板4与上胶辊2的轴向平行，底板4位于上胶辊2下部，底板4左边缘不超出上胶辊2左端部。竖板3与上胶辊2的轴向平行，竖板3顶部高于上胶辊2轴心位置。 胶槽3还包括两块侧板7，侧板7垂直于上胶辊2轴向，侧板7底部与底板4相连，侧板7侧面与竖板3相连。机架I的上胶辊2上部还设有与上胶辊2轴向平行的连接杆8，连接杆8和竖板3顶部覆盖有密封膜9。 实施例2 实施例2与实施例1相似，不同之处在于刮刀6处于水平方向，刮刀6与上胶辊2之间的间隙为10mm。 实施例3 实施例3与实施例1相似，不同之处在于刮刀6与上胶辊2之间的间隙为1mm。 实施例4 实施例4与实施例1相似，不同之处在于刮刀6处于水平方向，刮刀6与上胶辊2之间的间隙为0.5mm。 实施例5 实施例5与实施例1相似，不同之处在于刮刀6与上胶辊2之间的间隙为5mm。 总之，以上所述仅为本技术的较佳实施例，凡依本技术申请专利范围所作的均等变化与修饰，皆应属本技术专利的涵盖范围。【权利要求】1.一种薄膜上胶装置，包括机架(1)，机架(I)上设有逆时针转动的水平的上胶辊(2)，上胶辊(2)下方设有胶槽(3)，其特征在于，胶槽(3)包括底板(4)和竖板(5)，底板(4)右侧与竖板(5)底部相连，胶槽(3)截面呈L型，底板(4)与上胶辊(2)底部间距离为0.r1cm,竖板(5)上设有刮刀(6)，刮刀(6)处于水平方向或与上胶辊(2)轴向平行，刮刀(6)与上胶辊(2)之间的间隙为0.1?10mm。2.根据权利要求1所述的一种薄膜上胶装置，其特征在于，底板(4)与上胶辊(2)的轴向平行，底板(4 )位于上胶辊(2 )下部，底板(4 )左边缘不超出上胶辊(2 )左端部。3.根据权利要求1所述的一种薄膜上胶装置，其特征在于，竖板(3)与上胶辊(2)的轴向平行，竖板(3)顶部高于上胶辊(2)轴心位置。4.根据权利要求1所述的一种薄膜上胶装置，其特征在于，胶槽(3)还包括两块侧板(7)，侧板(7)垂直于上胶辊(2)轴向，侧板(7)底部与底板(4)相连，侧板(7)侧面与竖板(3)相连。5.根据权利要求1所述的一种薄膜上胶装置，其特征在于，机架(I)的上胶辊(2)上部还设有与上胶辊(2)轴向平行的连接杆(8)，连接杆(8)和竖板(3)顶部覆盖有密封膜(9)。【文档编号】B05C11/02GK203991109SQ201420296016【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年6月5日 优先权日:2014年6月5日 【专利技术者】石俊涛, 陈婷 申请人:浙江景泰反光科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种薄膜上胶装置，包括机架（1），机架（1）上设有逆时针转动的水平的上胶辊（2），上胶辊（2）下方设有胶槽（3），其特征在于，胶槽（3）包括底板（4）和竖板（5），底板（4）右侧与竖板（5）底部相连，胶槽（3）截面呈L型，底板（4）与上胶辊（2）底部间距离为0.1~10cm，竖板（5）上设有刮刀（6），刮刀（6）处于水平方向或与上胶辊（2）轴向平行，刮刀（6）与上胶辊（2）之间的间隙为0.1~10mm。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：石俊涛，陈婷，
申请(专利权)人：浙江景泰反光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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