硅/锗纳米颗粒墨水和形成具有所需印刷性质的墨水的方法技术

本发明专利技术描述改良的硅/锗纳米颗粒墨水，其具有良好分布于稳定分散液内的硅/锗纳米颗粒。具体地说，所述墨水以离心步骤调配，以去除污染物以及分散液的分散欠佳的部分。可在离心后使用声波处理步骤，观测到其对一些墨水的质量产生协同改良。可针对例如旋涂或丝网印刷的特定沉积应用对硅/锗墨水性质进行工程设计。描述适当加工方法，以在不对硅/锗纳米颗粒进行表面改性的情况下提供墨水设计的灵活性。硅/锗纳米颗粒相当适于形成半导体组件，例如薄膜晶体管或太阳电池接点的组件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种糊剂，其包含溶剂和平均初始颗粒直径不超过约75nm的元素硅/锗纳米颗粒，并且纳米颗粒的浓度为约1重量％到约20重量％硅/锗纳米颗粒，其中所述糊剂在约2s‑1的剪切速率下的粘度为约2Pa·s到约450Pa·s，在约1000s‑1的剪切速率下的粘度不超过约1Pa·s，并且在2s‑1的剪切速率下的粘度与在1000s‑1的剪切速率下的粘度的比率为至少约20。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：李卫东，吉娜·伊丽莎白·佩格拉梁，乌马·斯里尼瓦桑，希夫库马尔·基尔沃卢，添田雅也，刘国钧，
申请(专利权)人：纳克公司，
类型：发明
国别省市：美国;US