面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具制造技术

本发明专利技术公开了一种面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具，其中，所述面壳的电镀镭雕工艺包括如下步骤：S1)制作面壳；S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜；S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，所述镭雕的工艺参数为：镭雕速度为800mm/s-900mm/s；镭雕功率为35w-45w。本发明专利技术可效提高良品率，并且大大提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具，其中，所述面壳的电镀镭雕工艺包括如下步骤：S1)制作面壳；S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜；S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，所述镭雕的工艺参数为：镭雕速度为800mm/s-900mm/s；镭雕功率为35w-45w。本专利技术可效提高良品率，并且大大提高生产效率。【专利说明】面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具
本专利技术涉及表面处理
，尤其涉及一种面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具。
技术介绍
镭雕也叫激光雕刻或者激光打标，是一种利用光学原理进行表面处理的工艺。其 加工原理为利用激光器发射的高强度聚集激光束于角点处，使材料氧化从而对其进行加 工，打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质，或者通过光能导致表层物质的化学 物理变化出痕迹，或者是通过管光能烧掉部分物质而刻出痕迹，或者是通过光能烧掉部分 物质，显示所刻蚀的图形、文字。 在针对手机外壳进行镭雕的具体应用中，由于考虑到手机外壳的颜色搭配及美观 度，在同一个产品上经常会存在几种颜色，现有技术中针对该种颜色搭配的方式是，通过制 作两个或以上部件后再装配的方式进行颜色搭配，该种处理工艺虽然可生产处符合需要的 外壳，但是该种生产工艺复杂、成本较高并且在完成后还需要进行装配，装配过程中会降低 良品率、且费时费费力，大大降低了生产效率。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种工艺简单、可有效提高生产效率的面壳 镭雕工艺，另外，还提供一种镭雕治具。 为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：提供一种面壳镭雕工艺，包括 如下步骤： S1)制作面壳； S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜； S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按 照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行 镭雕，所述镭雕的工艺参数为： 错雕速度为 800mm/s-900mm/s ; 错雕功率为35w_45w。 toon] 为解决上述技术问题，同一思路下提供一种镭雕治具，包括基座，还包括支撑板， 所述支撑板坚直设置在所述基座上，所述支撑板一侧转动设置治具上模及治具下模，所述 治具上模上设置治具下模且二者之间有间隙，面壳通过所述治具上模与治具下模之间的间 隙夹紧。 本专利技术的有益效果在于：区别于现有技术，本专利技术在面壳表面喷涂镀膜，之后对之 后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜 另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，本专利技术工艺相对于现有技术首先采用镭雕工艺， 不需要重复进行制作面壳，只需制作一个面壳之后根据需要进行喷涂镀膜即可，也省去了 对多个面可进行组装的工序，使工序更加简单，此外，在镭雕过程中不用重复装取治具，减 少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重复装取治具的时间，提高了生产效 率。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术一优选实施例的工艺流程图； 图2是本专利技术一优选实施例镭雕治具的部分结构示意图。 标号说明： 1-基座，2-支撑板，3-治具下模，4-治具上模，5-面壳，6-固定螺丝，7-螺丝垫片。 【具体实施方式】 为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式 并配合附图详予说明。 本专利技术最关键的构思在于：首先制作面壳并在面壳上嗔涂锻I吴，之后利用错雕治 具对喷涂镀膜的一侧进行镭雕，随后剩余侧进行镭雕，本工艺提高了良品率，而且省去了重 复装取治具的时间，提高了生产效率。 请参阅图1，本实施方式面壳的电镀镭雕工艺，其特征在于，包括如下步骤： S1)制作面壳； S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜； S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按 照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行 镭雕，所述镭雕的工艺参数为： 错雕速度为 800mm/s-900mm/s ; 镭雕功率为35w_45w。 从上述描述可知，本专利技术的有益效果在于：本专利技术在面壳表面喷涂镀膜，之后对面 壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧 的区域按照需要的图形进行镭雕，本专利技术工艺相对于现有技术不用重复装取治具，减少了 二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重复装取治具的时间，提高了生产效率。 进一步的，所述喷涂镀膜的膜层包括底涂层及面涂层，所述底涂层的厚度为 3um-5um，所述面涂层的厚度为8um-10um。面漆厚度过厚时，镭雕时表层雕不干净，镭雕部位 不能显露想要的颜色；如面漆过薄，镭雕时会雕伤底色，影响整体外观效果。 进一步的，所述喷涂镀膜的材料为树脂。树脂根据不同的颜色选择。 进一步的，所述面壳采用模具注塑成型，所述面壳的材料包括ABS及PC中任意一 种或两者的组合。电镀的材料为铝。 参阅图2,该镭雕治具，包括基座1及支撑板2,所述支撑板2坚直设置在所述基座 1上，所述支撑板2 -侧转动设置治具上模4及治具下模3,所述治具上模4上设置治具下 模3且二者之间有间隙，面壳5通过所述治具上模4与治具下模3之间的间隙夹紧。 从上述描述可知，本专利技术的有益效果在于：采用在基座上设置支撑板、治具上模以 及治具下模，治具上模与治具下模留有夹紧面壳的间隙，并且治具上模及治具下模可转动， 在镭雕过程中不用重复装取治具，减少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重 复装取治具的时间，提高了生产效率。 进一步的，所述支撑板2上设置转轴，所述治具上模4连接在所述转轴上，所述支 撑板2上还设置弧形滑槽，所述治具下模3上设置有所述滑槽相适配的导柱，所述导柱插入 滑槽内并沿所述滑槽滑动。 进一步的，所述弧形滑槽开设在转轴的上方，所述弧形滑槽的内凹面朝向转轴，所 述弧形滑槽的弧度为180°。治具下模旋转至指定位置时，支撑板与治具下模之间还可以通 过固定螺丝6来定位，并且在螺帽与支撑板以及支撑板与治具下模的受压面上垫上螺丝垫 片7。 进一步的，所述弧形滑槽开设在转轴的一侧，所述弧形滑槽的内凹面朝向转轴，所 述弧形滑槽的弧度为180°。 综上，本专利技术镭雕治具，采用在基座上设置支撑板、治具上模以及治具下模，治具 上模与治具下模留有夹紧面壳的间隙，并且治具上模及治具下模可转动，在镭雕过程中不 用重复装取治具，减少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重复装取治具的时 间，提高了生产效率。另外，在治具下模上设置的导柱与支撑板上设置的弧形滑槽匹配，能 够便于治具下模及治具上模的转动。 以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本发 明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技 术领域，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。【权利要求】1. 一种面壳电镀镭雕工艺本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种面壳电镀镭雕工艺，其特征在于，包括如下步骤：S1)制作面壳；S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜；S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，所述镭雕的工艺参数为：镭雕速度为800mm/s‑900mm/s；镭雕功率为35w‑45w。该镭雕功率可根据产品膜厚度适应调整。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高建民，
申请(专利权)人：深圳市中联讯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44