改变高分辨率导电图案的光学性质的方法技术

本文中所公开的公开内容是用于改变高分辨率印刷导电图案的光学性质的方法，所述方法通过起始化学反应以在所述图案上形成光学性质与未处理的材料不同的钝化层来实现。在形成该反应的钝化层后，电性质得以维持。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】改变高分辨率导电图案的光学性质的方法相关申请的交叉参考本申请要求2011年10月25日提交的美国临时专利申请第61/551,175号(代理人案号为2911-02900)的优先权；所述申请以引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及超离子导体、光检测器、光热转换、导电性电极、微波屏蔽涂覆和太阳能工业领域。具体地，本专利技术涉及用于改变高分辨率印刷导电图案的光学性质的方法，所述方法通过起始化学反应以在所述图案上形成光学性质与未处理的材料不同的钝化层来实现。
技术介绍
触摸敏感式显示器可用于电视、信息亭和个人计算装置中，个人计算装置包括个人计算机、智能电话、便携式电子装置、个人数字助理(PDA)和平板。触摸敏感式显示器可包括触摸传感器，触摸传感器具有一组布置在栅格图案中的不透明导线。尽管非常细，但触摸敏感式显示器的使用者可以看见此类导电图案，从而可能给使用者造成麻烦。尽管使用者可能不能看到这些线，因为这些线是微观的，但由于这些导电图案，显示器上可存在闪光和反射。
技术实现思路
在一个实施方案中，本专利技术提供了一种改变高分辨率导电图案的光学性质的方法，所述方法包括：使用包含镀敷催化剂的油墨将第一微观图案印刷在第一基材的第一侧上；使基材固化；使用油墨印刷第二微观图案；镀敷基材，其中镀敷基材包括无电镀敷，以在基材上形成高分辨率导电图案(HRCP)；在基材上布置反应物以形成包含反应层的反应图案，其中反应层的厚度为25nm到5000nm；以及冲洗基材。在一个替代实施方案中，本专利技术提供了一种改变高分辨率导电图案的光学性质的方法，所述方法包括：使用包含镀敷催化剂的油墨将第一微观图案印刷在基材的第一侧上；使第一基材固化；使用油墨印刷第二微观图案；以及镀敷基材，其中镀敷基材包括无电镀敷，以在基材上形成高分辨率导电图案(HRCP)。这个实施方案还包括在基材上布置反应物以形成包含反应层的反应图案，其中反应层的厚度为25nm到5000nm，并且其中反应物包含SeO2、CuSO4和磷酸；以及在异丙醇和去离子水之一中冲洗基材。附图说明为了详细地描述本专利技术的示例性实施方案，现在参考附图，其中：图1A到1C是用于改变高分辨率导电图案(HRCP)的光学性质的七步骤方法的实施方案的图解说明。图2是改变HRCP的光学性质的三步骤方法的实施方案的图解说明。图3是改变HRCP的光学性质的四步骤方法的实施方案的图解说明。图4是改变HRCP的光学性质的三步骤方法的实施方案的图解说明。图5是用于HRCP的着色方法的三步骤方法的实施方案。图6是基材上的导电图案的图解说明。图7是基材上的具有改变的光学性质的导电图案的图解说明。图8A到8B是具有改变的光学性质的HRCP的两个实施方案的图案化线的横截面的图解说明。图9是用于制造HRCP并改变这个图案的光学性质的方法的实施方案的图解说明。图10是用于制造着色的高分辨率导电图案(CHRCP)的方法的实施方案的图解说明。图11A到11D显示各种三唑化合物的结构式。图12是用于制造CHRCP的方法的实施方案的图解说明。具体实施方式以下讨论涉及本专利技术的多个实施方案。尽管这些实施方案中的一个或多个可为优选的，但所公开的实施方案不应解释为或以其它方式用作对公开内容、包括权利要求书的范围的限制。另外，本领域的技术人员应理解，以下描述具有广泛的应用，并且对任何实施方案的讨论仅意在对这个实施方案进行举例说明，而并不意欲表示公开内容、包括权利要求书的范围受限于这个实施方案。电容式和电阻式触摸传感器可用于具有触摸敏感特征的电子装置中。这些电子装置可包括显示装置，例如计算装置、计算机显示器或便携式媒体播放器。显示装置可包括电视、监视器和投影仪，其可适用于显示图像，包括文本、图形、视频图像、静止图像或演示文稿。可用于这些显示装置的图像装置可包括阴极射线管(CRT)、投影仪、平板液晶显示器(LCD)、LED系统、OLED系统、等离子体系统、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)。由于触摸屏式装置越来越普及，因此制造商可能寻求使用保持质量同时降低制造成本且简化制造过程的制造方法。触摸屏的光学性能可通过减少光学干扰例如由通过光刻方法形成的规则导电图案生成的波纹效应而得到改善。本文中公开了在大容量辊对辊制造过程中制作柔性且光学相容性触摸传感器的系统和方法，在所述辊对辊制造过程中，在单程中可产生微导电特征。本文中公开了通过例如辊对辊制造过程制作柔性触摸传感器(FTS)电路的系统和方法的实施方案。可使用所选设计的热成像来制作多个母板，以将高分辨率导线印刷在基材上。可使用第一辊将第一图案印刷在基材的第一侧上，并且可使用第二辊将第二图案印刷在基材的第二侧上。在镀敷过程期间可使用无电镀敷。尽管无电镀敷可能比其它方法耗费更多时间，但对于小型错综复杂的复杂几何形状来说，无电镀敷可能更好。FTS可包括多个与介电层连通的薄柔性电极。可将包括电引线的延伸尾部附接到电极，并且可存在与引线电连通的电连接器。辊对辊过程是指以下这一事实：将柔性基材加载到也可称为退绕辊的第一辊上以将其进料到进行制作过程的系统中，然后卸载到也可称为卷绕辊的第二辊上，此时过程结束。触摸传感器可使用经由已知的辊对辊处理方法转移的薄柔性基材来制造。将基材转移到洗涤系统中，洗涤系统可包括诸如等离子体清洁、弹性体清洁、超声波清洁过程等的过程。洗涤循环后，可在物理或化学气相沉积真空室中进行薄膜沉积。在这个可称为印刷步骤的薄膜沉积步骤中，在基材的至少一个表面上沉积诸如氧化铟锡(ITO)的透明导电材料。在一些实施方案中，用于导线的适合材料可包括铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、锡(Sn)和钯(Pd)等。取决于用于电路的材料的电阻率，它可具有不同的响应时间和功率要求。沉积的导电材料层可以具有在0.005微欧/平方到500微欧/平方范围内的电阻，500埃或更小的物理厚度，以及25微米或更大的宽度。在一些实施方案中，印刷的基材可具有通过喷雾沉积或湿式化学沉积施加的防闪光涂层或漫射体表面涂层。可通过例如用红外线加热器、紫外线加热器、对流加热器等加热使基材固化。可重复这个过程，并且可能需要层压、蚀刻、印刷和组装的数个步骤来完成触摸传感器电路。印刷的图案可为包含多条线的高分辨率导电图案。在一些实施方案中，这些线可以是微观尺寸的。随着线的尺寸减小以及图案几何形状的复杂度增加，印刷图案的难度可能加大。用于印刷具有不同尺寸和几何形状的特征的油墨也可变化，一些油墨组合物可能更适合于较大的简单特征，而一些油墨可能更适合于较小的更复杂的几何形状。在一个实施方案中，可存在多个用于形成图案的印刷台(printingstation)。这些台可能受限于可被转移到网纹辊上的油墨的量。在一些实施方案中，可存在专用的台来印刷某些可在多个产品线或应用中运行的特征，这些专用的台在一些情况下对于每个印刷作业来说可使用相同的油墨，或者可以是若干个产品或产品线共同的标准特征，因此其可连续地运行而不必更换辊。转移过程中使用的网纹辊的单元容量可能取决于所转移的油墨的类型，在一些实施方案中，其可在0.5BCM到30BCM(十亿立方微米)之间变化，在其它实施方案中，其可在9BCM到20BCM之间变化。用于印刷全部图案或图案的一部分的油墨的类型可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改变高分辨率导电图案的光学性质的方法，所述方法包括：使用包含镀敷催化剂的油墨将第一微观图案印刷在基材的第一侧上；使所述基材固化；使用所述油墨印刷第二微观图案；镀敷所述基材，其中镀敷所述基材包括无电镀敷，以在所述基材上形成高分辨率导电图案(HRCP)；在所述基材上布置反应物以形成包含反应层的反应图案，其中所述反应层的厚度为25nm到5000nm；以及冲洗所述基材。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.10.25 US 61/551,1751.一种改变导电图案的光学性质的方法，所述方法包括：使用包含镀敷催化剂的油墨将第一微观图案印刷在基材的第一侧上；使印刷在所述基材上的第一微观图案固化；使用所述油墨印刷第二微观图案；镀敷所述基材，其中镀敷所述基材包括无电镀敷，以在所述基材上形成导电图案；在所述基材上布置反应物以形成包含反应层的反应图案，其中所述反应层的厚度为25nm到5000nm；以及冲洗所述基材。2.权利要求1的方法，其中所述无电镀敷包括将所述基材的至少一部分布置在包含液态导电材料的镀敷槽中以形成导电图案。3.权利要求2的方法，其中所述导电材料是铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、锡(Sn)和钯(Pd)中的一种。4.权利要求1的方法，其中所述导电图案包含多条线，并且其中所述多条线宽度中每条线的宽度为1微米到20微米。5.权利要求1的方法，其中所述导电图案包含多条线，并且其中所述多条线中每条线的宽度为2微米到5微米。6.权利要求1的方法，其中包含所述第一微观图案的基材是第一基材，其中将所述第二微观图案印刷在以下的一种上：与所述第一微观图案相邻的所述第一基材的第一侧、所述第一基材的第二侧或第二基材，其中所述第二基材与所述第一基材不同。7.权利要求1的方法，其中所述基材是柔性聚合物、纸或玻璃中的一种。8.权利要求1的方法，所述方法还包括将掩模布置在所述导电图案的至少一部分上以形成所述导电图案的掩蔽的部分和未掩蔽的部分，并在所述未掩蔽的部分上布置反应物以形成包含反应层的反应图案。9.权利要求1的方法，其中所述反应物包含SeO2、CuSO4和磷酸。10.权利要求9的方法，其中所述反应物包含1重量％到4重量％SeO2、1.5重量％到3重量％CuSO4和3重量％到7重量％磷酸。11.权利要求1的方法，其中布置所述反应物包括将所述基材浸没在反应物槽中。12.权利要求9的方法，其中用二甲亚砜去除所述反应物。13.权利要求1的方法，其中所述反应物包含HNO3、SeO2和CuSO4。14.权利要求13的方法，其中所述反应物包含7％到15％硝酸(HNO3)、0.5％到3％二氧化硒(SeO2)和3％到10％硫酸铜(CuSO4)。15.权利要求13的方法，所述方法还包括使用二甲亚砜从所述基材去除...

【专利技术属性】
技术研发人员：艾德·S·拉马克里斯南，金丹良，
申请(专利权)人：尤尼皮克塞尔显示器有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US