用于红外敏感组合物的杂取代的芳基乙酸共引发剂制造技术

一种红外敏感组合物，它包括含下述组分的引发剂体系：　　　　（ａ）至少一种能吸收红外辐射的物质；　　　　（ｂ）至少一种能产生自由基的化合物；和　　　　（ｃ）至少一种选自下述通式结构的杂取代的芳基乙酸共引发剂化合物：　　　　Ａｒ－Ｘ－ＣＨ↓［２］ＣＯ↓［２］Ｈ，　　＊＊＊，和　　　　其中Ｘ是氮、氧或者硫，Ａｒ是任何取代或未取代的芳环和Ｒ是任何取代基。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及引发剂体系和含有它们的红外敏感的组合物，所述组合物尤其特别适于制备可采用红外辐射成影像地曝光的印刷板前体。尤其适用于高性能印刷板前体的辐射敏感组合物必须满足高的要求。
技术介绍
在印刷板前体领域的最新进展涉及可借助激光或激光二极管成影像地曝光的辐射敏感组合物。这类曝光不要求膜作为中间信息载体，因为可通过计算机控制激光。在可商购的图像定位器中使用的高性能激光或激光二极管分别发射介于800-850nm和介于1060至1120nm的波长范围内的光。因此，印刷板前体，或者借助这种图像定位器成影像地曝光的包含在其内的引发剂体系，必须在近红外范围内敏感。这种印刷板前体然后可基本上在白天条件下处理，这显著有助于其生产和加工。对于这种印刷板来说，存在生产辐射敏感组合物的两种不同的可能性。对于负性工作的印刷板来说，使用辐射敏感的组合物，其中在成影像地曝光之后固化曝光区域。在显影步骤中，仅仅未曝光的区域从基板上除去。对于正性工作的印刷板来说，使用其中在给定的显影剂中，曝光区域比未曝光区域更快速溶解的辐射敏感的组合物，该过程被称为光致增溶。然而，对在正性体系中的辐射敏感的组合物来说，存在某种困境，因为对于大量的复制品来说，需要交联的聚合物。然而，这种聚合物不溶于适于板涂布的溶剂或溶剂混合物中，结果需要未交联或仅轻度交联的起始产物。然后可通过预热步骤实现必须的交联，其中所述预热步骤可在板的加工的各阶段中进行。印刷板、印刷电路板和干膜抗蚀剂前体组合物通常包含至少一种红外吸收化合物，至少一种能产生自由基的化合物，至少一种共引发剂化合物和选自具有烯键式不饱和度的不饱和自由基可聚合单体、低聚物和聚合物的至少一种可聚合的组分。仅仅依赖于三嗪或N-烷氧基吡啶鎓盐作为用于聚合不饱和单体的自由基引发剂的红外敏感的成像组合物不切实际地慢，从而需要使用共引发剂。根据Hauck等的美国专利6309792(其全部公开内容在此通过参考引入)已知，添加一些多羧酸化合物作为共引发剂到这种红外敏感的成像组合物中显著改进其光反应速度。需要确定可充当共引发剂的其它材料以改进这种红外敏感的成像组合物的反应速度。在美国专利4366228和Wzyszczynski等的Macromolecules2000，33，1577-1582中还已知在紫外敏感的成像组合物中掺入一些单羧酸衍生物如苯氧基乙酸和硫代苯氧基乙酸和N-甲基吲哚-3-乙酸作为共引发剂。然而，这种组合物没有红外敏感性。在美国专利4366228中，在不存在任何三嗪或N-烷氧基吡啶鎓盐共引发剂的情况下，将单羧酸用作唯一的引发剂。还公开了单羧酸组合物比含N-苯基甘氨酸(NPG)的组合物要慢。在Macromolecules的参考组合物内的引发生色团是4-羧基二苯酮。还已知在紫外可固化的卤化银照相乳液组合物中掺入不同的杂芳基乙酸化合物，和可参考美国专利6054260。当在印刷板前体的制备中使用时，既显示出高度的辐射敏感性又显示出充分长的储藏期限的辐射敏感的组合物目前仅仅已知与紫外吸收染料有关(EP-A-0730201)。然而，必须在暗室条件下制备和加工使用这种组合物的印刷板前体，和不可能借助以上提及的激光或激光二极管成影像地曝光。尤其是它们不可能在白天加工的事实限制了它们的可能应用。专利技术概述本专利技术的目的是提供新型的红外敏感的成像组合物，其类似于美国专利6309792中的那些，但含有除多羧酸化合物以外的共引发剂化合物。本专利技术另一目的是提供红外敏感组合物，所述组合物允许制备负性工作的印刷板前体，所述印刷板前体具有长的储藏期限、提供连续的大量复制品和高度抗显影化学品，和该组合物的特征另外在于，高的红外敏感度和溶解能力以及在白天的可加工性，和提供这种红外敏感组合物在制备负性工作的印刷板前体中的用途。通过红外敏感组合物来实现这些目的，其中所述组合物除了包含聚合物粘合剂以外，还包含由选自不饱和自由基可聚合单体、可自由基聚合的低聚物和在主链内和/或在侧链基团内含C＝C键的聚合物中的至少一种组分，和引发剂体系组成的自由基可聚合体系，其中引发剂体系包括下述组分(a)至少一种能吸收红外辐射的物质(b)至少一种能产生自由基的化合物(c)至少一种用下述通式结构表示的杂取代的芳基乙酸共引发剂化合物Ar-X-CH2CO2H 和 其中X是氮、氧或者硫，Ar是任何取代或未取代的芳环和R是任何取代基。优选实施方案的详细说明有用的红外吸收物质典型地在大于750nm的电磁光谱的近红外区域内具有最大吸收波长；更特别地，其最大吸收波长在约800-约1200nm范围内。优选至少一种化合物(a)选自三芳基胺染料、噻唑鎓染料、吲哚鎓染料、噁唑鎓染料、菁染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料和酞菁颜料。更优选组分(a)是分子式(A)的菁染料 其中各X独立地表示S、O、NR或C(烷基)2；各R1独立地为烷基、烷基磺酸根或烷基铵基；R2表示氢、卤素、SR、SO2R、OR或NR2；各R3独立地表示氢原子、烷基、COOR、OR、SR、NR2、卤原子或任选取代的苯并稠环；A-表示阴离子；---表示任选的碳环5或6元环；各R独立地表示氢、烷基或芳基；各n独立地为0、1、2或3。若R1是烷基磺酸根，则A-可不存在(形成内盐)；否则需要碱金属阳离子作为抗衡离子。若R1是烷基铵基，则需要第二阴离子作为抗衡离子；这一第二阴离子可以是与A-相同或者是不同的一种。化合物(b)优选选自多卤代烷基取代的化合物和吖嗪鎓化合物。在本专利技术的自由基聚合体系中，组分(a)、(b)和(c)所有这三种相互反应生成引发自由基，即在组分(a)与组分(b)与杂芳基乙酸之间形成的自由基。为了实现高度的辐射敏感度，所有这三种组分的存在是必不可少的。发现当组分(b)省去时，获得完全辐射不敏感的组合物。需要杂芳基乙酸以获得所要求的热稳定性。若杂芳基乙酸例如被具有巯基的化合物或者被硼酸铵替代，则辐射敏感度可能略微下降和这种组合物的热稳定性可能不足。本领域已知的基本上所有聚合物或聚合物混合物可用作聚合物粘合剂，例如丙烯酸共聚物和甲基丙烯酸共聚物。优选地，聚合物的重均分子量范围为10000-1000000(借助GPC测定)。鉴于在印刷工艺过程中与油墨接收度有关的可能的问题，优选所使用的聚合物的酸值为＞70mg KOH/g，或者当使用聚合物混合物时，单独的酸值的数学平均应当＞70mg KOH/g。优选酸值＞110mg KOH/g的聚合物或聚合物混合物；特别优选酸值介于140至160mg KOH/g。基于红外敏感的组合物中总固体含量，在红外敏感的组合物内的聚合物粘合剂的含量优选占30-60wt％，更优选35-45wt％。作为不饱和的自由基可聚合单体或低聚物，可使用例如具有一个或多个不饱和基团的丙烯酸或甲基丙烯酸衍生物，优选单体形式、低聚物或预聚物形式的丙烯酸或甲基丙烯酸的酯。它们可以以固体或液体形式存在，其中优选固体和高度粘稠的形式。适合作为单体的化合物包括例如三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，季戊四醇三丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二季戊四醇六丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，季戊四醇四丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二甘醇二丙烯酸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：H·M·蒙奈利，P·R·维斯特，HJ·蒂姆普，U·穆勒，黄建兵，
申请(专利权)人：柯达保丽光印艺有限责任公司，
类型：发明
国别省市：