一种支撑结构和真空设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种支撑结构和包含该支撑结构的真空设备，其中支撑结构包括机台和设置在机台上的支撑脚，机台的边缘上固定安装第一支撑脚，机台中间区域活动安装第二支撑脚，且第二支撑脚所在位置对应玻璃基板的切割区。上述支撑结构在使用过程中，可根据各种产品的尺寸对中间区域的第二支撑脚的高度进行调整，以对起到有效支撑作用的支撑脚数目和位置进行更改，可适应不同尺寸或不同生产需求的玻璃基板，使得第二支撑脚始终与玻璃基板的切割区接触，以降低因支撑脚导致玻璃基板在像素区域发生静电放电的发生率，避免对产品的正常显示造成影响，还能避免支撑脚对玻璃基板的像素区域造成划伤。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种支撑结构和包含该支撑结构的真空设备，其中支撑结构包括机台和设置在机台上的支撑脚，机台的边缘上固定安装第一支撑脚，机台中间区域活动安装第二支撑脚，且第二支撑脚所在位置对应玻璃基板的切割区。上述支撑结构在使用过程中，可根据各种产品的尺寸对中间区域的第二支撑脚的高度进行调整，以对起到有效支撑作用的支撑脚数目和位置进行更改，可适应不同尺寸或不同生产需求的玻璃基板，使得第二支撑脚始终与玻璃基板的切割区接触，以降低因支撑脚导致玻璃基板在像素区域发生静电放电的发生率，避免对产品的正常显示造成影响，还能避免支撑脚对玻璃基板的像素区域造成划伤。【专利说明】一种支撑结构和真空设备
本技术涉及液晶显示
，特别涉及一种支撑结构和真空设备。
技术介绍
在TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)行业中，支撑脚(Pin)的结构被广泛的应用于各种工艺设备中。在液晶面板的制作过程在中，需要对玻璃基板进行干法刻蚀和湿法刻蚀，以得到所需要的图形。尤其是在干法刻蚀工艺中，将玻璃基板放置在反应腔中进行加工，需要支撑脚对玻璃基板进行支撑，但是对于某种产线(例如G8.5线，尺寸为2200mm*2500mm)的干法刻蚀设备来说，一般支撑脚在机台上的位置固定，无法针对各种尺寸的产品进行调整。现有技术中的干法刻蚀设备中支撑脚的分布示意图如图1所示，图1是以G8.5线为例，整个机台上设置有18个支撑脚，其中这18个支撑脚分为两种，一种分布在机台的边缘，有10个，另一种分布在机台的中间位置，有8个。这8个支撑脚又进一步以三列进行分布，第一列和第三列均是两个，第二列是4个。由图1可知，只有第二列的4个支撑脚位于玻璃基板的切割区域，另外4个支撑脚恰好在玻璃基板的像素区域，则这4个支撑脚与玻璃接触过程中，会在玻璃基板表面的电荷产生积累，由于支撑脚为金属材质，在支撑脚与玻璃基板接触时容易在支撑脚所在的位置发生静电放电(Electro Static discharge,简称ESD),尤其是在玻璃基板的像素区域，如果产生静电放电，则会对产品的显示造成不利影响，影响产品的品质。另外，支撑脚还有可能对玻璃基板的表面产生划痕等破坏，也会影响产品的良率和性能。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本技术要解决的技术问题是如何降低支撑脚与玻璃基板在像素区域发生静电放电的发生率，提高产品良率和性能。(二)技术方案为解决上述技术问题，本技术提供了一种支撑结构，包括机台和设置在机台上的第一支撑脚和第二支撑脚，机台的边缘上固定安装第一支撑脚，机台中间区域活动安装第二支撑脚，且第二支撑脚所在位置对应玻璃基板的切割区。进一步地，所述第一支撑脚的底部直接固定安装在机台表面上。进一步地，所述第二支撑脚的高度可调。进一步地，所述第二支撑脚底部对应机台的位置具有过孔，且第二支撑脚或者过孔上设置有定位机构，对支撑脚与过孔之间的相对位置进行调整。进一步地，所述第二支撑脚的高度不小于第一支撑脚的高度。进一步地，所述第二支撑脚的高度小于第一支撑脚的高度，且第二支撑脚的下端还设置有升降机构。进一步地，所述升降机构为底部固定在机台表面上的筒状结构，且筒状升降机构的内孔径大于第二支撑脚的外直径。进一步地，在第二支撑脚的底部和筒状升降机构的侧壁上设置有相匹配的卡合机构，且第二支撑脚的高度与筒状升降机构的高度之和大于第一支撑脚的高度。进一步地，所述机台每个方向的边缘上分布有至少两个第一支撑脚。进一步地，所述第一支撑脚和第二支撑脚的顶端均具有金属头。为解决上述技术问题，本技术还提供了一种真空设备，包括反应腔，还包括设置在反应腔内部用于支撑玻璃基板的支撑结构，其中所述支撑结构为以上所述的支撑结构。(三)有益效果本技术提供了一种支撑结构和包含该支撑结构的真空设备，上述支撑结构在使用过程中，可根据各种产品的尺寸对中间区域的第二支撑脚的高度进行调整，以对起到有效支撑作用的支撑脚数目和位置进行更改，可适应不同尺寸或不同生产需求的玻璃基板，使得第二支撑脚始终与玻璃基板的切割区接触，以降低因支撑脚导致玻璃基板在像素区域发生静电放电的发生率，避免对产品的正常显示造成影响，还能避免支撑脚对玻璃基板的像素区域造成划伤。同时因真空设备的支撑脚均较细且为金属头，并不会对刻蚀结构产生影响。【专利附图】【附图说明】图1是现有技术中干法刻蚀设备中支撑脚在机台上的分布示意图；图2是本技术实施例中提供的一种支撑结构的示意图；图3是本技术实施例中第二支撑脚活动安装时筒状升降机构侧壁上卡道的示意图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例，对本技术的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。本技术实施例中提供了一种支撑结构，示意图如图2所示，包括机台00和设置在机台00上的第一支撑脚10和第二支撑脚20，机台00的边缘上固定安装第一支撑脚10，机台中间区域活动安装第二支撑脚20，且第二支撑脚20所在位置对应玻璃基板30的切割区。上述支撑结构改变现有结构中全部都是固定安装的支撑脚，不能应用于各种产线上生产出来的玻璃基板，通过在机台中间区域设置高度可调的第二支撑脚，可以根据不同产线的产品对第二支撑脚的高低进行调节，改变有效支撑脚的位置和数目，还由于第二支撑脚位于玻璃基板的切割区域，可以避免因产生静电放电而对产品像素区域的显示造成影响，提闻广品的良品率。优选地，本实施例中第一支撑脚10的底部直接固定安装在机台00表面上。由于第一支撑脚10是固定安装，因此位置和高度一经确定便无法再进行更改。但是中间区域的第二支撑脚20却不同，由于第二支撑脚20是活动连接，需要根据产品尺寸以及生产需求选择合适的第二支撑脚20作为有效支撑脚，而其他未被选择的支撑脚为无效支撑脚，不能起到支撑作用。优选地，本实施例中第二支撑脚20的高度可调。通过调整第二支撑脚20的高度，以改变能够起到有效支撑作用支撑脚的个数，达到满足不同产线生产出的不同尺寸产品的需求。优选地，本实施例中第二支撑脚20的高度可调具体包括以下两种实现方式:第一种是第二支撑脚20底部对应机台00的位置具有过孔，且第二支撑脚20或者过孔上设置有定位机构，对支撑脚与过孔之间的相对位置进行调整，这种情况下第二支撑脚20的高度不小于第一支撑脚10的高度。由于第二支撑脚20可在过孔中进行相对活动，可通过改变二者之间的相对位置达到改变第二支撑脚高度的目的。其中定位机构具体的实现方式是在第二支撑脚20上形成螺纹，当第二支撑脚20的高度位置确定之后，通过螺母拧紧以进行固定，原理与螺母和螺栓的连接关系相类似，此处不再赘述。第二种是第二支撑脚20的高度小于第一支撑脚10的高度，且第二支撑脚20的下端还设置有升降机构。具体的，升降机构为底部固定在机台00表面上的筒状结构，且筒状升降机构的内孔径大于第二支撑脚20的外直径。优选地，上述第二种实现方式还包括:在第二支撑脚20的底部和筒状升降机构的侧壁上设置有相匹配的卡合机构，且第二支撑脚20的与筒状升降机构的高度之和大于第一支撑脚10的高度。其中卡合机构具体的实现方式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种支撑结构，其特征在于，包括机台和设置在机台上的第一支撑脚和第二支撑脚，机台的边缘上固定安装第一支撑脚，机台中间区域活动安装第二支撑脚，且第二支撑脚所在位置对应玻璃基板的切割区。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨海涛，张定涛，吴成龙，郑云友，宋泳珍，李伟，
申请(专利权)人：北京京东方显示技术有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11