TFT玻璃基板减薄液及其制备方法、TFT玻璃基板减薄工艺技术

本发明专利技术提供了一种TFT玻璃基板减薄液，包括：氢氟酸10%～12%，氟化氢铵4%～6%，硝酸5%～8%，硫酸5%～8%，水余量。将TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得成品。本发明专利技术提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率，针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳，能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种TFT玻璃基板减薄液，包括：氢氟酸10%～12%，氟化氢铵4%～6%，硝酸5%～8%，硫酸5%～8%，水余量。将TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得成品。本专利技术提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率，针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳，能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求。【专利说明】TFT玻璃基板减薄液及其制备方法、TFT玻璃基板减薄工艺
本专利技术涉及TFT玻璃基板减薄领域，具体涉及一种TFT玻璃基板减薄液及其制备方法，还涉及一种TFT玻璃基板减薄工艺。
技术介绍
液晶显示屏目前通常的减薄方法有两种，一为物理抛光研磨，一为化学蚀刻，其中化学薄化玻璃有一下几个特点:1、薄化时间短；2、薄化产量较高；3、成分简单，配制比较容易。目前，有进行TFT玻璃减薄的厂家，大部分是以氢氟酸为主要原料，且有些仅使用单一氢氟酸溶液，这种做法存在以下缺点:1，直接接触氢氟酸，毒性高，且该药液易产生氢氟酸气体，生产过程中特别是配制时危险性高，如果辅以加热，则危险性更高；2，蚀刻过程产生白色难溶物，容易悬浮在蚀刻液中及粘附于管道槽壁，难于处理。而且该难溶物吸附性较强，容易粘附在FPD玻璃表面，使TFT玻璃基板的边缘产生凸起，对TFT玻璃基板外观良品率以及后处理造成了很大的影响；3，生产过程中速率不稳定且利用率较低；4，由于利用率低，废液处理困难，与之相配套的废液处理成本较高；5，蚀刻过程中，玻璃上的凹点、划伤缺陷等会放大。随着薄化TFT市场发展越来越大，TFT玻璃基板的减薄将有越来越多的企业加入，采用单一氢氟酸根本满足不了 TFT玻璃基板减薄品质要求，适量添加其它辅助酸液来增加其TFT玻璃减薄的品质是必行之势。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述不足，提供一种TFT玻璃基板减薄液，为TFT玻璃基板提供安全、稳定、高效的生产环境的同时，能有效避免控制蚀刻过程中TFT玻璃基板产生的凹点、划伤缺陷的放大，解决凸起的问题。本专利技术的第一个方面是提供一种TFT玻璃基板减薄液，按照质量百分比计，其组分包括:氢氟酸10% ~12%，氟化氢铵4%~6%，硝酸5% ~8%，硫酸5% ~8%水余量。优选地，所述TFT玻璃基板减薄液的各组分重量配比为:氧氣酸10 .5% ~11.5%,氟化氢铵4.5%~5.5%,硝酸5.5% ~7.5%，硫酸5.5% ~7.5%，水余量。进一步优选地，所述TFT玻璃基板减薄液的各组分重量配比为:氢氟酸10%，氟化氢铵5%，硝酸8%，硫酸8%，水69%。其中所述水为超纯水，其纯度≥99%，优选为≥99.9%，更优选为≥99.99%。本专利技术的第二个方面是提供一种本专利技术第一个方面所述的TFT玻璃基板减薄液的制备方法:将本发 明第一个方面所述的TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得。本专利技术的第三个方面是提供一种TFT玻璃基板减薄工艺，包括以下步骤:步骤I，对TFT玻璃基板进行封胶处理，UV固化；步骤2，将步骤I处理后的TFT玻璃基板置入装有权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻；步骤3，清洗。优选地，所述TFT玻璃基板减薄工艺，还包括:步骤4，对步骤3处理后的TFT玻璃基板进行成品质量检验，不合格进行步骤5，合格进行步骤6 ；步骤5，物理抛光处理，清洗后进行步骤4 ；步骤6，进行出货品质检验，合格进行步骤7，不合格进行步骤4，步骤7，包装入库。本专利技术提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率，针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳，能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术提供的TFT玻璃基板减薄工艺流程图。【具体实施方式】下面参照附图，结合具体的实施例对本专利技术作进一步的说明，以更好地理解本专利技术。实施例1一种TFT玻璃基板减薄液，按照质量百分比计，其组分包括:氢氟酸10%，氟化氢铵5%，硝酸8%，硫酸8%，超纯水69%。将配方中的超纯水、氢氟酸、氟化氢铵、硝酸、硫酸依次加入配酸容器中混合，用搅拌机以搅拌速度120r/min~200r/min的速度搅拌分散40~60min后，即可得到成品TFT玻璃基板减薄液。实施例2本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:氢氟酸12%，氟化氢铵4%，硝酸7%，硫酸5%，超纯水72%。实施例3本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:氢氟酸11%，氟化氢铵6%，硝酸8%，硫酸5%，超纯水70%。实施例4本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:氢氟酸10.5%，氟化氢铵5.5%,硝酸7%，硫酸6%，超纯水71%。实施例5本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:氢氟酸12%，氟化氢铵5%，硝酸5%，硫酸5%，超纯水73%。实施例6本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:氢氟酸10.5%，氟化氢铵5.5%，硝酸7.5%， 硫酸6.5%，超纯水70%。实施例7参照图1，一种TFT玻璃基板减薄工艺:I)从客户/供应商获得TFT玻璃基板材料进行IQC (来料质量控制)，合格后，进行封胶处理，UV固化，手动清洗后，进行蚀刻前清洗；2)将处理后的TFT玻璃基板置入装有实施例1提供的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻20min ；3)进行蚀刻后清洗；4)进行FQC (最终品质管制，FinalQualityControl),检测合格进行步骤6),检测不合格进行步骤5);5)物理抛光处理，清洗后进行步骤4)；6)进行OQC (出货品质检验,Outgoing Quality Control),合格进行步骤7),不合格则进行步骤4);7)包装入库。采用实施例1~6提供的TFT玻璃基板减薄液，按照实施例7提供的TFT玻璃基板减薄工艺的步骤I)~3)，对铝硅材质玻璃(3.97寸，厚度为1.1mm)进行减薄处理，单边的蚀刻量控制在0.15mm，然后进行外观检测和蚀刻速度检测，检查结果见表1。其中，对比例I采用3.5%的氢氟酸。表1检测结果【权利要求】1.一种 TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，按照质量百分比计，其组分包括: 氢氟酸10%~12%， 氟化氢铵4%~6%, 硝酸5%~8%， 硫酸5%~8% 水余量。2.根据权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，各组分重量配比为: 氢氟酸10.5%~11.5%, 氟化氢铵4.5%~5.5%, 硝酸5.5%~7.5%, 硫酸5.5%~7.5%, 水余量。3.根据权利要求2所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，各组分重量配比为: 氢氟酸10%， 氟化氢铵5%, 硝酸8%， 硫酸8%， 水 69%ο4.根据权利要求1~3中任意一项所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，所述水为超纯水，其纯度> 99.99%。5.一种权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，将权利要求1所述的TFT玻璃基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，按照质量百分比计，其组分包括：氢氟酸 10%～12%，氟化氢铵 4%～6%，硝酸 5%～8%，硫酸 5%～8%水余量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑资来，李胜坤，
申请(专利权)人：惠州市清洋实业有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44