加栅场板耗尽型AlGaN/GaN HEMT器件结构及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种加栅场板耗尽型AlGaN/GaN HEMT器件结构及其制作方法，主要解决目前AlGaN/GaN高迁移率晶体管获得高频率的问题。所述结构包括衬底、本征GaN层、AlN隔离层、本征AlGaN层、AlGaN掺杂层、栅电极、源电极、漏电极、栅场板、绝缘层、钝化层以及用于调节沟道电场的硅化物。AlGaN掺杂层位于本征AlGaN层之上，电极以及绝缘层位于AlGaN层之上，硅化物位于绝缘层之上。在衬底上外延生长耗尽型AlGaN/GaN异质结材料，并在该结构上形成栅极、源极和漏极，然后淀积一层绝缘层，在绝缘层上(栅漏区域以及栅源区域间)，形成硅化物(NiSi，TiSi2等等)，将厚绝缘层上的硅化物与栅极电连接形成栅场板结构。最后淀积钝化层实现器件的钝化。本发明专利技术具有器件频率高，工艺重复性和可控性高的优点。

【技术实现步骤摘要】
加栅场板耗尽型AlGaN/GaNHEMT器件结构及其制作方法
本专利技术属于微电子
，涉及半导体器件制作，具体的说是一种加栅场板耗尽型AlGaN/GaNHEMT器件结构及制作方法，可用于制作低沟道电阻高频率的耗尽型高电子迁移率晶体管。
技术介绍
近年来以SiC和GaN为代表的第三带宽禁带隙半导体以其禁带宽度大、击穿电场高、热导率高、饱和电子速度大和异质结界面二维电子气浓度高等特性，使其受到广泛关注。在理论上，利用这些材料制作的高电子迁移率晶体管HEMT、发光二极管LED、激光二极管LD等器件比现有器件具有明显的优越特性，因此近些年来国内外研究者对其进行了广泛而深入的研究，并取得了令人瞩目的研究成果。AlGaN/GaN异质结高电子迁移率晶体管HEMT在高温器件及大功率微波器件方面已显示出了得天独厚的优势，追求器件高频率、高压、高功率吸引了众多的研究。近年来，制作更高频率高压AlGaN/GaNHEMT成为关注的又一研究热点。由于AlGaN/GaN异质结生长完成后，异质结界面就存在大量二维电子气2DEG，当界面处电阻率降低时，我们可以获得更高的器件频率特性。AlGaN/GaN异质结电子迁移率晶体管可以获得很高的频率，但往往要以牺牲耐高压特性为代价。目前提高的AlGaN/GaN异质结晶体管频率的方法如下：1.结合无电介质钝化(dielectric-freepassivation)与重生长欧姆接触来减小电阻率。参见YuanzhengYue，ZongyangHu，JiaGuo等InAlN/AlN/GaNHEMTsWithRegrownOhmicContactsandfTof370GH。EDL.Vol33.NO.7，P1118-P1120。该方法采用了30纳米栅长，并且结合无电介质钝化(dielectric-freepassivation)与重生长欧姆接触来减小源漏电阻率。频率可以达到370GHz。还可以通过减少沟道长度继续提高频率到500GHz。2.重生长重掺杂源漏到近栅的二维电子气沟道。参见Shinohara，K.Regan，D.Corrion，A.Brown等self-aligned-gateGaN-HEMTswithheavily-dopedn+-GaNohmiccontactsto2DEG；IEDM，IEEE；2012。过去重生长n+GaN欧姆接触对减少沟道接触电阻成效显著，但是重掺杂源漏接触直接到接近栅电极下的二维电子气沟道可以获得更好的频率特性和电流特性。文中报道的方法使频率达到了fT/fmax＝342/518GHz。同时击穿电压14V。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对以上高频率器件的不足，提供一种基于硅化物对沟道产生应力的方法，以同时提高耗尽型AlGaN/GaN高迁移率晶体管的频率特性耐压特性，增强工艺的可控性和重复性，满足GaN基电子器件对高频率、高电压的应用要求。本专利技术是这样实现的：本专利技术的技术思路是：使用外延生长并刻蚀的方法在AlGaN之上生长绝缘层，通过刻蚀生成台阶状的一厚一薄绝缘层，再在薄绝缘层上生长多个块状硅化物，硅化物块间距小于块宽度，在厚绝缘层上也生长硅化物形成场板并连于栅电极。由于硅化物的热膨胀系数大于绝缘层与AlGaN的热膨胀系数。当外延生长冷却时，硅化物会对绝缘层以及AlGaN层引入压应力，与此同时，位于硅化物之间的AlGaN层将会受到张应力。当AlGaN层受到压应力的时候，位于AlGaN/GaN界面的2DEG浓度有所减小，而当AlGaN层受到张应力的时候，位于AlGaN/GaN界面的2DEG浓度有所增加。AlGaN层所受压应力(张应力)的大小与硅化物(硅化物间距)的长度有关，这种关系并非是一种线性关系，而是当作用距离减小时AlGaN层所受到的应力对极化电荷的影响迅速增加(如下图2所示)，所以我们可以使硅化物的宽度、硅化物之间的间距不同来实现二维电子气浓度的调节，从整体上来看2DEG浓度的增加还是减少则取决于二者的大小关系，在此专利技术中，我们选择使二维电子气浓度增加来降低沟道电阻。所以张应力要大于压应力，于是硅化物宽度要大于硅化物间距。如图所示，如果硅化物的宽度为1μm，硅化物间距为0.25μm，.那么硅化物间距(0.25μm)区域所经受的张力作用使极化电荷最终比硅化物区域(1μm)的极化电荷大两个数量级，所以整体上的作用表现为AlGaN层受到张应力即极化电荷浓度有所增加，从而栅源间与栅漏间2DEG的浓度也因为极化电荷的增加而呈现整体增加的结果。因此该区域的电阻有有所减小。参见IEICETRANS.ELECTON，VOL.E93-C，NO.8AUGUST2010.AnalysisofPassivation-Film-InducedStressEffectsonElectricalPropertiesinAlGaN/GaNHEMTs.通过选择使硅化物之间的间距小于硅化物的长度，使2DEG浓度的增长远大于2DEG浓度的减小的，从而使栅漏与栅源间的电阻有所减小，在不改变栅漏间距的情况下提高高迁移率晶体管的频率特性。在厚绝缘层上的场板由于介质较厚，对2DEG的影响可忽略，但是连于栅电极后可以起到场板的作用，可以提高本专利技术的耐压特性。依据上述技术思路，本专利技术的耗尽型AlGaN/GaN高频高压器件结构包括衬底、本征GaN层、AlN隔离层、本征AlGaN层、AlGaN掺杂层、栅电极、源电极、漏电极、栅场板、绝缘层、钝化层以及用于调节二维电子气浓度的硅化物；所述AlN隔离层位于本征GaN层之上，所述本征AlGaN位于所述隔离层之上，所述AlGaN掺杂层位于本征AlGaN层之上，栅电极、源电极、漏电极以及绝缘层位于AlGaN掺杂层之上，硅化物位于绝缘层之上；在衬底上外延生长有耗尽型AlGaN/GaN异质结材料，所述AlGaN/GaN异质结材料中的AlGaN是由本征AlGaN层和AlGaN掺杂层共同组成，GaN就是本征GaN层，并在该异质结材料上形成有栅电极、源电极和漏电极，然后淀积一层绝缘层，其中厚绝缘层位于栅电极与漏电极之间，紧挨栅电极，厚度为200nm-700nm，薄绝缘层分别位于厚绝缘层与漏电极之间和栅电极与源电极之间，厚度为5～10nm，在绝缘层上的栅漏区域以及栅源区域间，形成有硅化物，硅化物为块状，会对硅化物正下方的绝缘层、本征AlGaN层和AlGaN掺杂层引入压应力，而除此之外的其余本征AlGaN层和AlGaN掺杂层的区域会受到张应力，通过使块间距小于块宽度，使得本征AlGaN层和AlGaN掺杂层总体获得张应力，从而使沟道中2DEG得到增强，所述的硅化物包括NiSi，TiSi2或Co2Si，将厚绝缘层上的硅化物与栅电极电连接形成栅场板结构，最后淀积钝化层实现器件的钝化。本专利技术中的衬底材料是蓝宝石、碳化硅、GaN或MgO，本征AlGaN层和AlGaN掺杂层中Al与Ga的组份能够调节，AlxGa1-xN中的x＝0～1，本征GaN层能够替换为AlGaN层，而该替换后的AlGaN中Al的组份小于本征AlGaN层和AlGaN掺杂层的Al组份，将厚绝缘层上的硅化物与栅电极电连接形成栅场板结构，提高器件的击穿电压。依据上述技术思路，利用金属硅化物提高AlGaN/GaNHEMT器件性能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种加栅场板耗尽型AlGaN／GaN HEMT器件结构，其特征在于：所述结构包括衬底、本征GaN层、AlN隔离层、本征AlGaN层、AlGaN掺杂层、栅电极、源电极、漏电极、栅场板、绝缘层、钝化层以及用于调节沟道电场的硅化物；所述AlGaN掺杂层位于本征AlGaN层之上，电极以及绝缘层位于AlGaN层之上，硅化物位于绝缘层之上；在衬底上外延生长耗尽型AlGaN／GaN异质结材料，并在该异质结材料上形成栅极、源极和漏极，然后淀积一层绝缘层，在绝缘层上的栅漏区域以及栅源区域间，形成硅化物，将厚绝缘层上的硅化物与栅极电连接形成栅场板结构，最后淀积钝化层实现器件的钝化。

【技术特征摘要】
1.一种加栅场板耗尽型AlGaN/GaNHEMT器件结构，其特征在于：所述结构包括衬底、本征GaN层、AlN隔离层、本征AlGaN层、AlGaN掺杂层、栅电极、源电极、漏电极、栅场板、绝缘层、钝化层以及用于调节二维电子气浓度的硅化物；所述AlN隔离层位于本征GaN层之上，所述本征AlGaN位于所述隔离层之上，所述AlGaN掺杂层位于本征AlGaN层之上，栅电极、源电极、漏电极以及绝缘层位于AlGaN掺杂层之上，硅化物位于绝缘层之上；在衬底上外延生长有耗尽型AlGaN/GaN异质结材料，所述AlGaN/GaN异质结材料中的AlGaN是由本征AlGaN层和AlGaN掺杂层共同组成，GaN就是本征GaN层，并在该异质结材料上形成有栅电极、源电极和漏电极，然后淀积一层绝缘层，其中厚绝缘层位于栅电极与漏电极之间，紧挨栅电极，厚度为200nm-700nm，薄绝缘层分别位于厚绝缘层与漏电极之间和栅电极与源电极之间，厚度为5～10nm，在绝缘层上的栅漏区域以及栅源区域间，形成有硅化物，硅化物为块状，会对硅化物正下方的绝缘层、本征AlGaN层和AlGaN掺杂层引入压应力，而除此之外的其余本征AlGaN层和AlGaN掺杂层的区域会受到张应力，通过使块间距小于块宽度，使得本征AlGaN层和AlGaN掺杂层总体获得张应力，从而使沟道中2DEG得到增强，所述的硅化物包括NiSi，TiSi2或Co2Si，将厚绝缘层上的硅化物与栅电极电连接形成栅场板结构，最后淀积钝化层实现器件的钝化。2.根据权利要求1所述的加栅场板耗尽型AlGaN/GaNHEMT器件结构，其特征在于：其中的衬底材料是蓝宝石、碳化硅、GaN或MgO。3.根据权利要求1所述的加栅场板耗尽型AlGaN/GaNHEMT器件结构，其特征在于：其中的AlGaN中Al与Ga的组份能够调节，AlxGa1-xN中x＝0～1。4.根据权利要求1所述的加栅场板耗尽型AlGaN/GaNHEMT器件结构，其特征在于：其本征GaN层替换为AlGaN层，而该替换后的AlGaN中Al的组份小于本征AlGaN层和AlGaN掺杂层的Al组份。5.根据权利要求1所述的加栅场板耗尽型AlGaN/GaNHEMT器件结构，其特征为：位于厚绝缘层上的硅化物与栅电极电连接形成栅场板结构，提高器件的击穿电压。6.基于加栅场板耗尽型AlGaN/GaNHEMT器件结构的制作方法，包括如下步骤：(1)对外延生长的AlGaN/GaN材料进行有机清洗，用流动的去离子水清洗并放入HCl∶H2O＝1∶1体积比的溶液中进行腐蚀30-60s，最后用流动的去离子水清洗并用高纯氮气吹干；(2)对清洗干净的AlGaN/GaN材料进行光刻和干法刻蚀，形成有源区台面；(3)对制备好台面的AlGa...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯倩，杜锴，代波，张春福，梁日泉，郝跃，
申请(专利权)人：西安电子科技大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61