本发明涉及马达泵。马达泵(MP)具备：保持转子(2)的转子保持件(200)、和固定有转子保持件(200)且为冲压成型品的叶轮(1)。

即使研磨摩擦力的变化较小仍可精确检测研磨终点。研磨装置具备：用于保持研磨垫的研磨台；用于将研磨对象物保持为与所述研磨垫相对的保持部；及基于表示由所述研磨垫研磨所述研磨对象物的状态的信号，检测表示所述研磨结束的研磨终点的终点检测部，所述终...

提供一种废气处理装置，能够不使装置大型化而对废气中含有的有毒气体效率良好地除害。废气处理装置(100)具备：形成有供液体流动的流路(1a)的主体(1)；与主体(1)连结并向供液体流动的流路(1a)供给废气的废气供给线路(2)；从废气供给...

本发明提供一种能够使搅拌器对镀覆液的搅拌力提升的技术。镀覆装置(1000)具备搅拌器(70)，该搅拌器(70)配置于阳极(11)与基板(Wf)之间，构成为在与阳极平行的方向上沿第一方向及第二方向往复移动从而搅拌镀覆液(Ps)，并且具备具...

对作为镀覆对象的基板的状态进行测定。基板状态测定装置具备：工作台，其构成为对具有晶种层和形成在上述晶种层上的抗蚀剂层的基板进行支承并使其旋转；至少一个白色共焦式传感器，其用于对被上述工作台支承的基板的板面进行测定；以及状态测定模块，其基...

本发明涉及用于向用于输送液化氨、液化天然气(LNG)、液态氢等液化气体的潜入式泵供给电力的供电装置及供电方法。供电装置(15)包括：第1电接点(21)，其固定于潜入式泵(7)且与潜入式泵(7)的电动机(7a)电连接；第2电接点(22)，...

本发明提供一种检测晶片等工件的膜厚测定的异常的方法、光学式膜厚测定装置及记录程序的记录介质。本方法为，遍及工件的研磨中的规定期间，生成来自工件上的多个测定点的反射光的多个谱图，将多个谱图按照各谱图的特征量分类为至少包含第一组和第二组的多...

冲洗容器(1)具有：容器主体(21)，其具有用于收容潜入式泵(2)的内部空间(20)；上盖(23)，其覆盖容器主体(21)的上侧开口；下盖(24)，其覆盖容器主体(21)的下侧开口；和与容器主体(21)的内部空间(20)连通的冲洗气体入...

本发明涉及为了将用于使液态氢等液化气升压的潜没式泵搬入泵柱内、以及从泵柱提升时将泵柱的内部与外部隔离而使用的缓冲闸。缓冲闸(1)将在内部配置有用于输送液化气的潜没式泵(2)的泵柱(3)的内部与外部隔离。缓冲闸(1)具备：在内部具有缓冲室...

提供一种可一体搬运型冲洗容器，其能够在将潜入式泵放入泵管柱内时防止空气被裹挟，且在将潜入式泵从泵管柱取出时能够将潜入式泵加温来防止空气中成分的液化。可一体搬运型冲洗容器(1)具有：容器主体(21)，其具有用于收容潜入式泵(2)的内部空间...

本发明涉及泵壳体及泵。泵壳体(5)具备切割部(30)，该切割部(30)具有当叶轮(4)被收容于泵壳体(5)时与叶轮(4)的前缘部(20)相对的上表面(35)。上表面(35)包含至少具有两个角度的区域。

实现能够进行不同的前处理的小型的预湿模块。预湿模块(200)包括：工作台(220)，其构成为对使被处理面(WF‑a)向上的基板(WF)的背面进行保持；旋转机构(224)，其构成为使工作台(220)旋转；清洗液供给部件(260)，其构成为...

本发明提供一种可保护研磨工序后的金属区域的表面不会氧化或是在研磨后的工序中产生的切削屑或粒子不会附着于接合表面的基板处理装置以及保护层的形成方法。本发明的基板处理装置具备：研磨装置，该研磨装置用于研磨半导体的基板；保护层形成装置，该保护...

提供一种能够抑制使用顶环时束带的嵌合部从槽脱离的技术。在研磨装置(100)的顶环(10)中，在挡圈部件(30)的外周壁(11)和按压机构(40)的外周壁(11)的至少一方设置有供束带(70)的嵌合部(71a、71b)嵌合的槽(15)，槽...

提供一种即使提供至使用点的气体溶解液为高浓度，也能够抑制在使用点处使用时产生气泡的气体溶解液供给装置和使用该气体溶解液供给装置执行的方法。气体溶解液供给装置(1)具备：使原料气体溶解于原料液体而生成第一气体溶解液的气体溶解部(4)；供生...

本发明提供一种能够精密地控制晶片等基板的研磨率尤其能够精密控制边缘部处的研磨率的研磨头系统及研磨方法。研磨头系统(1)具备研磨头(10)、头轴(11)、头旋转机构(18)、多路回转接头(25)、流体供给线路(Lb1)、压力调节器(Rb1...

在半导体制造装置中，减轻伴随着GUI画面的本地化的作业负荷。提供一种用于对控制程序的GUI画面进行本地化的方法，所述控制程序构成为控制半导体制造装置。所述半导体制造装置具备作为所述半导体制造装置的构成要素的多个模块，各所述模块具备作为该...

本发明提供一种能够适当地制作基板处理计划表的信息处理装置及方法、机器学习装置及方法。信息处理装置包括：信息获取部，获取配方信息与搬送时间信息，所述配方信息表示研磨处理及精加工处理的处理内容，所述搬送时间信息表示各搬送处理所需的搬送时间；...

本发明关于一种研磨晶片等的基板的研磨方法和研磨装置。本方法具备如下工序：研磨基板(W)；一边研磨基板(W)，一边生成转矩波形；及从基板(W)研磨前所存储的多个参考转矩波形选择一个参考转矩波形。研磨基板(W)的工序包含阶差研磨工序和平坦研...

本发明提高镀覆于多边形基板的膜的面内均匀性。镀覆装置具备：镀覆槽；基板支架，构成为保持多边形基板；阳极，配置于上述镀覆槽内，以便与上述基板支架所保持的基板对置；以及阳极遮罩，划定与上述多边形基板的外形对应的开口。阳极遮罩具有：第一遮罩部...