提供在抑制成本的同时能制造的以超薄玻璃为基材的有机EL面板。有机EL面板(10)至少具备：有机EL基板(12)，其由玻璃构成，且具有有机EL层叠部(122)；以及对置基板(14)，其由玻璃或树脂构成，且构成为与有机EL基板(12)相贴合...

提供具备多个天线元件的平面玻璃天线及其制造方法。平面玻璃天线(10)使用玻璃基板(12)作为电介质基板且构成为接收电波。该平面玻璃天线(10)至少具备玻璃基板(12)、接地导电部(14)以及多个天线元件(16)。玻璃基板(12)具有配置...

本发明所涉及的液晶面板制造方法至少包括：激光照射步骤，通过沿着多块获取用玻璃母材(50)中的与液晶面板的形状对应的形状切割预定线照射激光，从而形成容易被蚀刻的性质的改性线(20)；以及划线槽形成步骤，针对彩色滤光片基板(14)，沿着端子...

提供带透明薄膜的玻璃面板的制造方法以及带透明薄膜的液晶面板的制造方法，能将伴随蚀刻处理的侧面蚀刻的影响抑制到最小限度。带透明薄膜的玻璃面板的制造方法至少包含激光扫描步骤以及蚀刻步骤。在激光扫描步骤中，沿与要取出的玻璃面板的形状对应的形状...

本发明提供一种废弃物处理系统和废弃物处理方法，该废弃物处理系统不管玻璃基板的蚀刻处理中产生的蚀刻废液的状态如何，都可以简易且抑制成本地实施蚀刻废液的处理。蚀刻废液处理系统(10)以对在进行玻璃基板的蚀刻处理的蚀刻装置中产生的蚀刻废液进行...

本发明提供一种不需要伴随于蚀刻处理的掩蔽处理、并且能够将侧蚀的影响抑制到最小限度的液晶面板制造方法。液晶面板制造方法至少包括改性线形成步骤、槽形成步骤、蚀刻步骤和切割步骤。在改性线形成步骤中，针对阵列基板及彩色滤光片基板形成具有比其它部...

本发明提供一种不进行有机树脂膜与玻璃基板的剥离而用简单的方法可进行弯曲的显示装置，显示装置制造方法包括：在支承玻璃(20)的第一主面上形成聚酰亚胺膜(12)的步骤；在聚酰亚胺膜(12)上形成包括透明电极层(14)和发光层(16)的显示元...

本发明提供一种不进行有机树脂膜与玻璃基板的剥离而用简单的方法可进行弯曲的显示装置，根据本发明的显示装置制造方法，包括：在玻璃基板(12)的第一主面上形成有机树脂膜(14)的步骤；在有机树脂膜上形成包括显示元件的层(16、18、20)的步...

本发明提供使维护变得容易且容易实现装置的紧凑化、且可执行高品质的喷淋蚀刻处理的喷淋蚀刻装置。喷淋蚀刻装置至少包括蚀刻腔室(16)、送液单元(40)以及驱动单元(50)，这些送液单元(40)、蚀刻腔室(16)以及驱动单元(50)在与玻璃基...

本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备多个搬送辊(50)以及处理室(16、18、20、22)，多个搬送辊(50)构成为在水平方向搬送玻璃基板，处理室(16、18、20、22...

本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备第1研磨处理部(4)、第2研磨处理部(2)与洗涤部(70)。第1研磨处理部(4)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用...

本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备有多个搬送辊(50)以及多个喷射管(322)。多个搬送辊(50)构成为分别从下面支承玻璃基板(100)的同时向水平方向搬送玻璃基板(1...

本发明提供一种可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式的化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备搬送部及研磨处理部。搬送部具备以在支承玻璃基板(100)的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊(50)。研磨处理部...

本发明提供一种能够从实施了坚固的强化处理的大型的玻璃基材稳定地获取多片玻璃基板的玻璃基板的制造方法。玻璃基板的制造方法包括第一化学研磨步骤及第二化学研磨步骤。在第一化学研磨步骤中，以规定的单面研磨量仅对玻璃基材(10)的第一主面实施化学...

本发明的课题在于，提供一种能够安全地实现高品质的化学研磨处理的玻璃基板的化学研磨装置。其解决手段为，本发明的化学研磨装置具有：输送通路，其沿水平方向输送玻璃基板（GL）；研磨处理部（16）、（22），其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化...

本发明的课题在于，提供一种能够从一片玻璃母材有效地制造多个电子装置用玻璃基板的制造方法。其解决方法如下，该制造方法包括：第一工序（ST2），在玻璃基板的表面和背面中的一面或两面形成薄膜层，所述玻璃基板划分为多个使用区域；第二工序（ST4...

本发明提供一种在不使用溅射法的情况下在玻璃基板设置导电膜的显示装置的制造方法。所述制造方法包括：化学研磨工序，使显示装置用玻璃基板表面与浸蚀液接触，由此将玻璃表面的算术平均粗糙度Ra设在0.7nm-70nm的范围；成膜工序，对化学研磨工...