本实用新型公开一种无焊缝等离子真空腔体，其包括真空箱体，真空箱体前侧设有前门板，真空箱体后侧设有后门板，真空箱体是由前门板、后门板、多块铝板之间焊接而成的四周密闭的无焊缝箱体，并在真空箱体内部形成真空内腔，真空内腔垂直方向设置有多块电极...

本实用新型公开一种无焊疤式电极，安装固定在真空容器的内部，其包括电极主体，电极主体的一端具有第一延伸部和第二延伸部，第一延伸部上设有外露于真空容器的电极冷却水进口，第二延伸部上设有外露于真空容器的电极冷却水出口，电极主体内具有容纳腔室，...

一种化学铜分析控制装置，包括控制主机和铜离子传感器，铜离子传感器垂直挂在铜缸边缘，铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，光学导管浸在铜缸内的工作液中，电子箱露出铜缸的液面以上，控制主机的正面设有用于供操作的触摸屏，背面...

本实用新型提供一种化学铜分析控制系统，包括分析控制装置、化学铜工作缸、多个添加泵及多个添加缸；分析控制装置包括信号连接的控制主机和铜离子传感器，铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，光学导管浸在化学铜工作缸内的工作液中...

一种化学铜分析控制装置，包括控制主机和铜离子传感器，铜离子传感器垂直挂在铜缸边缘，铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，光学导管浸在铜缸内的工作液中，电子箱露出铜缸的液面以上，控制主机的正面设有用于供操作的触摸屏，背面...

本实用新型公开了一种多棱角整板电极，包括整板电极本体，所述整板电极本体的顶面与底面分别设置有凸起的棱角，所述棱角等间距的设置有多组，相邻的两个所述棱角的间距为10mm或15mm，所述棱角的最高点距整板电极本体的表层的距离为2mm。本实用...

本发明提供一种化学铜分析控制系统，包括分析控制装置、化学铜工作缸、多个添加泵及多个添加缸；分析控制装置包括信号连接的控制主机和铜离子传感器，铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，光学导管浸在化学铜工作缸内的工作液中，电...

本发明公开了一种多棱角整板电极，包括整板电极本体，所述整板电极本体的顶面与底面分别设置有凸起的棱角，所述棱角等间距的设置有多组，相邻的两个所述棱角的间距为10mm或15mm，所述棱角的最高点距整板电极本体的表层的距离为2mm。本发明通过...

本实用新型公开了一种快速升温装置，包括：等离子腔体，所述等离子腔体内设置有电极，所述等离子腔体分别与热媒介反应装置和冷媒介反应装置相连接，所述等离子腔体与所述热媒介反应装置之间设置有第一循环水泵和第一电磁阀；所述等离子腔体与所述冷媒介反...

本实用新型公开了一种快速抽真空装置，包括：鼓风机，所述鼓风机分别与真空腔体、真空泵和真空储存器相连接，所述鼓风机与所述真空腔体之间设置有第一气缸阀门，所述鼓风机与所述真空储存器之间设置有第二气缸阀门。该结构通过设置真空储存器、第一气缸阀...