中芯国际集成电路制造上海有限公司专利技术

中芯国际集成电路制造上海有限公司共有10555项专利

  • 本实用新型涉及一种手持式气动驱动工具,包括手柄、压缩气缸、气动接口端,所述压缩气缸设有活塞,手柄与压缩气缸的活塞固定连接,所述气动接口端通过导气管与压缩气缸连通。夹紧手柄时,可在压缩气缸内产生压缩气体,通过导气管上设置的单向出气阀以及带...
  • 本实用新型提供了一种洁净室开孔辅助治具,用于辅助开孔器在无尘室中对需开孔件进行无污染的开孔,该开孔器具有本体、设置在本体底端部中央的开孔刀具、用于支撑本体及开孔刀具的支架和设置在本体上驱动开孔刀具沿垂直方向运动以在需开孔件上开孔的驱动控...
  • 本实用新型防尘罩包括收容工具作业端且与工具非作业端紧固的罩体;所述罩体与工作面紧密接触,使罩体和工作面形成封闭空间;所述防尘罩还包括将工具作业造成的灰尘从罩体里分离出去的隔离装置,所述隔离装置包括在罩体壁上开设的位于作业水平面以上进气口...
  • 本实用新型揭露了一种非标准螺丝拆装工具,可利用其实现扳手拆装非标准螺丝件,其包括一套筒以及固定于套筒的螺帽部,其中套筒具有一开口,以通过该开口套住非标准螺丝的螺帽;而扳手作用于螺帽部。即将具有标准螺帽结构的套筒套于非标准螺丝的螺帽上,利...
  • 本实用新型公开了一种研磨垫,涉及半导体的研磨抛光工艺。该研磨垫上设有若干个呈涡轮状排列的沟槽。该沟槽包括若干个圆台形沟槽和连接圆台形沟槽的弧形沟槽。所述圆台形沟槽大小相等且均匀分布,圆台形沟槽的深度大于弧形沟槽的深度。与现有技术相比,采...
  • 公开了一种化学机械研磨设备和用于化学机械研磨设备的防溅装置,该研磨设备内安装有一防溅装置,该防溅装置包括安装在化学机械研磨设备内的环状防溅罩和与所述防溅罩相连的升降装置,所述防溅罩侧壁上开有沟槽,所述升降装置具有提升部件,且所述提升部件...
  • 本发明提供了一种防止研磨机台上研磨料聚合的喷水装置及其使用方法。可有效解决研磨机台上的机械头上研磨料的聚合引起研磨晶圆的缺陷问题。所述喷水装置包括两个喷水部件,所述两个喷水部件都包括进水孔,数个喷水孔,底座,支架,以及卡孔和水管;所述数...
  • 一种化学机械研磨设备研磨头的清洗方法,所述研磨头包括卡环,至少一个内腔,各内腔连接且在工作板上,且内腔压力作用于工作板上,包括:将研磨头置于研磨装置的清洗槽中;设置与所述卡环相邻研磨头内腔中压力小于大气压力;向所述研磨头工作板外表面喷洒...
  • 一种研磨液供给管路,包括研磨液容器、用于向研磨液容器输入研磨液的第一管路和用于将所述研磨液容器中的研磨液输出的第二管路,还包括位于研磨液容器液面以下与第一管路连通的横管,该横管包括与所述第一管路连通的具有弯曲部的S状管体和位于所述管体两...
  • 本实用新型提供一种原料供给装置,用于给清洗装置提供原料,其中,该装置包括一条提供化学品的管路和提供去离子水的管路,这两条管路共同连接到一条管路中以便将混合原料提供给清洗装置;该装置中还包括设置在所述两条管路上的数字流量器,用于测量流经对...
  • 本实用新型提供一种化学机械研磨机台的改良型喷头结构。现有的喷头结构具有固定的喷嘴,只能从一个位置向研磨垫上喷洒研磨液,容易造成研磨垫局部磨损过快以及无法根据需要调节研磨液流量分布的问题。本实用新型的化学机械研磨机台的改良型喷头结构,包括...
  • 本实用新型提供了一种改进型化学机械研磨液容器,其包括:容器本体,设置于容器本体下部并且和容器本体相连的出液管道,设置于容器本体上部并且深入容器本体内部的入液管道,所述的入液管道为环形结构,所述环形结构入液管道上设置有若干朝向容器内壁的喷...
  • 一种抛光设备的清洗装置,包括:    二喷孔设于该抛光设备的清洗装置的两侧;及    一洗剂入口设于该抛光设备的清洗装置;    其中所述的二喷孔形成的二信道与所述的洗剂入口所形成的一信道相连接。
  • 一种金属的化学机械研磨方法,该方法包括:    形成金属图案于一底材之上;    形成一绝缘层于所述金属图案之上;    以化学机械研磨法研磨该绝缘至该金属表面,该化学机械研磨法所采用的研磨剂包含一易吸附于该金属上的表面活性剂;及   ...
  • 一种研磨液再利用装置及其系统,应用于化学机械研磨制程,该系统包含研磨液循环管路、至少一连接该研磨液循环管路的研磨液供给单元、若干个连接该研磨液循环管路的研磨液再利用装置、及若干个分别连接该研磨液再利用装置的化学机械研磨单元;该装置包括:...
  • 一种对镜结构进行化学机械抛光的方法,这种镜结构可以用于LCOS、DLP显示器、及光学器件等。该方法包括提供一个半导体衬底,例如硅晶圆。该方法形成一个覆盖在半导体衬底之上的第一介电层,并且形成一个覆盖在该介电层之上的铝层。该铝层具有大于2...
  • 制造显微镜检测样品用的T-形研磨工具,包括:底座A,具有T形结构;上螺丝A1、左螺丝A2、右螺丝A3、锁紧螺丝A4;样品底座A5;左螺丝A2和右螺丝A3对称地设置在T-形底座一横的两端,上螺丝A1设置在T-形底座一竖的末端;锁紧螺丝A4...
  • 一种故障报警装置,包括:运行指令捕捉装置,用于捕捉化学机械抛光设备开始运行的指令;工作状态信号捕捉装置,用于捕捉化学机械抛光设备是否处于设定工作状态的工作状态信号;计时报警装置,在运行指令捕捉装置捕捉到化学机械抛光设备运行的指令且工作状...
  • 本发明提供了一种改进型抛光垫调节器工艺,涉及化学机械抛光工艺。采用现有的抛光垫调节器工艺无法有效清除抛光垫表面的抛光液结晶,且抛光垫的使用寿命较短。本发明的改进型抛光垫调节器工艺,先采用高压水或抛光液冲洗和修整抛光垫表面以去除抛光液结晶...
  • 本发明公开了一种化学机械研磨机台的维护方法。现有的化学机械研磨机台通过分步执行研磨消耗品更换与维护、新研磨垫磨合和刷子磨合步骤来实现常规维护,其花费时间较长,大大降低了机台的使用效率。本发明的维护方法在完成研磨消耗品更换与维护后,同时执...