本发明构思提供了一种行驶设备。所述行驶设备包括：主体；驱动单元，所述驱动单元被配置为提供驱动力，使得所述主体能够行驶；标记输出单元，所述标记输出单元被配置为在所述主体的预定行驶方向上照射标记；图像获取单元，所述图像获取单元被配置为通过对...

本发明的实施例提供一种能够快速地执行热处理的烘烤单元、烘烤单元的工作方法以及光旋涂器设备。本发明提供一种在光旋涂器设备中对基板执行热处理的烘烤单元。所述烘烤单元包括：加热部件，加热所述基板；冷却部件，冷却所述基板；基板移送部件，移送所述...

本发明的实施例提供一种使用低真空压力使基板的变形最小化，从而均匀地加热到基板的整个区域的热处理装置、其工作方法以及光旋涂器设备。根据本发明的针对基板执行热处理的热处理装置包括：基底板，以圆盘形状提供；支承销，在所述基底板的上面形成；真空...

本发明构思提供了一种用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。具体地，提供了一种基板处理装置，该基板处理装置包括：支承单元，该支承单元配置为支承基板；以及清洁单元，该清洁单元配置为清洁支承在所述支承单元上的基板的底表面，并且其中该清洁单元...

本公开提供了用于处理基板的设备，其包括：支承板，包括设置在其中的具有圆盘形状的第一容纳空间，并且支承基板；第一冷却装置，容纳在第一容纳空间中，并且包括相变材料；以及第二冷却装置，设置在支承板中，并且设置成使第一冷却装置的至少一部分介于第...

本公开提供了用于利用激光扫描器对准晶片的方法和设备以及半导体传送装置。所述方法包括：激光照射操作，利用设置在晶片的后侧或侧面下侧上的激光扫描器向晶片照射激光并获取图像；数据集获取操作，利用图像中的与激光照射方向对应的距晶片边缘的距离来获...

本公开涉及一种形成半导体装置的方法和一种基底处理系统。该方法包括：通过将用于表面处理的预处理气体供应到半导体基底的背面上来基于化学反应对包括用于电力传输的至少一个埋入式电力轨的半导体基底进行预处理；在半导体基底的背面上形成至少一个金属催...

本发明公开了一种基板处理装置及包括其的基板处理系统及基板处理方法，根据本发明的实施例的基板处理装置包括：多个显影腔室，排列成一列；以及喷嘴单元，包括设置在所述多个显影腔室中的至少任一个而向基板供应显影液的多个显影液供应喷嘴，所述喷嘴单元...

本发明提供一种加热单元、包括其的基板处理装置以及基板处理设备。可以是，加热单元包括：加热板，设置在加热空间内，并用于以支承基板的状态加热基板；以及固定部，用于固定所述加热板的位置，所述固定部包括：多个固定部件，沿着所述加热板的周缘以一定...

本发明公开了化学液体去除单元、去除残留的化学液体的方法以及用于供应化学液体的装置。化学液体去除单元可以从喷墨头去除残留的化学液体。化学液体去除单元可以包括：表面张力提供部，被配置成利用表面张力从喷墨头的喷嘴面去除残留的化学液体；驱动部，...

本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：电极板，其被施加电力；离子阻挡器，其位于所述电极板的底侧，在所述离子阻挡器上形成有多个顶孔，并且所述离子阻挡器接地；喷头，其位于所述离子阻挡器的底侧，并且在所述喷头上形成有多个底孔...

提供了在运输车和装载端口之间递送容器的容器递送单元以及包括该容器递送单元的物流运输系统。物流运输系统包括：容器运输单元，安装在半导体制造厂中，容器运输单元运输装载有半导体衬底的容器；装载端口单元，装载或卸载容器；半导体制造装备，连接到装...

本发明的实施例提供一种在利用微波的热处理工艺中能够以低费用调节基板的热分布的热处理装置以及其工作方法。根据本发明的使用微波的热处理装置包括：腔室，形成基板的热处理空间；基板支承单元，位于所述热处理空间的下部并支承所述基板；以及微波单元，...

提供了一种基底处理设备和基底处理方法，基底处理设备和基底处理方法能够防止抽吸孔由于在基底浮动和被印刷时所产生的气流而堵塞，并且基底处理设备包括：基底台，用于支撑基底；以及处理液喷射装置，安装在基底台上方以将处理液喷射到基底上，其中，基底...

本发明的实施例提供一种对基板进行表面处理以及可以有效地执行处理腔室的清洗的等离子体生成模组、其工作方法以及包括其的等离子体处理装置。根据本发明的等离子体处理装置中，在处理空间用于形成等离子体的等离子体生成模组包括：电源，用于形成所述等离...

本发明提供了即使在基板变形时也能够控制夹具稳定吸附基板的基板处理装置及方法，该基板处理装置包括：悬浮台，用于使基板悬浮；升降销，可升降地安装在悬浮台中；基板对准器，用于对准从悬浮台悬浮的基板；夹具，用于真空吸附经对准的基板；以及控制器，...

本公开涉及一种可以冲洗过滤器的过滤器冲洗设备和过滤器冲洗方法，该过滤器冲洗设备可以包括：主体，其中能够安装至少一个过滤器；去离子(DI)水供应单元，能够以期望时间间隔选择性地向安装在主体中的过滤器供应具有不同温度的多种类型的DI水，从而...

本发明涉及根据分别设置药液供应喷嘴和气体供应喷嘴提高基板的干燥性能的包括喷嘴单元的基板处理装置及基板处理方法。喷嘴单元，包括：第一喷嘴，向基板上喷出液；第一驱动模组，移动所述第一喷嘴；第二喷嘴，向基板上喷出气体；以及第二驱动模组，被相对...

本发明涉及基板加热装置和利用其的基板处理装置，更详细地涉及构造改善成能够有效地冷却端子条的基板加热装置和利用其的基板处理装置。本发明提供一种基板加热装置，用于加热基板，其特征在于，所述基板加热装置包括：加热部，是配置于所述基板的下方的热...

提供了一种液体化学品罐模块和一种液体化学品供应设备，液体化学品罐模块包括：罐体，具有能够储存液体化学品的储存空间；气体喷射器，用于将不活泼气体喷射到液体化学品中以减少罐体的液体化学品中的溶解氧；以及控制器，用于向气体喷射器施加控制信号以...