本发明公开了一种含氟清洗液组合物及其应用。该含氟清洗液组合物包括下述质量分数的组分：10‑30％氧化剂、0.001‑0.01％氧化型谷胱甘肽、0.001‑0.25％半胱氨酸、氟化物、有机碱、螯合剂、缓蚀剂、羧酸铵、0.01‑1％EO‑P...

本发明公开了一种含氟清洗液组合物的制备方法。该制备方法包括如下步骤：将所述的含氟清洗液组合物中的各个组分混合，即得到所述的含氟清洗液组合物；10‑30％氧化剂、0.001‑0.01％氧化型谷胱甘肽、0.001‑0.25％半胱氨酸、氟化物...

本技术涉及引线框架搬运装置，其包括托举装置和托叉，所述托举装置包括托板，所述托板可升降地设置；所述托叉可升降地设置；所述托叉升降时可贯穿所述托板升至所述托板上方并可下降至所述托板下方地设置。托板设置缺口，托叉可自缺口穿过托板，使得本技术...

本技术涉及引线框架传输装置，其包括支架，所述支架设置有凹槽；所述凹槽内设置有输送装置；所述凹槽内设置有挡板，所述挡板位置可调整地设置；所述挡板位置调整以调整所述凹槽的宽度。本技术中的引线框架传输装置，通过调整挡板可调整凹槽的宽度，可适用...

本发明公开了一种

本发明公开了一种

本发明提供了一种

本发明公开了一种基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用

本发明公开了一种蝶烯化合物组成的光刻胶及其制备方法和应用

本发明公开了一种酸性清洗液的应用

本实用新型涉及电子元件处理装置，其包括处理槽和淋液装置，所述处理槽具有进口和出口，电子元件可自所述进口进入所述处理槽，电子元件可自所述出口输出所述处理槽；所述淋液装置包括容腔和出液口；所述容腔用于容纳液体，所述出液口与所述容腔连通；所述...

本发明公开了一种酸性清洗液。本发明的酸性清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.1

本发明公开了一种碱性清洗液的应用。本发明的碱性清洗液用于清洗刻蚀灰化后的半导体芯片；所述的碱性清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01

本发明公开了一种碱性清洗液。本发明的碱性清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01

本发明公开了一种酸性清洗液的制备方法。本发明的制备方法包括如下步骤：将所述的酸性清洗液中的各个组分混合，得到所述的酸性清洗液；所述的酸性清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.1

本发明公开了一种碱性清洗液的制备方法。本发明的碱性清洗液的制备方法包括如下步骤：将所述的碱性清洗液中的各个组分混合，得到所述的碱性清洗液；所述的碱性清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01

本发明涉及电子元件处理装置，其包括处理槽和淋液装置，所述处理槽具有进口和出口，电子元件可自所述进口进入所述处理槽，电子元件可自所述出口输出所述处理槽；所述淋液装置包括容腔和出液口；所述容腔用于容纳液体，所述出液口与所述容腔连通；所述淋液...

本实用新型涉及引线框架夹持装置，其包括至少一组夹持杆、安装架和驱动装置；一组夹持杆包括两根以上的夹持杆，两根以上的夹持杆间隔设置；所述安装架可旋转地设置；每根所述夹持杆安装在一个所述安装架上，所述安装架带动所述夹持杆旋转；所述驱动装置驱...

本实用新型涉及引线框架料盒收纳装置，其包括支架、挡杆及弹性复位装置，所述支架设置有用于容纳引线框架料盒的容纳空间且允许引线框架料盒在所述容纳空间内移动；所述挡杆具有一突出部，所述挡杆设置于所述支架上且所述突出部突入所述容纳空间内，所述突...

本发明公开了一种等离子刻蚀清洗后中和清洗剂的制备方法。本发明的制备方法包括如下步骤：将中和清洗剂的原料混合，即可，其原料包括下列质量分数的组分：1％