本发明公开了一种用于等离子体控制的设备。该设备包括：等离子体发生器，该等离子体发生器包括两个电极，即阳极和阴极，其被配置为在两个电极之间产生等离子体；螺线管线圈，该螺线管线圈设置为围绕等离子体并且被配置为在两个电极之间产生平行于纵向轴线...

本发明涉及一种用于组成分析，特别是激光诱导击穿光谱法(LIBS)的方法，该方法包括：提供样本，该样本具有表面；沿着由多个弧限定的弧路径将烧蚀点移动到该表面上的多个位置，其中该多个弧从区域的一个边缘延伸到该区域的另一边缘，其中该弧路径遵循...

本发明提供了一种用于组成分析的方法，包括：提供具有表面的样本；沿分形路径将烧蚀点移动到该表面上的多个位置；对能量源施加脉冲以提供电磁能量束，以在该烧蚀点处烧蚀材料；响应于对该能量源施加脉冲而收集发射光谱；以及分析该发射光谱以确定该表面处...

一种用于组成分析的方法包括：提供具有表面的样本；以及用控制器确定沿循沿着该表面的振荡路径的多个等距位置。该振荡路径在大致平行于该表面的平面内的至少一个正交维度上是正弦形的。该方法还包括：对于该多个等距位置中的每个等距位置，使烧蚀点沿着该...

本发明公开了一种多程单元(300)，其包括：第一反射器布置(305A、305B)；和第二反射器布置(307)，所述第一(305A、305B)和第二(307)反射器布置限定其间的光学腔体(315)和所述单元；其中所述第一反射器布置(305...

本发明公开了一种用于产生第一和第二激光脉冲的双脉冲激光系统，其包含被布置成相对于所述第一激光脉冲延迟所述第二激光脉冲的多通道单元(300)，其中所述多通道单元包含限定光学腔(315)的第一(305A、305B)和第二(307)反射器布置...

本发明公开了一种用于控制通过光谱仪的气体流量的方法，包括：使气体通过所述光谱仪的内部，其中来自样品的光可以沿着第一路径穿过所述内部以到达第一检测器，并且所述气体对所述光谱仪分析的光谱区域内的光是透明的；将来自光源的光沿着第二路径通过所述...

一种用于原子发射光谱仪的火花台，所述火花台包括火花室、用于使气体流入所述火花室中的气体入口以及用于从所述火花室运送气体的气体出口。所述火花台适于可与所述原子发射光谱仪处的级解耦，以允许去除另一个火花台并与其交换。还描述了一种用于耦接到所...

一种用于光学发射光谱仪的火花台，其包含：火花室；气体入口，所述气体入口用于使气体流入所述火花室；气体出口，所述气体出口用于从所述火花室运送气体；其中所述火花室、气体入口和/或气体出口的一个或多个内表面包含抗粘附材料。所述抗粘附材料可以实...

一种用于建立原子发射光谱仪(AES)的安全操作以分析布置在所述AES的样品固持器(102)上的样品(100)的控制器(316)和方法。所述控制器(316)经配置以接收指示所述样品(100)在所述样品固持器(102)上的布置的至少一个测试...

一种火花光发射光谱仪，该光谱仪包括：一个用于引起来自一个样品的光的火花诱导发射的火花源；一个单一的入口狭缝；一个用于引导该光通过该单一入口狭缝的超环面反射镜；多个用于对已经由该反射镜引导通过该入口狭缝的光进行衍射的衍射光栅，在此该多个衍...

本发明提供了火花发生器，产生用于光学发射光谱分析（ＯＥＳ）的火花，其中，火花具有电流波形，该电流波形包括第一调制部分以及相对低电流和低陡度的第二调制部分，第一调制部分包括具有可变的幅值和／或峰间持续时间的多个相对高电流和高陡度峰，第二调...