日产化学株式会社专利技术

日产化学株式会社共有713项专利

  • 一种层叠体,其具有:半导体基板、支承基板、以及设于所述半导体基板与所述支承基板之间的粘接层,所述粘接层由粘接剂组合物的固化物形成,所述粘接剂组合物含有:具有与硅原子键合的碳原子数2~40的烯基的聚有机硅氧烷、具有Si-H基的聚有机硅氧烷...
  • 本发明的课题是提供硅溶胶、含有这些硅溶胶的固化体形成用组合物和环氧固化体,上述硅溶胶包含二氧化硅粒子作为分散质,稳定地分散于有机溶剂,上述二氧化硅粒子包含环氧基或含有环氧基的有机基、和烷氧基。解决手段是一种硅溶胶,其含有二氧化硅粒子作为...
  • 本发明的课题是提供一种即使在高温或高盐分下分散稳定性也较高的无机氧化物粒子的分散液,尤其是氧化硅粒子的分散液。一种分散体,其是以含有氧化硅的无机氧化物粒子作为分散质,且将液状介质作为分散介质的分散体,所述氧化硅是被水解性硅烷表面修饰了的...
  • 提供下述式所示的2’修饰鸟苷化合物的新的制造方法。式中,R1、R2相同或不同,为氢原子、可以具有取代基的C1‑6烷基、可以具有取代基的C7‑16芳烷基、可以具有取代基的C2‑6烯基、可以具有取代基的C2‑6炔基、或可以具有取代基的C6‑...
  • 本发明提供一种新型的正型感光性树脂组合物。该正型感光性树脂组合物包含下述(A)成分、下述(B)成分、下述(C)成分和溶剂。(A)成分:是(a1)、(a2)及(a3)的共聚物,且是不含羧基及羧酸酐基的共聚物,(a1)是下述式(1)表示的单...
  • 本发明的课题是提供1GHz下的介质损耗角正切为0.01以下的二氧化硅粒子及其分散液。解决手段是满足下述(i)、(ii)、和(iii)的事项的、1GHz下的介质损耗角正切为0.01以下的二氧化硅粒子及其分散液,(i)平均一次粒径为5nm~...
  • 一种层叠体的制造方法,其包括:在形成于支承基板的表面的剥离剂涂布层的表面形成第一粘接剂涂布层的工序;在半导体基板的表面形成第二粘接剂涂布层的工序;以及进行第一粘接剂涂布层与第二粘接剂涂布层的贴合和加热,形成剥离层和粘接层的工序,第一粘接...
  • 一种含有硅的抗蚀剂下层膜,其在220nm~300nm的波长区域中的光学吸收系数(k值)的最大值为0.05以上。
  • 一种层叠体的制造方法,其包括:在支承基板的表面形成第一粘接剂涂布层的工序;在半导体基板的表面形成第二粘接剂涂布层的工序;以及进行第一粘接剂涂布层与第二粘接剂涂布层的贴合和加热,由第一粘接剂涂布层和第二粘接剂涂布层形成粘接层的工序,第一粘...
  • 一种液晶取向剂,其含有聚合物(A),该聚合物(A)通过使包含下述式(1)所示的二酰亚胺二酯化合物(B)的四羧酸衍生物成分与二胺成分进行聚合反应而得到,所述聚合物(A)具有源自所述二酰亚胺二酯化合物(B)的、下述式(1A)所示的基团。式(...
  • 本发明提供一种聚合物组合物,其为能够通过更简单的工艺制作浑浊少的相位差膜的聚合物组合物,包含(A)嵌段共聚物和(B)有机溶剂,所述嵌段共聚物包含能够表现液晶性的感光性的侧链型聚合物嵌段和来自聚合物型聚合引发剂的聚合物嵌段。
  • 包含由下述式(1)表示的重复单元的氟代芳基磺酸聚合物化合物作为有机EL元件等中使用的掺杂剂物质是合适的。[式中,ArF表示氟代亚芳基,X表示O、S、NH、CONH或NHCO,ArS表示在环上具有至少一个SO3R基的芳基(R表示氢原子或碱...
  • 本发明的课题是提供新的正型感光性树脂组合物。解决手段是一种正型感光性树脂组合物,其包含下述(A)成分、下述(B)成分、下述(C)成分和下述(D)成分、或下述(A’)成分、下述(B)成分、下述(C)成分、下述(D)成分和下述(E)成分,进...
  • 本发明涉及液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件及其制造方法。提供在低温保管时固体成分不析出的液晶取向剂以及可得到具有高电压保持率且可减小蓄积电荷的绝对值、可在短时间内减少所产生的电荷的液晶取向膜的液晶取向剂。该液晶取向剂含有聚酰胺酸,该...
  • 本发明的目的在于提供在细胞聚集块的量产制造中即使不使用来源于生物体的血清也能够制造均质且高品质的细胞聚集块的、细胞培养的基底膜;用于形成其的基底膜形成剂;及细胞聚集块制造用基板。本申请的发明人提供包含聚合物、细胞粘附性物质及溶剂的、细胞...
  • 一种图案形成用组合物,其中,所述图案形成用组合物包含含三嗪环的聚合物、交联剂、在表面具有碱反应性基团的无机微粒以及有机溶剂,该含三嗪环的聚合物包含由下述式(1)表示的重复单元结构并且具有至少一个三嗪环末端且该三嗪环末端的至少一部分被羟基...
  • 本发明的课题是提供消除作为光波导形成用组合物而要求的图案形成性、成膜性、高折射率化的矛盾关系,可以满足这些性能的组合物。解决手段是下述光波导形成用组合物、以及包含该光波导形成用组合物的固化物的光波导,所述光波导形成用组合物包含:下述式[...
  • 本发明提供一种液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件,所述液晶取向剂能得到液晶的扭曲角的不均小,能抑制AC残像,且不易产生基板剥离的液晶取向膜。一种液晶取向剂,其含有下述(A)成分和(B)成分。(A)成分:具有下述式(1Ta)所示的结构...
  • 本发明提供兼具高蚀刻耐性、高耐热性和良好的涂布性的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜及其制造方法、抗蚀剂图案的形成方法、以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含聚合物、和作为溶...
  • 本发明涉及液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件。本发明提供即使在原料中使用经取代的环丁烷四羧酸二酐或其衍生物而得到的聚酰亚胺液晶取向膜中,也能得到具有高机械强度的液晶取向膜的液晶取向剂、该液晶取向膜以及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件...
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