本实用新型提供一种柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离装置，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差，将磁控溅射镀膜机的工作腔室物理隔离，有效减少工作气体的流失以维持各个工作腔室的真空度；可广泛应用于连续柔性薄膜显示器、薄膜...

本实用新型是柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置，包括若干级气体混合子单元顺次连接组成的气体混合单元，气体混合子单元包括导流混合舱和混合舱，混合舱为空心管状且侧壁两端边缘分别设置有环形进气带和环形出气带，混合舱的环形进气带与导流混合舱出...

本实用新型提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置...

本实用新型涉及真空镀膜领域，提供一种柔性卷对卷磁控溅射镀膜中超薄基带牵引装置，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差将需要沉积镀膜的柔性超薄基带与柔性辅助基带贴合形成抗拉强度较好的复合基带，为柔性超薄基带提供移动载体，防止柔...

本实用新型提供一种CIGS制备用强化隔离膜制备装置，以柔性有机材料为基材，经该制备装置一次性制成的成膜，具有较好的服帖性能；它包括在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、...

本发明提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备方法，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括...

本发明提供一种柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离方法，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差，将磁控溅射镀膜机的工作腔室物理隔离，有效减少工作气体的流失以维持各个工作腔室的真空度；可广泛应用于连续柔性薄膜显示器、薄膜太阳...

本发明提供一种CIGS制备用强化隔离膜制备方法，以柔性有机材料为基材，采用有机基材磁控溅射镀膜技术一次性制成的CIGS制备用强化隔离膜，具有较好的服帖性能；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为...

本发明涉及真空镀膜领域，提供一种柔性卷对卷磁控溅射镀膜中超薄基带牵引方法，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差将需要沉积镀膜的柔性超薄基带与柔性辅助基带贴合形成抗拉强度较好的复合基带，为柔性超薄基带提供移动载体，防止柔性超...

本发明是柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置，包括若干级气体混合子单元顺次连接组成的气体混合单元，气体混合子单元包括导流混合舱和混合舱，混合舱为空心管状且侧壁两端边缘分别设置有环形进气带和环形出气带，混合仓的环形进气带与导流混合舱出气端...

本技术提供一种能够使得阴极表面气体密度分布均匀，进而保证镀膜厚度在阴极靶的长度方向上基本相同的磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置。它包括位于屏蔽罩内的阴极靶，在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致，两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔，腰...

本技术解决了因各溅射腔内输入的气流流量不同而导致相邻溅射腔相互干扰，影响各溅射腔的沉积效果的问题，提供了一种相邻溅射腔互不干扰的多阴极磁控溅射干扰控制装置和方法，该干扰控制装置是在一个真空腔体内设置有多个磁控溅射阴极，每个磁控溅射阴极具...

本实用新型提供一种防止柔性透明基底内的水分、气体逸出，保证透明导电薄膜使用性能和使用寿命的长寿命高可靠性透明导电薄膜，它是在柔性基底一侧的凹凸不平的表面上具有SiO2薄膜层，在SiO2薄膜层上具有透明导电层。由于SiO2薄膜层与柔性基底...

本技术解决了因各溅射腔内输入的气流流量不同而导致相邻溅射腔相互干扰，影响各溅射腔的沉积效果的问题，提供了一种相邻溅射腔互不干扰的防干扰柔性磁控溅射装置。它是在一个真空腔体内设置有多个磁控溅射阴极，每个磁控溅射阴极具有一个阴极屏蔽罩所形成...

本技术提供一种质地柔软、轻薄，易于弯曲的柔性调光膜。它包括两层柔性透明导电薄膜，各柔性透明导电薄膜包括柔性透明基材层和透明电极层，两层相对的透明电极层之间设置有把两侧透明电极层相隔离的支撑物，在支撑位外周的两层透明电极层之间是溶致液晶聚...

本实用新型涉及磁控溅射镀膜领域，提供一种磁控溅射镀膜基带卷绕纠偏装置，用于柔性、卷绕式、连续型磁控溅射镀膜作业过程中抽真空时阻止原膜基带卷层之间的微量滑动偏移；一种磁控溅射镀膜基带卷绕纠偏装置，包括设置在放卷机架上、位于原膜基带卷两端的...

本技术涉及磁控溅射镀膜领域，提供一种磁控溅射镀膜原膜基带卷绕抻平辊，用于在柔性、卷绕式、连续型磁控溅射镀膜作业过程中中卷绕基带，并在卷绕基带时对基带在幅宽方向上抻平；一种磁控溅射镀膜原膜基带卷绕抻平辊，包括辊轴，辊轴由硬质材料制成；辊轴...

本技术提供一种磁控溅射镀膜原膜基带展平方法，用于在柔性、卷绕式、连续型磁控溅射镀膜作业过程中卷绕基材，并在卷绕基材时对基带在幅宽方向上展平。该方法是使用一根转动的展平辊对原膜基带进行展平；所述展平辊包括辊轴，辊轴由硬质材料制成；辊轴呈两...

本技术提供一种能够使得保证镀膜厚度在阴极靶的长度方向上基本相同的磁控溅射镀膜薄膜厚度一致性控制装置。它包括位于屏蔽罩内的阴极靶，在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致，两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔，腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度...

本技术提供一种质地柔软、轻薄的改变透光度的可弯曲柔性调光窗膜。它包括两层柔性透明导电薄膜，各柔性透明导电薄膜包括柔性透明基材层和透明电极层，两层相对的透明电极层之间设置有把两侧透明电极层相隔离的支撑物，在支撑位外周的两层透明电极层之间是...