本公开提供一种检验系统及一种杂散场减轻的方法。所述系统包含电子束柱阵列、第一永久磁铁阵列及多个屏蔽板。所述电子束柱阵列各自包含经配置以朝向载物台发射电子的电子源。所述第一永久磁铁阵列经配置以将来自每一电子源的所述电子会聚成电子束阵列。所...

本发明提供用于检测掩模上的缺陷的方法及系统。一种方法包含通过模拟产生多裸片掩模的数据库参考图像且通过比较所述数据库参考图像与通过成像子系统针对多个裸片中的第一者产生的所述掩模的图像而检测所述掩模上的第一缺陷。所述方法还包含通过将通过产生...

一种光学检验系统包含用于将从目标散射的光的偏振从跨收集光瞳在空间上变化的椭圆偏振转换成跨所述收集光瞳一致定向的线性偏振的一或多个光栅。在一些实施例中，所述一或多个光栅是单材料光栅。在一些实施例中，所述一或多个光栅包含反射衬底上的至少一个...

一种设备包含：卡盘，其经配置以固持晶片；及倾斜板，其安置在所述卡盘下方，且通过经分开地布置在所述卡盘的相对拐角中的一对上螺丝及一对下螺丝可调整地连接到所述卡盘。所述一对上螺丝的螺丝头抵靠所述卡盘的顶表面搁置，使得所述上螺丝中的一者的顺时...

确定经激光退火半导体晶片的图像中的网格线的位置。由所述网格线覆盖的区域可使用新灰度值来填充。所述新灰度值能够基于所述区域周围的邻域的第二灰度值。所述邻域位于由所述网格线覆盖的所述区域外部。

为清洗例如光学系统或电子束系统的半导体制造设备中的组件，在腔室中加热组件。将超临界流体调配物施加到所述腔室中的所述组件，这移除分子及/或颗粒污染物。所述超临界流体调配物可包含二氧化碳、水、HCF、烷烃、烯烃、一氧化二氮、甲醇、乙醇或丙酮...

本发明揭示一种用于至少对半导体装置的侧表面进行检验的设备、方法及计算机程序产品。提供框架构造，所述框架构造保持界定成像光束路径的相机。所述半导体装置经插入到镜块中。所述镜块具有第一镜、第二镜、第三镜及第四镜，其中所述镜经布置使得其以矩形...

一种用于半导体计量的方法包含将第一膜层沉积于半导体衬底上以及将第二膜层上覆于所述第一膜层上。通过使用具有预定义分辨率限制的投影系统以通过至少一个掩模将光学辐射投射到所述半导体衬底上而图案化所述第一及第二膜层以产生具有指定几何形式的叠加目...

一种由单片棱镜形成的单片光学延迟器可包含：输入面，其用于接收光束；输出面，其与所述光束在进入所述输入面之前的光学轴线对准；及三个或更多个反射面。所述三个或更多个反射面可被定向为经由通过所述三个或更多个反射面的反射来提供所述光束的从所述输...

工艺窗鉴定(PWQ)布局能够用于确定与图案、图案化工艺或图案化设备相关联的图案异常的存在。例如，调制裸片或场能够与略低偏移调制裸片或场比较。在另一实例中，比较特定条件或条件的组合的高低角。在又一实例中，工艺调制参数能够用于估计所关注特定...

提供用于建立基于物理的模型的系统及方法。一种系统包含一或多个组件，其由一或多个计算机子系统执行且包含描述半导体制造相关过程的基于物理的模型及经配置用于在多个阶段中建立所述基于物理的模型的建立组件，在所述多个阶段中的每一者中仅建立所述基于...

提供一种用于电磁线圈的均匀冷却的系统及方法。所述系统包含电磁线圈、冷却结构及冷却流体源。所述冷却结构围绕所述电磁线圈的整个周边，且包含围绕所述电磁线圈交替布置的第一冷却通道及第二冷却通道。所述冷却流体源经配置以将第一冷却流体输送到所述第...

本文中呈现用于产生由潜在数学空间中的一组变量参数化的半导体结构的优化几何模型的方法及系统。参考形状轮廓特性化过程空间上所关注的半导体结构的形状。描述参考形状轮廓的一组可观测几何变量经变换成一组潜在变量。潜在变量的数目小于可观测几何变量的...

在激光器组合件200A、200B的最终倍频级230A、230B中使用包含协作地经配置以产生用于准相位匹配(QPM)的周期性结构的堆叠式四硼酸锶SrB<subgt;4</subgt;O<subgt;7</subgt...

提供用于确定样品的信息的方法及系统。一个系统包含经配置用于确定样品的图像的全局纹理特性及所述图像中的局部化区域的一或多个局部特性的计算机子系统。所述系统还包含由所述计算机子系统执行的一或多个组件。所述组件包含经配置用于基于所述全局纹理特...

一种用于半导体计量的方法包含将第一及第二上覆膜层沉积于半导体衬底上及图案化所述层以界定叠对目标。所述目标包含：所述第一层中的第一光栅图案，其包含在第一方向上定向的至少第一线性光栅及在垂直于所述第一方向的第二方向上定向的至少第二线性光栅；...

一种用于半导体计量的方法包含将第一薄膜层沉积在半导体衬底上并沉积上覆所述第一薄膜层的第二薄膜层。图案化所述第一薄膜层及所述第二薄膜层以定义多个叠加目标，所述多个叠加目标包括：第一目标特征，其形成于所述第一薄膜层中具有隔开第一标称距离的相...

提供用于检测来自样品的带电粒子的方法及系统。一种系统包含：第一排斥网，其经配置以排斥来自样品的具有低于第一预定能量的能量的带电粒子；及第二排斥网，其经配置以排斥通过所述第一排斥网且具有低于第二预定能量的能量的所述带电粒子。所述系统还包含...

一种设备包含提升装置及电动机组合件。所述提升装置安置在提升装置外壳中且经配置以调整经连接到所述提升装置的光学组件的垂直位置。所述电动机组合件安置在电动机外壳中且经配置以驱动所述提升装置以调整所述光学组件的所述垂直位置。所述提升装置外壳、...

本发明提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件，所述一或多个组件包含经配置以用于基于利用成像子系统的学习模式由样品产生的输出而确定所述样品的信息的多个深度学习(DL)模型。所述一...