一种用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物，该涂层在１００～４５０ｎｍ范围内对曝光辐射具有高吸收率，光产生的酸在抗反射涂层上不会扩散，并且抗蚀层和抗反射涂层不会混合，且具有良好的贮存稳定性和良好的步进式覆盖，同时提出并公开了用于这种组合物的新...

本发明涉及一种用于平版印刷的清洁剂，这种清洁剂具有优异的溶解抗蚀剂的能力并对人体非常安全，这种清洁剂通常可用于清洁各种涂敷器，如涂敷杯，当涂敷抗蚀剂时或在涂敷抗蚀剂后从基质上除去多余的抗蚀剂，在使用抗蚀剂达到目标后从基质上除去抗蚀剂，在...

本发明公开了一种减少反射涂层组合物，其包含（Ａ）由通式Ｃ＃－［ｎ］Ｆ＃－［２ｎ＋１］ＳＯ＃－［３］Ｈ表示的全氟烷基磺酸，其中，ｎ为整数４～８，（Ｂ）有机胺，（Ｃ）水溶性聚合物，（Ｄ）由通式Ｃ＃－［ｎ］Ｆ＃－［２ｎ＋１］ＳＯ＃－［２］ＮＨ...

＊＊＊ 本发明提供了一种用于照相平版印刷的底部抗反射涂层材料，该材料使用了以下通式的聚合物染料。这种聚合物染料能够形成具有优良成膜性、在曝光波长处优良吸收性、优良同步覆盖度、与光致抗蚀剂不相混及高蚀刻的速度的底部抗反射涂层。其中Ｒ...

本发明公开了一种具有优良耐热性的辐射敏感性树脂组合物，其包含一种碱溶性树脂，一种交联剂和一种光敏剂，所述碱溶性树脂是通过羟甲基化的双酚进行缩合获得的，必要时采用酚：＄其中，Ｒ＃－［１］－Ｒ＃－［４］分别代表氢原子、１—３个碳原子的烷基或...

本发明公开了一种包含碱溶性树脂的辐射敏感性树脂组合物，例如酚醛清漆－醌二叠氮化物正型辐射敏感性树脂组合物和化学增强的负型树脂组合物，其中，碱溶性树脂包含至少一种碱溶性树脂，该碱溶性树脂是通过使通式（Ｉ）表示的化合物与苯酚以及必要时与醛进...

在据照相平版法（光刻）的集成电路元件的制备方法中，一个可降低在形成抗蚀图形过程中由于基片的性质或基片表面的酸度所导致的不利影响的方法，其中用一个化学增强性抗蚀剂作为光致抗蚀剂，以及一个用于该方法的基片处理剂组合物。该基片处理剂组合物包含...

一种光敏性树脂组合物，其中包含下列组份：（ａ）一个在其结构中具有１，２－二叠氮基萘醌结构和由两个或更多甲基取代的酚衍生物所组成的亚甲桥结构的光敏剂；（ｂ）一个兼具有羟基和羧基的聚合物，或一个具有羟基的聚合物和一个具有羧基的聚合物的结合物...

一种敏射线树脂组合物，其中向光敏性树脂基组合物中加入特定量的荧光物质制得该组合物，它具有优良的敏感性，分辨度与膜层保护特性，并能形成令人满意的（光致防蚀）图形。当该光敏性树脂基组合物至少兼有一种树脂和一种光敏性物质时，例如一种含有碱溶性...

一个能够显著改进敏射线树脂组合物的防干性蚀刻性能的方法，其中能形成优良的图案，同时保持高敏感性和高清晰度，以及一个由此制得的敏射线树脂组合物。该敏射线树脂组合物包含有碱溶性树脂，敏射线物质以及荧光材料，该荧光材料的加入量是相对于每１００...

一种水溶性树脂组合物，其中包含有（１）水溶性树脂，（２）水溶性交联剂，（３）表面活性剂，它至少选自下列物质之一，炔属醇类，乙炔二醇类，炔属醇的乙氧基化物和乙炔二醇的乙氧基化物，以及（４）溶剂，该溶剂可以是水或一个由水与一个水溶性溶剂所组...

着色感光性树脂组合物，其特征是含有 （ａ）具有醇性或酚性羟基的聚合物； （ｂ）通过光化射线照射，生成氮烯的化合物； （ｃ）颜料、及 （ｄ）溶剂。

本发明涉及一种光敏树脂组合物。该光敏树脂组合物含有（ａ）一种具有特殊的片段的聚合物与（３，４－环氧环己基）－甲基甲基丙烯酸酯的反应产物，（ｂ）一种聚合引发剂，其使得当进行光化照射时即可使所述的反应产物的聚合得以引发和（ｃ）一种溶剂。优选...

本发明提供了一种辐射吸收聚合物，其具有共聚物的主链，所说共聚物包含具有二元羧酸或羧酸酐基团的重复单元及通过亚甲基或亚烷基键合至羧基的有机发色基团，其中有机发色基团通过酯化反应被键合至羧基上。辐射吸收聚合物的其余羧基可选择性地用具有活性氨...

一种与吸收辐射的染料以化学键相连的吸收辐射聚合物对于预定波长的辐射具有高度的吸收，它对基底显示良好的粘结性能，和良好的形成薄膜的性能，它对光刻胶没有依存性，它溶解于光刻胶溶剂，但在烘烤以后变为不溶；并公开了含有这种聚合物的吸收辐射涂层用...

本发明公开了一种高性能抗反射涂层，其可高度吸收给定光线，如远紫外线，在形成涂层后能够坚固地粘附于基质上，这种抗反射涂层具有满意的覆盖性能，并能消除驻波在生产集成电路中的影响；本发明还公开了用于形成抗反射涂层的新的光吸收聚合物；公开了聚合...

本发明公开了一种用于形成辐射吸收涂层的组合物，该组合物包含一种有机溶剂，一种辐射吸收聚合物或一种溶解于其中的辐射吸收材料及具有封端的异氰酸酯基团的交联剂。由于交联剂的异氰酸酯基团被封端，因此，包含该交联剂的组合物具有优异的稳定性。当将组...

一种化学增强辐射敏感组合物，通过一种成膜的羟基苯乙烯基树脂与产生氟化链烷磺酸的＿＿盐前体（光敏酸发生剂）混合，提供了该组合物。该组合物不会由于除气引起设备的腐蚀，也没有Ｔ形顶图案轮廓，也没有因加工时间延迟产生显著的线宽变化，另一方面，它...

极微小抗蚀图形的形成方法，其中把含有３～１５重量份的含有醌二叠氮化物的光敏剂和１００重量份的碱溶性（线型）酚醛清漆树脂的正性光致抗蚀剂组合物用作为显影剂的，其碱浓度低于常规量的含水有机或无机碱溶液进行显影。上述显影剂中的有机碱物质优选季...

本发明公开了一种抗反射涂层组合物，其至少包含：（ａ）聚丙烯酸；（ｂ）聚乙烯基吡咯烷酮；（ｃ）Ｃ↓［ｎ］Ｆ↓［２ｎ＋１］ＣＯＯＨ（其中，ｎ为整数３～１１）；和（ｄ）四甲基氢氧化铵。涂敷的光致抗蚀剂膜进行曝光和显影，获得一种具有满意形成的抗...