本实用新型涉及一种基板处理装置，基板处理装置包括：工作台，其进行对基板的研磨工艺；夹紧单元，其夹紧基板；倾斜部，其使得夹紧单元相对于工作台选择性倾转地倾斜，据此可得到的有利的效果在于，可使得基板位于准确的位置，并且在对基板进行装载及卸载...

本实用新型涉及一种用于研磨装置的研磨头及使用的弹性环以及晶元的研磨装置，所述研磨头包括：第一本体部，其得到旋转驱动力的传递；第二本体部，其在研磨工艺中形成有将晶元的板面加压于研磨垫的加压面；边缘部，其设置有护环，所述护环在所述研磨工艺中...

本实用新型涉及一种化学机械研磨装置，化学机械研磨装置包括：研磨平板；研磨垫，其配置于研磨平板的上面并与基板接触；表面特性检测部，其对研磨垫的表面特性进行检测，通过所述化学机械研磨装置可获得的有利效果在于，准确地对研磨垫的状态进行感知，并...

本实用新型涉及一种化学机械研磨装置，化学机械研磨装置包括：载体头；基板感知传感器，其安装于所述载体头的外侧并且收发用于对基板进行感知的感知信号，所述基板附着于所述载体头；信号传送部件，其一端连接于所述基板感知传感器，其他端暴露于附着有基...

本实用新型涉及一种化学机械研磨装置，化学机械研磨装置包括：载体头，其将基板向研磨垫加压；感知部，其对相对于研磨垫的载体头的姿势变化进行感知，据此可得到的有利的效果在于，在基板相对于载体头开始脱离之前，事先迅速地对基板的脱离可能性进行感知。

本实用新型涉及一种晶元研磨装置的研磨头，其包括：本体部，其在晶元的研磨工艺中得到旋转驱动力的传递；基底，其与所述本体部一起进行旋转；膜，其包括底板、侧面、第一隔壁，所述底板形成有对晶元进行加压的加压面，所述侧面从所述底板的边缘向上方延长...

本实用新型涉及一种喷嘴单元及包括其的基板处理装置，喷嘴单元包括：喷嘴体，其形成有混合室；气体供给流路，其将气体沿着第一方向供给于混合室；液体供给流路，其设置有多个液体供给通道，所述多个液体供给通道将液体沿着与第一方向相交叉的第二方向供给...

本实用新型涉及一种化学机械研磨装置，化学机械研磨装置的操作方法包括：距离信息测量步骤，对磨纹(groove pattern)的底面和研磨垫的上面之间的距离信息进行测量，所述磨纹形成于研磨垫的上面；检测步骤，利用距离信息对研磨垫的厚度变化...

本实用新型的目的在于提供一种如下的基板加热干燥装置，在将药液涂覆在基板之后将其干燥的过程中，从根源上去除基板上的斑点的生成，从而能够防止工艺不良。为实现此，本实用新型的基板加热干燥装置的特征在于，包括：腔室，在真空氛围下实现针对涂覆有药...

本实用新型的目的在于公开一种如下的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，在排出口的端部凝结有药液的情况下，也能够确认喷嘴间隙的变化量并调节喷嘴间隙。为此，本实用新型的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置为形成有用于在被处理基板的表面涂覆药液的排出口的狭缝喷...

本实用新型的目的在于提供一种如下的预涂单元及包括此的药液喷嘴管理装置：配备将重量减轻并防止下垂而提高直线度和圆度的预涂辊。为了实现此，本实用新型的预涂单元具备使药液从药液喷嘴预排出的预涂辊，所述预涂辊由辊部以及结合于所述辊部的两侧的轴部...

本实用新型涉及一种基板移送装置及包括其的基板处理系统，对进行药液涂覆工艺处理的基板进行移送的基板移送装置包括：振动板，其利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮；移送部件，其使得通过振动板悬浮的基板移送；偏差补偿部，其对悬浮的基板和移送...

本实用新型涉及一种基板移送装置，提供一种基板移送装置，其作为以使得结束化学机械研磨工艺的基板放置的状态进行移送的装置，包括：移动主体；基板放置架，其从移动主体向下方延长并以互相面对的形式折曲且设置有两个以上的放置面，并且使得所述基板放置...

本实用新型涉及一种基板处理系统，基板处理系统包括：研磨部，其对基板进行化学机械研磨(CMP)工艺；预备清洗区域，其设置于研磨部，并对执行研磨工艺的基板进行预备清洗(pre‑cleaning)；清洗部，其对在预备清洗区域得到预备清洗的基板...

本实用新型涉及一种基板处理系统，基板处理系统包括：研磨部，其对基板进行化学机械研磨(CMP)工艺；清洗部，其对完成研磨工艺的基板进行清洗；基板移送部，其在研磨部对搬入至基板搬入搬出部的基板进行研磨之前移送至清洗部，基板在进行研磨工艺之前...

本实用新型涉及一种基板处理系统，所述基板处理系统包括：研磨部，其针对基板执行化学机械研磨(CMP)工艺；卸载区域，其设置于研磨部，并且对完成研磨工艺的基板进行卸载；翻转单元，其设置于卸载区域，并且在卸载区域接收基板并使其翻转旋转；基板搁...

本实用新型涉及一种基板移送装置以及包含其的基板处理系统与基板处理装置，所述基板移送装置对药液涂敷工艺得到处理的基板进行移送，其包括：基板移送部，其包括独立地被分割的多个悬浮部，并且将基板以悬浮的状态进行移送；控制部，其个别地对通过多个悬...

本实用新型提供一种化学机械研磨装置，其作为一种进行研磨的化学机械研磨装置，包括：研磨平板，其以所述晶元的所述研磨层接触的研磨垫覆盖于其上面的形式进行自转；光传感器，其设置有光发送部与光接收部，所述光发送部将多个光信号照射至所述晶元的所述...

本实用新型公开如下的药液除气装置：能够将高粘度药液内包含的气泡有效地分离而去除，从而预防工艺不良，并且在移送高粘度药液时，能够减少压差的产生，据此可以使药液被顺利地移送而被供应。为了实现上述目的，本实用新型包括：除气膜，具有能够使被包含...

本实用新型涉及一种基板旋转装置，支撑圆形盘形状的基板的同时进行旋转的基板自旋装置，包括：固定支撑部，其固定设置以便支撑基板的边缘位置一侧；可动支撑部，其以可朝与基板接近及分离的方向移动的方式设置并支撑相面对固定支撑部的基板的边缘位置另一...