本发明公开了一种挠性铜箔的制备方法，具体包括以下步骤：S1、往含有硫酸溶液的溶铜罐中加入原材料单质铜线、铜板，单质铜的含铜量≥99.9％。往溶铜罐中通入高温空气，使空气中的氧气、硫酸和铜线反应制备硫酸铜电解液；S2、往硫酸铜电解液中加入...

本发明公开了一种轻型双面粗糙化特种铜箔的制备方法，本发明涉及铜箔制备技术领域。该轻型双面粗糙化特种铜箔的制备方法，采用相同厚度的高分子聚合物薄膜代替原有电解铜箔，可降低单位面积的重量，提升电池的能量密度。经过双面粗糙化处理的铜箔，其粗粗...

本发明公开了一种埋阻铜箔的制备及其电阻测试方法，属于印制线路板技术领域。以解决真空溅射法与化学诱导沉积法生产投入大，电镀法工艺控制难度大的问题。埋阻铜箔的制备方法包括对基底铜箔进行去氧化预处理、电镀电阻层、水洗并烘干；以上埋阻铜箔的电阻...

本发明公开了一种具备双面疏松结构的电解铜箔及其制法、用途，属于电解铜箔技术领域，以解决现有技术中缺乏电解铜箔可同时应用于锂离子电池负极和印制线路板中的问题。该电解铜箔包括以下结构：致密铜层、生长在致密铜层双向表面上的疏松结构铜层、包覆于...

本技术涉及铜箔生产设备技术领域，具体公开了一种电解铜箔幅宽可控的阴极屏蔽装置，包括支撑架，支撑架外侧固定安装有显示屏，支撑架顶部设置有方轨，方轨外部镶嵌设置有滑套一、滑套二，滑套一顶部表面通过螺栓固定安装有激光测距仪，滑套二顶部设置有与...

本发明公开了一种等离子处理铜箔表面方法，通过将铜箔放置在等离子清洁装置上，所述等离子清洁装置主要由工作台、移动支架、等离子发生器和射频电源组成，所述等离子发生器通过高度调节机构安装在移动支架上，所述移动支架在工作台上水平移动，所述等离子...

本技术公开了一种真空镀膜膜层表面冷却装置，包括放卷仓、预处理仓、真空溅射仓和收卷仓，所述放卷仓的内部一侧转动连接有放卷辊，所述放卷仓的一侧设置有预处理仓；所述预处理仓的一侧设置有真空溅射仓，所述真空溅射仓的一侧设置有收卷仓。通过上述结构...

本发明公开了一种用于盐湖提锂的纳滤膜及制备方法，包括如下步骤：步骤1、聚合物基膜制备；步骤2、配置水相溶液；步骤3、配置有机相溶液；步骤4、界面聚合反应。通过本申请方法制备的纳滤膜包括无纺布基层、亲水性多孔支撑层和聚酰胺分离层。聚酰胺层...

本发明公开了一种薄铜箔表面金属含量测定方法，包括如下步骤：S1、将铜箔非待测面涂覆硅烷偶联剂，烘干；S2、将步骤S1测定的待测铜箔使用硫酸溶液浸泡溶解定容后使用ICP检测样品中锌、铬、镍、等离子的含量；S3、将步骤S1中未涂覆硅烷偶联剂...

本技术涉及一种恒温自净的复合添加剂配制添加系统，包括补水桶，补水桶的出口端一通过管路一与若干个搅拌桶的入口端连接，每个搅拌桶的出口端通过管路三与混合配制桶的入口端一连接，补水桶的出口端二通过管路二与混合配制桶的入口端二连接，混合配制桶的...

本技术涉及一种电解铜箔表面处理机反面屏蔽装置，包括两个对称的槽体侧板上分别设有若干个侧面屏蔽装置，两个所述槽体侧板之间在液下辊下方的位置设有底部屏蔽板，所述底部屏蔽板设有若干个电解液上液孔。所述侧面屏蔽板和所述底部屏蔽板均采用绝缘材料。...

本技术公开了一种均流电镀装置，包括储液槽和电解槽，所述储液槽通过底端的进液管道与所述电解槽导流连接，所述电解槽通过两端的溢流孔和回流管道与所述储液槽回流连接，所述进液管道上设有流量泵，所述储液槽设有恒温加热装置，所述电解槽设有阳极板和阴...

本发明公开了一种COD试剂的制备方法，该方法包括：制备3‑5μm表面氨基改性的有机硅聚合物微球；采用浸渍法，在搅拌条件下，将称取一定量硫酸银溶液用蠕动泵慢慢滴加到表面含有氨基的有机硅聚合物微球去离子水溶液中，浸渍均匀，得到表面固定Ag&...

本技术涉及一种改善铜箔侧边干燥度的装置，包括两端封闭的风管，风管一侧设有若干个可调节方向的竹节管，风管另一侧设有用于接入压缩空气的软管连接头，风管、竹节管和软管连接头相连通；风管两端分别与滑动连接板一和滑动连接板二可拆卸连接，滑动连接板...

本发明涉及一种具备较高剥离效率的载体铜箔的制备方法，包括如下步骤：

本发明公开了一种基于多孔铜箔生产的自动化涂胶装置及使用方法，包括：安装机架，安装机架包括左安装架和右安装架；涂胶机构，涂胶机构固定连接于左安装架的一个侧板上，涂胶机构包括涂胶支架，涂胶支架的左端安装有一个凹字形的出胶腔体，出胶腔体的出胶...

本发明公开了一种消除复合铜箔透光点的方法，包括以下步骤：

本实用新型涉及铜箔测试设备技术领域，具体公开了一种铜箔抗氧化性的测试装置，包括烘箱壳体

本实用新型涉及电解槽绝缘屏蔽技术领域，具体公开了一种电解槽阳极屏蔽装置，包括弧形阳极板

本实用新型涉及余热利用技术领域，具体公开了一种电解液热交换器高温冷却水循环使用系统，包括低位罐