本实用新型公开了一种蚀刻机台气体输送互锁装置，包括：第一气体输送管道，所述第一气体输送管道依次由第一气体输入管、第一气体先级阀、第一气体流量控制器(MFC)、第一气体安全阀和第一气体后级阀串联构成；第二气体输送管道，所述第二气体输送管道...

本实用新型涉及一种监别孔隙装置，其特征在于，包括：多个监别孔隙单元，其中每个监别孔隙单元包括石墨板，在所述石墨板上设置有供离子束穿过的孔隙，其中所述多个监别孔隙单元彼此连接，使得所述多个监别孔隙单元保持在同一平面内；以及旋转组件，其用于...

本实用新型涉及一种离子源，包括：壳体，其具有可容纳离子源气体的第一空腔，其中所述壳体具有用于引入离子源气体的入口以及用于引出等离子体的出口；以及多孔层，其布置在壳体的第一空腔中，其中所述多孔层具有开放的孔隙，并且其中所述孔隙的直径在从所...

本实用新型提供了一种传送过渡单元，可用于光阻涂布机中。当机械手臂将晶圆送到传送过渡单元时，如果第一检测机构没有检测到晶圆，那么就有可能发生掉片或者晶圆破损。此时光阻涂布机中的信号处理器件会接收到来自第一检测机构的异常信号，并给出预警信号...

本实用新型提供一种清洁装置及干法刻蚀设备，所述清洁装置包括传送单元；以及设置于所述传送单元一端的可旋转式清洁单元；其中，所述传送单元被配置为，非工作状态时，处于折叠状态，工作状态时，处于展开状态，使得所述可旋转式清洁单元对准所述静电吸盘...

本实用新型提供了一种去胶设备，所述去胶设备包括腔体和出气管道，所述腔体的底部具有多个出气孔，所述出气管道包括多个出气支管和一个出气总管，所述出气支管的数量和所述出气孔的数量相等，各所述出气支管的第一端分别通过一所述出气孔与所述腔体连通，...

本实用新型提供的一种干法刻蚀设备及其顶盖，所述顶盖具有腔室，所述顶盖包括下顶盖和上顶盖，所述上顶盖盖合在所述下顶盖上，所述上顶盖远离所述下顶盖的一侧具有一把手，所述把手固定在所述上顶盖上。本实用新型的顶盖在保养时仅需要通过抓取把手将上顶...

本实用新型涉及一种刻蚀设备，包括石英管，所述石英管内产生等离子体；固定组件，所述固定组件的两端分别为连接端和固定端，所述连接端套设于所述石英管的一端并与所述石英管连接；限位组件，所述限位组件分别设置于靠近所述石英管的两端，一端的限位组件...

本实用新型提供了一种光阻供液系统，所述光阻供液系统包括冷藏槽、解冻槽、第一计时器、第二计时器、光阻泵、暂存槽和单向阀。所述光阻供液系统中，第一计时器计量同一生产批次的光阻在所述冷藏槽内的放置时间，第二计时器计量解冻后的光阻在所述解冻槽内...

本实用新型提供了一种反应检测装置及气体燃烧装置，所述反应检测装置用于所述气体燃烧装置，所述气体燃烧装置包括反应腔室；所述反应检测装置用于检测所述反应腔室内的反应状态信息，还包括声音采集组件和分贝分析组件，其中，所述声音采集组件设置于所述...

本实用新型提供了一种限位保护装置及刻蚀设备，所述限位保护装置包括底座和位于所述底座上的支架；所述支架包括从上到下依次排布的第一部分、第二部分及第三部分。将所述限位保护装置设置于连接所述刻蚀设备的主排管及附属排管的连接机构的底部时，可对主...

本实用新型提供了一种电镀机台腔体结构及电镀机台，所述腔体结构包括腔体本体；所述腔体本体内设有隔膜和金属阳极，所述隔膜和所述金属阳极平行设置；所述隔膜与至少一组驱动组件相连，所述驱动组件用于驱动所述隔膜沿所述腔体本体的轴向往复移动；所述隔...

本实用新型提供了一种移动平台，用于承载并转移干法刻蚀机台的上腔体，移动平台包括移动机构、支撑柱、载台和基座，支撑柱的一端与移动机构连接，另一端与载台连接，基座固定在载台的承载面上，所述基座的承载面用于在其转移过程中放置上腔体，载台沿其厚...

本实用新型提供了一种修整盘掉落侦测装置及研磨垫修整装置，修整盘掉落侦测装置包括：第一液位传感器、第一液体通道、第二液体通道以及弹性薄片；第一液体通道嵌入至固定盘中，并且其第一端口延伸至固定盘下表面，固定盘下表面用于固定修整盘；弹性薄片设...

本实用新型提供了一种化学机械研磨设备，该设备包括研磨台、研磨台支撑部件、挡板以及挡板清洗装置；研磨台设置于研磨台支撑部件上，用于研磨晶圆；挡板围绕研磨台设置并与研磨台相距一预设距离，用于隔挡从研磨台甩出的研磨液；挡板清洗装置设置于所述研...

本实用新型提供了一种晶圆夹盘的清洗装置，包括喷洗管道和喷嘴，所述喷洗管道外部设置有第一加热器，所述喷洗管道中通入含异丙醇的第一混合气体，所述第一混合气体经所述第一加热器加热后由所述喷嘴喷向晶圆夹盘。通过第一加热器加热含异丙醇的第一混合气...

本实用新型提供了一种喷液管，包括真空外管和喷液内管，所述喷液内管套接在所述真空外管的内腔中，以使设置在所述喷液内管一端的喷液口位于真空外管的内腔中；所述真空外管设有末端开口，以使所述喷液内管的内腔通过所述喷液口和所述末端开口连通外部，所...

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种图像采集装置。所述图像采集装置包括：基板；多个图像传感器，均封装于所述基板上，每一所述图像传感器具有一初始视场角，用于分别采集其所对应的所述初始视场角内的原始图像数据；相邻的两个所述图像传感...

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种机械手臂及晶圆清洗装置。所述机械手臂包括：第一手臂，具有用于承载一晶圆的第一承载部，且所述第一承载部中具有一镂空部；第二手臂，具有用于承载所述晶圆的第二承载部；驱动结构，连接所述第二手臂，用...

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶舟清洗装置。所述晶舟清洗装置包括：清洗腔，包括多个均沿竖直方向延伸的清洗槽，所述清洗槽用于容纳并清洗直立的晶舟；传送腔，沿竖直方向叠置于所述清洗腔上方，用于在外界与所述清洗腔之间传送所述晶...