德淮半导体有限公司专利技术

德淮半导体有限公司共有1239项专利

  • 本公开涉及光刻机及其操作方法。一种光刻机,包括用于放置晶圆的载台,其中,所述载台包括用于支撑所述晶圆的多个支撑件,所述多个支撑件中的每一个被构造成能够从所述载台被移除。
  • 该实用新型涉及一种脱气装置及带有脱气装置的电镀设备,其中脱气装置,包括:进液口,用于向脱气装置通入待脱气液体;脱气单元,与进液口相连通,用于脱去待脱气液体中的气体;还包括:加热器,设置于进液口与脱气单元之间,与进液口和脱气单元相连通,用...
  • 本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种晶圆电镀装置。所述晶圆电镀装置包括:电镀槽,包括沿竖直方向排列的第一腔室和第二腔室;所述第一腔室用于容纳电镀液,所述第二腔室用于容纳阳极金属;分隔部,位于所述电镀槽内,用于隔离所述第一腔室与...
  • 一种修整组件和化学机械研磨设备,所述修整组件包括:修整盘,用于修整抛光垫的抛光面,使所述抛光垫的抛光面保持粗糙度;抛光垫修整器,具有一连接面,用于吸附所述修整盘的背面;检测单元,包括:管道,部分所述管道位于所述抛光垫修整器内,贯穿所述抛...
  • 本实用新型涉及一种修整组件和化学机械研磨设备,所述修整组件包括:修整盘,用于修整抛光垫的抛光面,使所述抛光垫的抛光面保持粗糙度;固定盘,具有一连接面,用于吸附所述修整盘的背面;检测单元,包括:管道,所述管道的第一端贯穿所述固定盘,当所述...
  • 本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种研磨液供给手臂及化学机械研磨装置。所述研磨液供给手臂包括:手臂本体,能够沿竖直方向进行升降运动,用于向表面具有凹槽的研磨垫传输研磨液;清洗刷,位于所述手臂本体的侧壁表面,且所述清洗刷沿竖直向...
  • 本实用新型涉及一种化学机械研磨设备,包括:研磨台;位于研磨台表面的研磨垫,所述研磨垫具有一侦测窗口;位于所述研磨台内的冲洗管路,所述侦测窗口位于所述冲洗管路的冲洗路径上;挤压式开关,设置于所述冲洗管路的排出端,用于控制所述冲洗管路的通断...
  • 本发明公开了一种新型的叶轮排水系统,包括:过滤槽;可拆卸过滤器,所述可拆卸过滤器设置在所述过滤槽中;叶轮,所述叶轮设置在所述可拆卸过滤器中;马达,所述马达用于带动所述叶轮旋转;第一残渣收集槽,所述第一残渣收集槽设置在所述过滤槽的平行位置...
  • 本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种过滤装置。所述过滤装置包括输入管道、输出管道以及设置于所述输入管道与所述输出管道之间的过滤器,还包括检测组件;所述检测组件包括均设置于所述过滤器与所述输出管道之间的第一阀门和第二阀门;所述第...
  • 本实用新型提供了一种能够工艺腔室内壁进行清洁的半导体设备,涉及半导体设备设计制造领域。该半导体设备包括:工艺腔室;电极对,被配置为能够在工艺腔室内和工艺腔室外往复运动的机构;电源,电极对与电源电连接,当电极对移动至工艺腔室内时,通电的电...
  • 本发明涉及一种图像传感器及其制造方法。所述图像传感器包括感光元件,形成在衬底中以将光信号转换为电信号;滤色层,形成在所述感光元件之上;第一微透镜,形成在所述滤色层上,所述第一微透镜朝入射光的方向凸起以汇聚入射光;以及第二微透镜,形成在所...
  • 一种半导体结构的形成方法,包括:提供基底;在所述基底表面形成复合结构,所述复合结构包括若干层复合层,且所述若干层复合层沿基底表面法线方向重叠,每一层复合层包括第一材料层以及位于第一材料层表面的第二材料层,且第一材料层的材料和第二材料层的...
  • 本发明涉及一种晶圆缺陷检测的方法和装置。更具体地,本发明公开了一种为管芯确定管芯角的方法,包括在管芯的内部选取参考点;获取位于管芯的最外围的水平边上的第一节点以及位于管芯的最外围垂直边上的第二节点,其中参考点与第一节点的连线与管芯的最外...
  • 本申请提供一种液体管路以及检测液体管路泄露的方法,所述液体管路包括:管内壁层,所述管内壁层整体上电绝缘;导电件,设置在所述管内壁层形成的空间内;第一导电层,直接设置在所述管内壁层表面,所述第一导电层的电阻率小于管路内传输介质的电阻率;第...
  • 本发明技术方案公开了一种隔离结构及其形成方法,图像传感器及其制造方法,所述图像传感器包括:半导体衬底,所述半导体衬底内形成有分立的光电二极管和沟槽隔离结构,所述光电二极管位于所述沟槽隔离结构之间;对应于所述沟槽隔离结构的隔离结构,包括位...
  • 本申请提供一种用于PVD设备的护罩结构以及包含所述护罩的PVD设备,所述护罩结构包括:第一护罩;至少一个第二护罩;至少一个绝缘部件,所述绝缘部件设置于所述第一护罩和第二护罩之间,并使所述第一护罩与第二护罩电绝缘连接;第三供电器,所述第三...
  • 本实用新型提供一种湿法清洗装置,所述湿法清洗装置包括:进液管,所述进液管位于槽体的底部,所述进液管的表面包含若干喷液口;在所述槽体中,所述进液管至少包括对称设置的两组,且每组中至少包括两个所述进液管;在每组中,不同的所述进液管上的所述喷...
  • 一种静电放电保护结构及其形成方法、工作方法,形成方法包括:提供基底,基底包括第一区、第二区和第三区;在基底内形成第一阱区,第一阱区具有浓度为第一浓度的第一离子;在第二区表面形成第一栅极结构;在第一区内形成第一掺杂区,第一掺杂区具有导电类...
  • 本公开涉及蓝膜、蓝膜带及制作方法。根据本公开的一个方面,提供了一种蓝膜,包括:树脂层,所述树脂层具有第一侧和第二侧,并且所述树脂层具有粘性;蓝胶层,所述蓝胶层覆盖所述树脂层的第一侧,并且所述蓝胶层的一侧连接至所述树脂层的第一侧;底膜,所...
  • 本申请提供一种离子注入设备中传感器的校准机构,包括:传感器,所述传感器包括至少三个定位孔;校准架,所述校准架包括平行相对的第一校准面和第二校准面,用于承载所述传感器,所述第一校准面和第二校准面分别设置至少两个凹槽,通过所述凹槽与所述传感...