德淮半导体有限公司专利技术

德淮半导体有限公司共有1239项专利

  • 本实用新型提供了一种晶圆处理设备,包括:承载盘,用于承托边缘设置有参照物的晶圆并带动所述晶圆旋转,所述承载盘的转动行程具有额定的起始位置和终止位置;图像采集模块,朝向所述承载盘设置,至少采集所述承载盘处于所述终止位置时的第一图像;以及图...
  • 本实用新型涉及一种具有升降功能的晶片加热装置,其特征在于,包括:加热器,其被配置为晶片进行加热,其中在所述加热装置中设置有用于容纳升降销的缺口,其中在所述缺口中布置有第一封闭体和第二封闭体,所述第一和第二封闭体彼此间隔一定距离布置并且具...
  • 本实用新型提供了一种研磨垫修整器,包括修整盘、第一管道以及抽真空装置;所述修整盘具有相对的第一表面和第二表面,所述第一表面具有至少一个第一开口,所述第一开口用于固定金刚石,所述第二表面具有至少一个第二开口,所述第一开口与至少一个第二开口...
  • 该实用新型涉及一种防溅装置与晶圆处理设备,其中所述防溅装置包括:闭合挡具,包括底板和设置在底板上方的侧壁,所述侧壁与所述底板相互连接,围成一底面闭合的空间,用于放置所述晶圆放置台,防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出;清洗喷头,朝...
  • 该实用新型涉及一种过滤装置及净气器,其中所述过滤装置包括:滤网,围成过滤腔室,待过滤液体进入所述过滤腔室实现过滤;至少一个搅拌器,用于在过滤时设置至所述过滤腔室内,以搅动所述过滤腔室中的待过滤液体。本实用新型中的过滤装置及净气器设置一个...
  • 本实用新型提供了一种刻蚀设备,包括:刻蚀腔室,供晶圆容置其中;以及遮挡装置,所述遮挡装置可移动地设置于所述刻蚀腔室内,能够分别在所述晶圆之外的主刻蚀工位和在所述晶圆上方的边缘刻蚀工位停留,当所述遮挡装置停留在所述边缘刻蚀工位时,所述遮挡...
  • 本实用新型提供的一种金属有机化合物化学气相沉积机台,所述压环设置在所述底座的上表面,且位于所述基板的外侧,其中,所述压环具有冷却通道、冷却液入口和冷却液出口,所述冷却通道绕所述压环的轴线设置在所述压环内,所述冷却液入口和冷却液出口均与所...
  • 本实用新型提供了一种PVD设备,旋转动力组件、腔体、工作组件和至少两个靶材,所述腔体包括相互连通的第一腔体和第二腔体,所述第一腔体内设置所述靶材和所述旋转支撑组件,所述第二腔体内设置所述工作组件,所述靶材通过旋转支撑组件与所述旋转动力组...
  • 本实用新型提供一种晶圆冷却装置及涂胶显影设备,所述晶圆冷却装置包括:冷却盘,用于承载晶圆;均流板,设置于所述冷却盘的下方,且均流板上设置有第一路槽;工作流体,设置于所述第一路槽内。本实用新型提供的晶圆冷却装置降低了冷却管破裂的几率,减少...
  • 本实用新型提供了一种研磨液手臂以及化学机械研磨机台。所述研磨液手臂包括壳体、研磨垫清洁刷以及驱动机构,所述研磨垫清洁刷设置于所述壳体下方,所述驱动机构与所述研磨垫清洁刷连接,并用于驱动所述研磨垫清洁刷移动及旋转以使所述研磨垫清洁刷接触并...
  • 本实用新型提供了一种晶圆保持环,包括第一圆环、第二圆环以及至少两个连接装置;第一圆环具有相对的第一平面和第二平面,第一圆环中形成有沿着第一圆环的厚度方向上下连通的第一子凹陷和第二子凹陷,第一子凹陷的开口暴露于第一平面,第二子凹陷延伸至第...
  • 本实用新型提供了一种多任务清洗装置,所述多任务清洗装置包括壳体,壳体表面设置有液体输入端口、气体输入端口及至少两个输出端口;壳体内设置有气体总管道和液体总管道,液体总管道的一端连接液体输入端口,另一端与多个第一支管道的输入端连接,气体总...
  • 本实用新型提供了一种加热器以及一种炉管,所述加热器包括沿第一方向间隔排列的多根加热丝,每根加热丝连接有多个固定块并被所述固定块分隔为多个加热段,每个加热段两端的两个固定块之间的连线与第一方向垂直,所述加热器在工作时第一方向为重力方向,除...
  • 该实用新型涉及一种新型气缸,包括:缸筒;第一活塞,设置在所述缸筒内,能够相对于所述缸筒做往复运动,且所述第一活塞内部设置有凹槽,所述凹槽的长度方向与所述第一活塞的运动方向相同;第二活塞,设置于所述第一活塞的凹槽内部,能够相对于所述第一活...
  • 该实用新型涉及一种载体环以及晶圆沉积设备,其中所述载体环,用于承载晶圆,包括:环形沟槽,设置在所述载体环的上表面,将所述载体环的圆心环绕在内,且所述上表面用于与晶圆接触,承载晶圆。以上载体环以及晶圆沉积设备在所述载体环的上表面设置有环形...
  • 该实用新型涉及一种机械手臂及晶圆处理装置,其中机械手臂包括:手臂本体;供电块,安装至手臂本体,表面设置有导电柱,供电块用于为手臂本体供电,并能跟随手臂本体运动;驱动器,电连接至供电块,用于驱动手臂本体运动;安装架,用于安装手臂本体,包括...
  • 该实用新型涉及一种擦拭装置,包括:安装条,表面设置有导轨,用于将所述导轨固定到待擦拭的阀门表面;至少一个擦拭条,安装至所述导轨,并能够沿所述导轨的长度方向运动,且在所述安装条安装至所述阀门表面时,所述擦拭条与所述阀门表面相接触。以上擦拭...
  • 本实用新型提供了一种离子植入设备,包括:排气单元,用于排出未参与离子植入的离子束,所述排气单元包括:排气泵,用于为排出未参与离子植入的离子束提供动力;气体净化单元,用于对未参与离子植入的离子束进行净化;以及连接管,连接于所述排气泵和所述...
  • 本实用新型公开了一种电镀缸腔体结构,包括:腔体外壁,用于形成整个腔体的外部轮廓;一个或多个冷却面板管及框架,所述冷却面板管及框架作为腔体隔离结构将腔体隔离为多个独立的部分,所述冷却面板管及框架的表面上设置有热交换器。
  • 本实用新型涉及一种抛光垫修整器,包括:修整盘,其被配置为对抛光垫进行修整;以及挡板,其与气缸连接,使得所述挡板能够在气缸的带动下在第一位置与第二位置之间切换,其中所述挡板在处于第一位置时至少部分地封闭修整盘,并且在处于第二位置时露出修整...
1 2 3 4 5 6 7 8 尾页