德淮半导体有限公司专利技术

德淮半导体有限公司共有411项专利

  • 本公开涉及一种光刻系统,包括光源、掩膜板、透镜和衬底台。光源被配置为提供光。掩膜板具有预定图案并被配置为基于预定图案遮挡光的至少一部分。透镜被配置为用经遮挡的光投影出预定图案的像。衬底台被配置为支撑衬底并使得预定图案的像被投影到衬底上的...
  • 本公开涉及晶圆烘干机及其操作方法。在一个实施例中,本发明涉及一种晶圆烘干机,包括底盘;腔体,所述腔体包括侧壁,所述腔体设置在所述底盘上;多个导气孔,所述多个导气孔围绕所述侧壁形成在所述腔体外,所述导气孔以基本垂直于所述底盘的方向排出气体...
  • 一种图像传感器及其形成方法,所述图像传感器包括:半导体衬底,所述半导体衬底内具有光电二极管以及浮置扩散区,所述半导体衬底划分为多个像素区;有机光电结构,覆盖所述半导体衬底的一部分像素区,所述有机光电结构包括上极板、下极板以及有机光电材料...
  • 本发明技术方案公开了一种超声波扫描显微镜水处理装置、及其使用方法。其中超声波扫描显微镜水处理装置,包括:密闭腔室;入水口,与所述密闭腔室连通,用于将水引入所述密闭腔室内;抽气口,与所述密闭腔室连通,用于将所述密闭腔室抽成低于大气压;出水...
  • 本发明技术方案公开了一种图像传感器及其形成方法。所述图像传感器的形成方法包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底上形成第一绝缘层;在所述第一绝缘层上形成图案化的光刻胶层;以所述图案化的光刻胶层为掩膜,刻蚀所述第一绝缘层,形成金属栅格图形;...
  • 一种静电吸盘的盘面损伤的修复方法,所述方法包括:提供待修复静电吸盘,所述待修复静电吸盘的盘面结构为可拆卸的;采用第一离子注入工艺,向所述待修复静电吸盘的盘面结构进行离子注入;其中,所述进行离子注入的掺杂离子与所述待修复静电吸盘的盘面结构...
  • 本发明提供一种避免E‑Beam机台检测时待检测产品表面受损的方法,所述方法包括:步骤1)提供一待检测产品,所述待检测产品具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;其中,所述第一表面为入射电子束照射面;步骤2)基于所述待检测产品的预设图...
  • 本发明技术方案公开了一种背照式图像传感器及其制作方法,所述背照式图像传感器包括半导体衬底以及位于半导体衬底内的光电二极管和光电二极管隔离结构;位于半导体衬底上的外延层以及位于外延层中的浮动扩散区域和贯穿所述外延层的传输栅。所述图像传感器...
  • 本公开涉及一种用于制造半导体装置的方法。提供有用于制造半导体装置的方法,该方法包括:提供第一晶片,所述第一晶片包括衬底以及形成在所述衬底上的部件;形成牺牲层,所述牺牲层覆盖所述部件的侧壁;形成隔离层,所述隔离层覆盖所述部件的顶表面和所述...
  • 本发明技术方案公开了一种图像传感器及其形成方法。所述图像传感器包括:半导体衬底,所述半导体衬底分为若干区域,各区域的半导体衬底内分别形成有光电器件;所述半导体衬底的各区域分别具有凸出表面,所述凸出表面的宽度与所述光电器件的尺寸相适应;浅...
  • 一种注入器及其包含注入器的工艺装置,其中,注入器包括:注入腔体,所述注入腔体顶部具有第一开口,所述第一开口用于向注入腔体内输入第一气体,所述注入腔体包括垂直于注入腔体内侧壁的参考面;位于注入腔体内的导流装置,所述导流装置与注入腔体之间具...
  • 本发明涉及一种漏电测试结构和漏电测试方法,所述漏电测试结构包括:半导体衬底;相邻的第一晶体管和第二晶体管,形成于所述半导体衬底上,所述第一晶体管的第一源漏极和第二晶体管的第二源漏极相邻且通过一隔离结构隔离;测试栅结构,包括测试栅极,所述...
  • 本发明技术方案公开了一种透明石英玻璃板及其制作方法,化学气相沉积工艺,所述化学气相沉积工艺包括:在化学气相沉积工艺的反应室内放置晶圆,所述反应室上方设有双紫外光源;在所述双紫外光源和晶圆之间设置透明石英玻璃板,所述透明石英玻璃板靠近所述...
  • 本实用新型提供了一种基底传送装置,包括底座、用于承载和传送基底的基底承载传送结构、以及至少一个连接所述底座和基底承载传送结构的连接臂,所述基底传送装置还包括用于对所述整个基底进行扫描的扫描感应器,所述扫描感应器设置于所述连接臂上,当所述...
  • 本实用新型提供一种工艺腔及半导体加工设备,所述工艺腔包括腔体、干泵以及增压泵;所述干泵通过第一管道与所述腔体连接,所述第一管道上设置有第一隔离阀;所述增压泵的一端通过第二管道连接在所述第一隔离阀和所述干泵之间的第一管道上,所述增压泵的另...
  • 本实用新型提供一种超声波扫描装置,包括一工作台,工作台上设置有卡盘,卡盘的上方设置有超声波探头,超声波探头垂直向下设置,通过移动实现对卡盘上的待检测产品的超声波检测;其中,超声波探头的外侧壁设置有扫描区域检测模块,扫描区域检测模块的检测...
  • 本实用新型提供了一种研磨垫及其生成系统,有助于提升研磨效率和研磨质量,还能够简化制造工艺,降低生产成本。所述研磨垫包括基座以及含有研磨颗粒的研磨部,所述研磨部凸出于所述基座并与所述基座共同限定形成有沟槽,且所述研磨部与所述基座一体成型且...
  • 本实用新型涉及一种大气传输装置,包括:传输腔体;位于所述传输腔体壁上的舱口,用于连接传输腔体外部的晶圆装载盒,作为晶圆进出的通道;至少一条密封圈,位于所述舱口外侧边缘与晶圆装载盒的接触位置处,使得所述舱口连接至晶圆装载盒时,所述密封圈位...
  • 本实用新型涉及一种卡盘销和晶圆清洗设备,所述卡盘销包括:主体;销元件,包括销体,所述销体位于所述主体上方;传动结构,与所述销元件连接,能够带动所述销元件相对于所述主体进行自转。所述卡盘销有利于提高晶圆清洗设备对晶圆的清洗效果。
  • 本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种晶圆清洗装置。所述晶圆清洗装置,包括用于容纳晶圆的腔体,还包括喷头和控制器;所述控制器,连接所述喷头,用于判断所述腔体是否发生报警,若是,则控制所述喷头向容纳于所述腔体中的晶圆喷射去离子水,...
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