德淮半导体有限公司专利技术

德淮半导体有限公司共有356项专利

  • 一种图像传感器及其形成方法,其中形成方法包括:提供基底,所述基底包括第一区和第二区,所述第一区基底内具有光电掺杂区,所述基底包括相对的第一面和第二面;在所述第二区基底内形成第一开口,所述第一面暴露出第一开口;在所述第一开口内形成连接层,...
  • 本发明提供一种减少背照式图像传感器暗电流的方法,包括如下步骤:1)提供一器件晶圆;2)提供一支撑晶圆;3)将所述器件晶圆正面朝下键合于所述支撑晶圆的表面;4)自所述器件晶圆的背面对所述器件晶圆进行减薄;5)对减薄后的所述器件晶圆进行刻蚀...
  • 本发明提供一种减小图像传感器暗电流的结构及其制备方法,包括:CIS芯片;透光材料层,所述透光材料层覆盖于所述CIS芯片的正面;保护材料层,所述保护材料层覆盖于所述CIS芯片的背面;红外线隔绝材料层,所述红外线隔绝材料层覆盖于所述透光材料...
  • 本发明技术方案公开了一种金属栅格的形成方法、图像传感器及其形成方法,其中金属栅格的形成方法,包括:提供半导体衬底,在所述半导体衬底内形成分立的光电二极管及深沟槽隔离结构,所述深沟槽隔离结构位于所述光电二极管之间;在所述半导体衬底上形成无...
  • 本实用新型提供一种晶圆升降装置,包括:若干个升降杆,设置于所述晶圆的反应腔室内,用于承载及升降所述晶圆;若干个重量感应器,与各所述升降杆相对应设置,分别用于检测位于所述升降杆上的所述晶圆对各所述升降杆所产生的重量。本实用新型通过晶圆升降...
  • 本实用新型提供一种设备碰撞报警装置,包括:具有光源发射器的顶板、具有用以接收由所述光源发射器发射的光源的光源接收器的底板,所述底板的上表面自所述底板边缘向所述底板的中心倾斜、自由放置于所述底板上表面的金属球、位于所述底板边缘的第一电极、...
  • 本公开涉及一种图像传感器,包括钉扎光电二极管,所述钉扎光电二极管包括形成在第二导电类型的半导体材料层中的第一导电类型的第一区域和第二导电类型的第二区域,其中,所述第一区域和所述第二区域的接触表面为凹凸不平的表面。本公开还涉及一种形成图像...
  • 本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种气锁及晶圆传送装置。所述气锁,包括多个用于承载晶圆的支撑柱,还包括控制器、以及设置于每一支撑柱表面的第一传感器;所述第一传感器,连接所述控制器,用于检测与其对应的支撑柱是否承载晶圆并将检测结...
  • 本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种排气装置。所述排气装置,包括由内层、外层和中间夹层构成的双层罩体以及抽气组件,所述罩体用于容纳反应腔室;所述内层上设置有多个排气孔,所述外层上安装有至少一排气口;所述抽气组件,连接所述排气口...
  • 本实用新型提供的水管接头漏水检测保护装置,包括位于内层的传感器和位于外层的绝缘密封层;所述传感器,用于安装于所述水管接头外表面,以检测所述水管接头是否漏水;所述绝缘密封层,用于包覆于所述水管接头外表面,使得所述传感器夹设于所述水管接头与...
  • 本实用新型提供一种磁流体密封装置及半导体设备,所述磁流体密封装置包括:两个平行间隔排布的环形磁极,所述环形磁极内形成有第一通孔,两所述环形磁极的第一通孔对应设置;环形永磁体,位于两所述环形磁极之间;磁流体,位于各所述环形磁极内侧。本实用...
  • 本实用新型提供一种湿法磷酸槽清洗装置,包括湿法磷酸槽、管路、清洗进液设备及清洗排液设备;通过清洗进液设备向管路中通入氟化氢清洗溶液,实现对湿法磷酸槽的槽体、管路及连接于管路上的过滤芯的清洗,不需要拆卸管路就可以达到清洗净化管路、磷酸槽的...
  • 本实用新型涉及工业废气净化技术领域,尤其涉及一种洗涤塔。所述洗涤塔,包括塔体,还包括多个水箱和至少一分路阀,所述分路阀包括一个第一通道和多个第二通道,所述第一通道与所述塔体连接,多个第二通道与多个水箱一一连接;所述分路阀用于切换与所述塔...
  • 本公开涉及一种制造背照式图像传感器的方法。所述方法包括:在半导体基底上形成二氧化硅层;在所述半导体基底以及二氧化硅层中形成通孔;在所述通孔的侧壁上形成第一电介质层;在所述二氧化硅层中形成沟槽;以及沉积第一金属材料,从而填充所述沟槽以及所...
  • 本公开涉及一种背照式图像传感器及其制造方法。该背照式图像传感器包括:衬底,所述衬底包括其中形成有光电二极管的第一部分以及其中形成有相邻的光电二极管之间的隔离区域的第二部分;形成在所述衬底的第二部分中并且邻近所述衬底的背表面的沟槽;以及形...
  • 本公开涉及一种形成穿通硅通孔结构的方法,包括:从第一管芯的上表面进行第一刻蚀处理以形成第一凹槽,所述第一凹槽穿过所述第一管芯中的半导体衬底,其中,所述第一管芯的下表面与第二管芯连接在一起;从所述第一凹槽的底部进行第二刻蚀处理以形成与所述...
  • 一种晶圆清洗设备及其清洗方法,所述晶圆清洗设备包括:密封的清洗腔体;用于放置晶圆的晶圆基座,位于所述清洗腔体内;第一进气管路,与所述清洗腔体连通,所述第一进气管路在开启时向所述清洗腔体输入气态CO2;第二进气管路,与所述清洗腔体连通,所...
  • 一种热处理设备及其热处理方法,所述热处理设备包括热处理腔体、热处理灯、用于放置晶圆的晶圆基座,还包括:遮光板,设置于所述热处理腔体内;遮光板控制部件,与所述遮光板耦接,所述遮光板控制部件带动所述遮光板移动至预设隔离位置,以阻隔所述热处理...
  • 一种半导体器件的形成方法,所述方法包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底的表面形成HfO2薄膜与第一压应力薄膜的堆叠层;采用第一退火工艺对所述半导体衬底以及所述堆叠层进行退火。本发明方案可以有助于降低HfO2薄膜在承受高应力时发生剥落现...
  • 本公开涉及一种半导体装置及其使用方法和制造方法。该半导体装置包括:衬底;至少一个光电转换单元,形成在衬底中,该光电转换单元能够吸收可见光从而生成电子并且能够保持电子;红外感测层,形成在衬底之上,该红外感测层位于至少一个光电转换单元之上,...
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