本发明提供了一种装夹装置，包括第一夹紧部、第二夹紧部和固定限位环，第一夹紧部和第二夹紧部分别对应在晶体的上表面和下表面上夹紧晶体，固定限位环的一端面上设置有粘结剂，用于粘结固定晶体并通过其外轮廓在晶体的上表面上或下表面上限制出预设区域，...

本发明提供了一种用于碳化硅晶体生长的籽晶处理方法及碳化硅晶体生长方法，籽晶处理方法包括以下步骤：向放置有所述籽晶的坩埚中通入包含氢气的气体；加热使坩埚内温度达到预设温度，并使氢气与所述籽晶反应预设时间，以使所述籽晶被刻蚀一定厚度。本发明...

本发明提供了一种晶体生长坩埚，在其顶壁上设置有用于固定籽晶的安装位，在所述安装位上还设置有传热层，所述传热层的所在平面上的导热系数大于厚度方向上的导热系数。本发明提供的晶体生长坩埚及晶体生长炉，可以很有效地降低晶体热场的径向温度梯度，从...

一种二次电池，包括顶盖(1)、下壳(2)、电芯(3)，其中顶盖包括正极电极(4)、负极电极(5)、正极极板(6)、负极极板(7)、盖板(10)，其特征在于正极电极(4)、负极电极(5)与盖板(10)铆接连接。其具有如下优点：体积小、重量...

一种二次电池顶盖的工装系统，包括铆头，其特征在于：还包括下工装，其中，所述下工装表面形成有盲孔和凹槽，盲孔包括两个深部和连接两个深部的浅部，所述深部用于铆接时插入电池的电极、上绝缘垫以及电池顶盖突出部，所述浅部用于铆接时放入电池顶盖。采...

本实用新型涉及硅片生产技术领域，尤其涉及一种料架输送机，其包括传输单元、驱动单元和小滚轮组件；传输单元的一端安装有所述小滚轮组件，所述小滚轮组件包括位于所述传送带外侧的小滚轮、与所述主动轮轴平行的小滚轮轴和小滚轮挡块，所述小滚轮安装在所...

本实用新型涉及清洗设备技术领域，尤其涉及一种自动夹取装置，包括底座、动力机构、滑移板、转动杆和夹取勾手，转动杆的数量为两根，两根转动杆平行设置在底座上，转动杆的下方设置夹取勾手，且两根转动杆上的夹取勾手相对设置，滑移板设于两根转动杆之间...

本发明提供了一种反应腔室的压力控制系统及压力控制方法，该系统包括：与反应腔室相连通的第一进气管路、第一流量计和第一阀门；与反应腔室相连通的第一排气管路，压力控制阀，尾气排放管路和第一大气连通管路，第二阀门；与微环境腔室相连通的第二进气管...

本发明提供了一种炉体装卸机构，包括：主体，前传送支架调整结构，前传送支架，中间传送架，后传送支架，炉体固定支架，安装炉体时，将炉体装到后传送支架上，推动炉体至中间传送架，炉体固定支架固定炉体，推动主体至目标设备，前传送支架插入目标位置，...

本实用新型涉及一种可充电电池顶盖结构，包括电池顶盖、下绝缘垫、上绝缘垫、负极铆钉、负极极板、正极铆钉、正极极板，其特征在于：下绝缘垫、上绝缘垫设置在电池顶盖与极板、铆钉之间，保证负极铆钉、负极极板、正极铆钉、正极极板与电池顶盖之间绝缘，...

本实用新型涉及一种铆接型电池顶盖密封结构，包括电池顶盖、电极、密封垫和极板，其特征在于：所述电极为铆钉结构，所述电极穿入顶盖、绝缘垫、极板的孔中，并用铆接方法固定。其中铆接电极在膨胀最大位置实现线密封，达到密封效果最佳，最终满足密封条件...

本发明公开了一种采用二相流雾化清洗晶圆表面污染物的方法，通过对清洗工艺的步骤过程和各个步骤所采用的工艺参数进行优化，合理选定二相流雾化清洗晶圆表面颗粒污染物的工艺条件，明确清洗工艺窗口，实现对晶圆表面的有效清洗，在保证颗粒污染物高效去除...

本发明公开了一种流量测量装置，包括产品单元和标定单元。所述产品单元包括流量传感器、传感器驱动电路、传感器信号放大电路以及流量信号加速电路。其中所述流量信号加速电路与所述传感器信号放大电路相连，包括：一阶低通滤波电路，用于滤除所述流量信号...

本发明公开了一种石英管清洗机的分类回收管线系统及分类回收方法，通过在超纯水工艺槽外设置超纯水工艺外槽及在第一、第二化学工艺槽外设置化学工艺外槽，可分别通过排液管对超纯水工艺外槽及化学工艺外槽内的溢流或外漏废液进行分类回收；并针对超纯水工...

本发明公开了一种流量传感器，包括：惠斯通电桥，其包括第一热敏电阻、第二热敏电阻、第一固定电阻和第二固定电阻；第一数字电位器，串联在所述第一固定电阻和第二固定电阻之间；第二数字电位器，与所述第一热敏电阻并联；以及第三数字电位器，与所述第二...

本发明公开了一种具有自动诊断功能的气体质量流量控制系统，包括：气体质量流量控制器，其通过第一通信模块输出相关信息；具有网络通信功能的设备，对接收的相关信息进行存储、数据分析，给出处理方式建议，并将相关信息及客户的最终解决方案进行上传；数...

本发明公开了一种流体输送测量装置，包括：导热架，安装在底座表面，其设有一对竖直支架，支架具有侧向开口的卡槽；U形传感管，其水平中部的两端分嵌于两个支架的卡槽内并固定，其弯曲部的两端分别由底座表面向下密封穿过底座，传感管的水平中部绕有传感...

本发明公开了一种应用于单片清洗工艺的水痕及颗粒消除方法，通过将传统去离子水冲洗步骤改变为流量和转速不同的两个分步骤，先以较快的转速和较小的流量清洗以快速去除残留在硅片表面的反应产物及DHF，接着再继续以较小的转速和较大的流量清洗以在硅片...

本发明公开了一种硅片清洗的调度方法，用于调度两个承载硅片的硅片载片盒在硅片清洗设备中同时进行硅片清洗工艺，包括当在非化学药液槽中的硅片载片盒完成工艺时，判断其下一工艺单元以及机械手是否均为空闲；若是，则判断如果机械手将该硅片载片盒取出并...

本发明公开了阀门控制技术领域中的一种CDS循环系统气动阀检测方法。本发明通过PLC实时检测第一压力传感器、第二压力传感器和泵的数值；当第一压力传感器的数值变化超出第一设定范围、第二压力传感器的数值变化超出第二设定范围或泵的转速超出第三设...