本公开涉及能够收集由线性轨和可移动块之间的摩擦产生的微粒的线性运动设备以及清洁所述线性运动设备的方法。所述线性运动设备包含：线性轨，其沿第一方向延伸；可移动块，其至少一部分与所述线性轨接触以沿着所述线性轨移动；以及集尘单元，其连接到所述...

本发明涉及一种用于形成薄膜的设备和方法，设备包括：腔室，被配置成在其中界定衬底处理空间；衬底支撑部件，连接到腔室以便支撑腔室内部的衬底；热源部件，连接到腔室以面向衬底支撑部件；以及等离子体产生部件，在至少两个点处连接到腔室以便在衬底支撑...

本发明提供一种沉积设备和一种用于清洗沉积设备的方法，沉积设备能够清洗沉积在线性沉积源上的沉积副产物。沉积设备包含：衬底支撑件，衬底支撑于其上；线性沉积源，分别将源气体和反应气体喷射到衬底上；源气体供应单元，配置成将源气体供应到线性源气体...

本发明提供一种通过包含线性地移动的可移动喷嘴的多个喷嘴来减少轻触时间且校正施加位置的分配头单元、分配器以及用于分配的方法。分配头单元包含：头部主体；头部移动部分，配置成移动头部主体；多个喷嘴，设置成与头部主体的一个侧表面间隔开且配置成将...

提供一种分配方法及一种分配器，所述分配方法及分配器能够通过以下工艺以均匀的厚度及宽度进行施加：在所述工艺中，喷嘴在沿着其中已使用由间隙传感器获取的衬底的平整度信息来对每一位置的高度进行校正的喷嘴行进路径移动的同时喷射分配器液体。所述分配...

本发明涉及一种衬底处理设备，所述衬底处理设备包括：腔室，被配置成在所述腔室中容置衬底；光源，被配置成向衬底照射光；截止器，设置在所照射的光的路径中，以阻挡所照射的光的至少一部分；捕集器，被配置成使从衬底反射的光或从截止器反射的光进入捕集...

本发明提供一种用于处理衬底的设备。用于处理衬底的设备包含：腔室；装载平台，安置在腔室内部以在所述装载平台上侧处限定装载和卸载衬底的装载空间；处理平台，安置在腔室内部以限定处理所述处理平台上的衬底的处理空间；传送部分，安装成将衬底从装载空...

本公开涉及一种紫外固化装置、衬底处理设备及衬底处理方法。衬底处理方法包括：制备涂布有光固化材料的衬底；将衬底安置在衬底支撑件上；在衬底上方使用衬底的局部区域形成用于衬底的处理空间；在处理空间中形成惰性气体气氛；以及在其中形成有惰性气体气...

本公开提供改善衬底的沉积均匀性的一种溅镀设备及一种溅镀方法。溅镀设备包括：腔室；靶，设置在腔室中；电源供应单元，用于对靶进行溅镀；衬底支撑单元，被设置成面对靶且支撑衬底；电磁体阵列，其中内部电磁体与外部电磁体对布置在腔室的侧壁的圆周处；...

本公开涉及一种改善待沉积物体上的沉积均匀性的溅射设备及溅射方法。所述溅射设备可包括：外旋转轴，具有管状形状；内旋转轴，设置在外旋转轴的中空部分中，以独立于外旋转轴旋转；第一臂，连接到外旋转轴及内旋转轴中的一个旋转轴，且通过所述一个旋转轴...

本公开涉及一种能够监测等离子体的等离子体处理设备及使用所述等离子体处理设备的等离子体监测方法。所述等离子体处理设备包括：第一电极，待处理物体支撑在第一电极上；第二电极，被设置成面向第一电极；供电单元，被配置成将功率供应到第一电极；测量单...

本公开涉及一种缩短移除杂质的时间且提高移除杂质的效率的衬底杂质移除方法及衬底处理设备。衬底杂质移除方法包括：使设置在第一腔室部件中的衬底的温度升高到杂质移除温度的温度升高过程；将衬底从第一腔室部件转移到第二腔室部件的转移过程；以及将转移...

本发明涉及一种用于处理衬底的设备和用于测量衬底的温度的方法。用于处理衬底的设备包含温度测量部件和光透射屏蔽板。温度测量部件包含：光源；光接收部件，配置成接收从光源照射的光当中的由衬底或屏蔽板反射的反射光和从衬底发射的辐射光，以测量反射光...

本发明涉及一种薄膜制造设备，包含：腔室，具有衬底的内部处理空间；衬底支撑件单元，连接到腔室以支撑腔室中的衬底；热源单元，连接到腔室且与衬底支撑件单元相对安置；等离子产生单元，连接到腔室的一侧以在衬底支撑件单元与热源单元之间供应自由基；以...

本发明提供一种易于组装和拆卸的用于激光加工的处理台以及一种具有其的用于激光加工的设备。用于激光加工的处理台包含：底板，包含具有连接到真空管线的真空孔的真空部和配置成通过连接到排气管线的排气孔排出过程副产物的排气部；连接板，包含与真空孔连...

本公开涉及层压多个超薄玻璃的一种用于处理超薄玻璃的设备和用于处理超薄玻璃的方法。用于处理超薄玻璃的设备包含：载物台，用于支撑超薄玻璃；粘合剂提供部件，用于将粘合剂提供到由载物台支撑的超薄玻璃上；以及非接触式按压部件，包含多孔板，多孔板具...

本发明提供一种用于分离单元划分衬底的假件的装置以及包含其的用于划分单元的装置。用于分离单元划分衬底的假件的装置包含：假件夹持部，在其中心处具有通孔且配置成夹持衬底的假件的至少一部分，衬底划分为单元和假件且支撑在衬底支撑部件上，以使假件与...

本发明涉及一种基板支撑设备和基板支撑方法。在基板支撑设备上安放由传送单元传送的基板，基板支撑设备包含：底板；第一底座部件，包含在底板上彼此间隔开的多个第一底座构件；第二底座部件，安置在第一底座构件之间且竖直地移动；以及固定部件，用于固定...

提供一种附接基板的设备以及附接基板的方法。设备包含：上部台，具有接触支撑上部基板的上部支撑表面；下部台，具有下部支撑表面，下部支撑表面配置于面向上部支撑表面的位置处以接触并支撑下部基板；以及下部驱动单元，包含多个下部支撑部件及多个下部驱...

本公开涉及一种卡盘工作台、包含卡盘工作台的激光处理装置以及用于制造卡盘工作台的支撑板的方法，且卡盘工作台包含支撑板和真空泵，支撑板具有深度小于宽度的气流槽，以通过真空压力吸附待处理的物件。由于气流槽的深度低，当抽吸经处理物件(或衬底)的...